內(nèi)光成像開(kāi)路案例分析

目錄一、分析背景二、缺陷分析三、原因分析四、分析結(jié)果五、改善措施一、分析背景1.1光成像：光成像是對(duì)貼在印制板上的光致抗蝕劑進(jìn)行曝光，將菲林/文件上的圖形轉(zhuǎn)移到貼了感光膜的板面上，然后經(jīng)過(guò)顯影形成圖像的一種方法。而開(kāi)路是其最為常見(jiàn)的一種缺陷。前處理顯影曝光貼膜退膜蝕刻正片負(fù)片1.2光成像9月缺陷柏拉圖1.3

6-9月光成像分月缺陷情況二、缺陷分析2.1案例選擇2.2缺陷展示2.3缺陷比對(duì)選板缺陷

該型號(hào)共有4塊報(bào)廢板，開(kāi)路類型各異，所選板為非圓滑開(kāi)口。同型號(hào)對(duì)比不同型號(hào)對(duì)比2.4對(duì)比結(jié)果開(kāi)路缺陷大致可分為兩種類型：開(kāi)路邊緣圓滑型和棱角鮮明型；而圓滑型主要是由于膜下雜質(zhì)導(dǎo)致側(cè)蝕過(guò)度形成的，棱角鮮明型主要是由于膜上雜質(zhì)導(dǎo)致曝光不良形成的。從同型號(hào)的對(duì)比可看出開(kāi)路形狀各異，有圓滑型也有棱角鮮明型，缺陷位置也各不相同，說(shuō)明該型號(hào)的開(kāi)路報(bào)廢是偶然因素造成的；而我們所選板開(kāi)路缺陷為棱角鮮明型，開(kāi)路邊緣呈凹狀，大小尺寸為100um級(jí)，這說(shuō)明極有可能是由于膜上雜質(zhì)引起的。從不同型號(hào)的比對(duì)可看出，開(kāi)路原因更加多樣化，有劃傷、掉膜、過(guò)蝕等多種因素引起，說(shuō)明在生產(chǎn)該報(bào)廢板時(shí)產(chǎn)生問(wèn)題較多。三、原因分析3.1魚(yú)骨圖機(jī)人法環(huán)局部曝光能量不足前處理不良?jí)恨A凹坑DES藥水異常貼膜壓力過(guò)低貼膜溫度過(guò)低潔凈度不夠膜下雜物貼膜后干膜擦花轉(zhuǎn)序劃傷菲林上雜物水洗壓力過(guò)大蝕刻溫度過(guò)高內(nèi)層開(kāi)路物貼膜速度過(guò)快3.2原因排除物的因素：

藥水異常會(huì)導(dǎo)致過(guò)度顯影或過(guò)度蝕刻，均有可能形成開(kāi)路。經(jīng)過(guò)我們查詢藥水濃度并與標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行比對(duì)，發(fā)現(xiàn)各顯影、蝕刻線藥水均正常，故可排除該因素。機(jī)的因素：壓轆凹坑也會(huì)在后續(xù)過(guò)程中由于貼膜不緊，干膜脫落從而銅被蝕刻成開(kāi)路，但經(jīng)過(guò)查看該型號(hào)所有缺陷板的開(kāi)路形狀，發(fā)現(xiàn)都不相同，故也可排除該因素。前處理不良會(huì)導(dǎo)致干膜貼附不緊，在后續(xù)過(guò)程中也有可能發(fā)生干膜脫落導(dǎo)致銅被蝕刻形成開(kāi)路，但我們查看前處理各工藝控制項(xiàng)發(fā)現(xiàn)均正常，故可排除該因素。生產(chǎn)當(dāng)天記錄：正常環(huán)的因素：

潔凈度不夠可能會(huì)有雜質(zhì)附于膜下或膜上（貼膜或曝光時(shí)等），形成針孔等缺陷。經(jīng)過(guò)查詢最近兩周的潔凈度報(bào)告，發(fā)現(xiàn)均有多項(xiàng)不合格，其中14號(hào)的自動(dòng)貼膜機(jī)處和干膜顯影機(jī)放板口都嚴(yán)重超標(biāo)，但所測(cè)雜質(zhì)顆粒最大尺寸僅為5um，與缺陷處尺寸（100um左右）相差較大，故該因素也可排除。環(huán)的因素：膜下雜質(zhì)會(huì)在蝕刻時(shí)脫落形成空洞，導(dǎo)致側(cè)蝕過(guò)度造成開(kāi)路缺陷。

膜上雜質(zhì)（菲林上雜質(zhì)）會(huì)使線路上干膜沒(méi)被曝光而在顯影時(shí)顯影掉，在后續(xù)蝕刻時(shí)露出線路銅被蝕刻形成開(kāi)路。

求證：經(jīng)過(guò)我們幾天的跟班觀察，在貼膜機(jī)處沒(méi)有發(fā)現(xiàn)明顯的雜質(zhì)，在曝光過(guò)程中也沒(méi)有發(fā)現(xiàn)明顯的雜質(zhì)，在干膜顯影機(jī)放板口也沒(méi)有發(fā)現(xiàn)雜質(zhì)，但雜質(zhì)引起的缺陷具有極大的偶然性，以上這些均不能說(shuō)明生產(chǎn)當(dāng)天沒(méi)有大尺寸雜質(zhì)，故無(wú)法排除雜質(zhì)影響。

間接驗(yàn)證：根據(jù)前面的缺陷分析可知，該板的開(kāi)路形狀極為像顆粒狀，大小為100um左右，且開(kāi)路線路邊緣處為棱角鮮明型，這些特征和膜上雜質(zhì)所引起的開(kāi)路特征極為吻合；干膜顯影機(jī)放板口與傳遞窗距離較近，而傳遞窗外門又已損壞，這在開(kāi)啟傳遞窗時(shí)雜質(zhì)有可能飄到板上；雜質(zhì)導(dǎo)致開(kāi)路是光成像工序的較為常見(jiàn)的現(xiàn)象。綜上可得出無(wú)法排除膜上雜質(zhì)的影響因素，可能為原因之一。法的因素：貼膜：貼膜壓力過(guò)小、溫度過(guò)高或過(guò)低、速度過(guò)快等均有可能導(dǎo)致貼膜不牢，在后續(xù)過(guò)程中掉膜形成開(kāi)路缺陷；但查詢貼膜機(jī)的參數(shù)設(shè)定均符合標(biāo)準(zhǔn)，故可排除該因素。曝光：局部曝光能量過(guò)低可能導(dǎo)致曝光不良最終形成開(kāi)路；但查詢當(dāng)天的曝光能量均勻性發(fā)現(xiàn)均在正常誤差范圍內(nèi)，故可排除該因素。DES線：水洗壓力過(guò)大、蝕刻溫度過(guò)高等因素均可能導(dǎo)致開(kāi)路缺陷；但查詢當(dāng)天的工藝控制記錄發(fā)現(xiàn)均無(wú)異常，故可排除該因素。人的因素：轉(zhuǎn)序劃傷：轉(zhuǎn)序過(guò)程中可能會(huì)劃傷線路上的干膜形成開(kāi)路缺陷，不過(guò)通常劃傷處兩邊是平行的直線型，而該開(kāi)路缺陷處是凹坑狀，故可排除該因素。貼膜后擦花也可能導(dǎo)致開(kāi)路缺陷，但擦花通常長(zhǎng)度都較長(zhǎng)且擦花邊緣也是直線型，而該開(kāi)路缺陷附近線路正常且開(kāi)路兩邊也不為直線型，故可排除該因素。所選缺陷典型劃傷四、分析結(jié)論經(jīng)過(guò)前面的分析可得出以下結(jié)論：導(dǎo)致所選板開(kāi)路缺陷的原因?yàn)槟ど想s質(zhì)，具體的產(chǎn)生過(guò)程可能是曝光時(shí)菲林上有雜質(zhì)和顯影前撕膜時(shí)混入雜質(zhì)。五、改善措施針對(duì)缺陷原因，我們提出了一下改善措施：1、應(yīng)及時(shí)修好傳遞窗的門；2、可在干膜顯影機(jī)放板口兩側(cè)安裝檔塵玻璃，防止雜質(zhì)混入；3、曝光時(shí)增加轆塵次數(shù)至3次。說(shuō)明：關(guān)于傳遞窗的門已壞問(wèn)題，大家都沒(méi)有怎么重視（認(rèn)為影響不大），但我們組認(rèn)為公司作為制作樣板的生產(chǎn)商，任何一個(gè)細(xì)微的環(huán)節(jié)都應(yīng)該一絲不茍；關(guān)于安裝檔塵玻璃的成本問(wèn)題，我們組認(rèn)為