基于dmd的紅外目標(biāo)成像仿真研究

基于dmd的紅外目標(biāo)成像仿真研究

0基于動(dòng)態(tài)紅外場(chǎng)景仿真的系統(tǒng)成像測(cè)試是一個(gè)復(fù)雜的試驗(yàn)研究隨著紅外成像系統(tǒng)在夜間跟蹤、目標(biāo)研究和精確監(jiān)控等領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用，紅外成像技術(shù)得到了迅速發(fā)展。然而,如何對(duì)紅外成像系統(tǒng)的性能進(jìn)行正確地檢驗(yàn)和評(píng)價(jià),以使系統(tǒng)更好地發(fā)揮性能,逐漸成為系統(tǒng)測(cè)試的一個(gè)關(guān)鍵問題。現(xiàn)有的外場(chǎng)試驗(yàn)測(cè)試方法受時(shí)間、氣候等條件限制,常常耗時(shí)、耗力,而且效果也不太理想;而傳統(tǒng)的室內(nèi)試驗(yàn)不能達(dá)到與真實(shí)環(huán)境一樣的效果。鑒于現(xiàn)有紅外成像系統(tǒng)性能測(cè)試的缺陷,近年來,在室內(nèi)環(huán)境下利用模擬動(dòng)態(tài)紅外場(chǎng)景對(duì)系統(tǒng)進(jìn)行成像試驗(yàn)測(cè)試已慢慢成為各國(guó)研究的熱點(diǎn)。基于動(dòng)態(tài)紅外場(chǎng)景仿真的系統(tǒng)成像測(cè)試不僅能為系統(tǒng)提供與外場(chǎng)類似的測(cè)試環(huán)境,而且能有效降低系統(tǒng)的研制成本,縮短研制周期。本文將在綜合分析國(guó)內(nèi)外動(dòng)態(tài)紅外場(chǎng)景仿真技術(shù)研究現(xiàn)狀研究的基礎(chǔ)上,著重對(duì)當(dāng)前發(fā)展迅速的基于數(shù)字微鏡器件(DigitalMicro-mirrorDevice,DMD)的動(dòng)態(tài)紅外場(chǎng)景仿真技術(shù)進(jìn)行分析。1直接輻射型和輻射調(diào)制型動(dòng)態(tài)紅外場(chǎng)景仿真系統(tǒng)是在實(shí)驗(yàn)室條件下模擬生成動(dòng)態(tài)目標(biāo)和背景的紅外輻射特性,為紅外成像系統(tǒng)提供模擬目標(biāo)和背景。仿真系統(tǒng)按照成像原理可以分為直接輻射型和輻射調(diào)制型兩大類。直接輻射型是指通過控制圖像生成器的像元,利用其自身產(chǎn)生的輻射,通過調(diào)制其輻射強(qiáng)度產(chǎn)生紅外圖像,主要代表有:激光二極管陣列技術(shù)、電阻陣列技術(shù)、BlyCell技術(shù)等。紅外輻射調(diào)制型是利用計(jì)算機(jī)模擬紅外目標(biāo)與背景的信息,通過空間光調(diào)制技術(shù),對(duì)紅外光源提供的紅外輻射進(jìn)行空間強(qiáng)度調(diào)制,生成紅外圖像,主要代表有:液晶光閥技術(shù)、基于LCOS的空間光調(diào)制技術(shù)和基于DMD的紅外仿真技術(shù)等。1.1基于dmd的紅外場(chǎng)景投影自20世紀(jì)90年代以來,美國(guó)陸軍陸續(xù)建成了14套硬件閉環(huán)仿真系統(tǒng)(HWIL),這些系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)了可見光波段、中遠(yuǎn)紅外波段以及微波等波段的成像或非成像仿真。其中,較典型的有霍尼韋爾技術(shù)中心(HTC)研制的多光譜景象投影系統(tǒng)(MSSP)和亮電阻紅外發(fā)射系統(tǒng)(BRIGHT)、圣巴巴拉紅外公司和印迭哥系統(tǒng)公司聯(lián)合研制的多光譜紅外仿真生成系統(tǒng)(MIRAGE)、光科學(xué)公司(OSC)研制的激光二極管投射陣列(LDAP)和微反射鏡陣列投射系統(tǒng)(MAPS)等。從工程實(shí)踐應(yīng)用來看,基于液晶光閥技術(shù)的動(dòng)態(tài)場(chǎng)景仿真裝置幀頻受限,且適用溫度范圍和動(dòng)態(tài)范圍也不理想,基于激光二極管陣列技術(shù)的動(dòng)態(tài)場(chǎng)景仿真裝置在空間均勻性和成像質(zhì)量方面較差,且需要大的杜瓦封裝,因此,這兩者技術(shù)應(yīng)用不多。基于電阻陣列的紅外場(chǎng)景仿真技術(shù)具有較寬的溫度范圍,但其紅外特性主要集中在高溫段,像元分辨率較低,目前國(guó)外雖已研制出2048×1024像元,但實(shí)際工程應(yīng)用的僅有512×512元,國(guó)內(nèi)只能達(dá)到128×128像元,此項(xiàng)技術(shù)僅限于模擬高溫物體。美國(guó)光科學(xué)公司(OSC)從1996年著手研究基于DMD的紅外場(chǎng)景投射技術(shù),稱為微鏡陣列投影系統(tǒng)(MAPS),該技術(shù)具有高分辨率、高幀頻、無死像元和均勻性好等特點(diǎn)。目前,OSC已開發(fā)出幾種MAPS樣機(jī),如單片、雙片DMD投影系統(tǒng)。其工作模式主要有兩種:二進(jìn)制模式和脈沖寬度調(diào)制(PWM)模式。工作在二進(jìn)制模式下時(shí),DMD每幀圖像的像素單元僅用一位二進(jìn)制(0或1)來控制,所以MAPS可以產(chǎn)生高幀頻的投影圖像,并且對(duì)測(cè)試系統(tǒng)(UUT)的最小積分時(shí)間也沒有要求;在一幀時(shí)間內(nèi),MAPS占用97%的時(shí)間來投射顯示圖像,用3%的時(shí)間讓微鏡恢復(fù)到平態(tài)以防止鉸鏈的機(jī)械記憶實(shí)效。工作在脈沖寬度調(diào)制(PWM)模式下時(shí),MAPS可以通過改變PWM頻率來滿足探測(cè)器積分時(shí)間的要求,積分時(shí)間越長(zhǎng),可以得到更高灰度等級(jí)的紅外圖像。OSC公司已于2001年制成第一臺(tái)基于DMD的中波紅外場(chǎng)景仿真系統(tǒng),采用SVGA格式DMD芯片,分辨率為800×600,2003年,采用XGA格式DMD芯片,微鏡數(shù)目增加了33.3%,將分辨率提高到1024×768,采用雙通道信號(hào)輸入,有效提高了幀頻,二進(jìn)制模式幀頻由SVGA格式的4065Hz提高到10kHz,PWM模式幀頻由100Hz提高到230Hz,隨著第三代DMD芯片的推出,OSC公司又提出要將分辨率提高的1280×1024。這些系統(tǒng)的信號(hào)輸入均采用DVI(DigitalVisualInterface)接口標(biāo)準(zhǔn),支持24bit視頻信號(hào)輸入,對(duì)于XGA格式信號(hào)最大幀頻可達(dá)398Hz。美國(guó)OPTRA公司于2010年制成了基于DMD芯片的雙波段紅外場(chǎng)景仿真器,輻射波段范圍為3.4~4.2uf06dm和4.2~5.0uf06dm,最大表觀溫度為510℃,脈沖寬度調(diào)制采用10bit,最大刷新頻率為40Hz,角分辨率為225uf06drad,對(duì)比度為250:1,系統(tǒng)同樣使用DVI標(biāo)準(zhǔn)接口傳輸信號(hào)。相比于其它紅外目標(biāo)仿真技術(shù),基于DMD的紅外場(chǎng)景仿真有如下優(yōu)勢(shì):1)高圖像分辨率;2)高光學(xué)效率;3)高亮度;4)全數(shù)字化控制;5)圖像幾何畸變小;6)高穩(wěn)定性和長(zhǎng)使用壽命等。在實(shí)際的應(yīng)用中DMD已經(jīng)成為動(dòng)態(tài)紅外目標(biāo)生成的主流設(shè)備,逐漸成為紅外目標(biāo)仿真技術(shù)發(fā)展的主要方向。1.2基于dmd的動(dòng)態(tài)紅外場(chǎng)景仿真系統(tǒng)設(shè)計(jì)方案研究我國(guó)在紅外成像仿真技術(shù)方面近年來已取得長(zhǎng)足進(jìn)步,但與西方發(fā)達(dá)國(guó)家相比仍有較大差距。國(guó)內(nèi)對(duì)基于DMD紅外場(chǎng)景仿真技術(shù)的研究最早由中科院的陳二柱、梁平治等在2003年提出;2008年中科院光電技術(shù)研究所的賈辛、邢廷文等提出了基于DMD的動(dòng)態(tài)紅外場(chǎng)景投影光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)思想及光學(xué)參數(shù)的設(shè)定;2010年之后,哈爾濱工業(yè)大學(xué)的關(guān)英姿、空空導(dǎo)彈研究所的張二磊、西北工業(yè)大學(xué)的張凱、孫嗣良等人相繼提出了基于DMD的中波紅外場(chǎng)景仿真系統(tǒng)設(shè)計(jì)方案,并取得了一些實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)。目前國(guó)內(nèi)在此方面的研究仍然有很大的發(fā)展空間。上述提出的設(shè)計(jì)方案都是基于中波紅外波段的場(chǎng)景仿真,主要集中在3~5uf06dm波段,對(duì)8~13uf06dm的長(zhǎng)波紅外波段的場(chǎng)景仿真研究較少;由于采用DMD芯片,其微反射鏡片存在衍射效應(yīng),所以系統(tǒng)的對(duì)比度普遍不高,如何提高仿真系統(tǒng)的對(duì)比度將是下一步的研究重點(diǎn);目前的投影系統(tǒng)都局限于靜態(tài)場(chǎng)景仿真,隨著計(jì)算機(jī)圖形學(xué)特別是虛擬現(xiàn)實(shí)技術(shù)的飛速發(fā)展,實(shí)時(shí)生成具有真實(shí)感的動(dòng)態(tài)場(chǎng)景將成為可能。2基于mad的動(dòng)態(tài)紅景色成像技術(shù)原理2.1單個(gè)微反射鏡成像DMD器件是由美國(guó)德州儀器(TI)公司研制,用于DLP顯示系統(tǒng)中實(shí)現(xiàn)空間光調(diào)制的核心器件,它是采用微機(jī)械加工手段,在半導(dǎo)體硅片上采用鋁濺射工藝形成一組二維微鏡陣列,一個(gè)微反射鏡片相當(dāng)于圖像數(shù)據(jù)中的一個(gè)像素點(diǎn),通過快速、獨(dú)立控制每個(gè)微反射鏡的偏轉(zhuǎn)角度,控制對(duì)光源光線的反射,實(shí)現(xiàn)圖像信息的動(dòng)態(tài)顯示。圖1是電子顯微鏡拍下的DMD芯片微鏡陣列顯微照片,如圖所示各個(gè)微反射鏡片根據(jù)不同的偏轉(zhuǎn)角,呈現(xiàn)不同的狀態(tài)。目前報(bào)道的最新一代的DMD芯片的最高分辨率可達(dá)2048×1024,中心間距最小可以達(dá)到10.8uf06dm,角度旋轉(zhuǎn)達(dá)到±12uf0b0。中心間距越小,DMD芯片的占空比就越高,光學(xué)利用率越高。圖2是單個(gè)微反射鏡的結(jié)構(gòu)示意圖,如圖所示,DMD微反射鏡主要包括信號(hào)存儲(chǔ)單元、電極和轉(zhuǎn)動(dòng)鉸鏈、反射鏡三部分,構(gòu)成微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)。DMD是一種快速、反射式的數(shù)字光調(diào)制開關(guān),通過控制微反射鏡轉(zhuǎn)動(dòng)實(shí)現(xiàn)圖像成像,其工作原理如圖3所示。圖中,每個(gè)微鏡片都有3種穩(wěn)定狀態(tài),分別為“開”、“平”以及“關(guān)”態(tài),對(duì)應(yīng)偏轉(zhuǎn)角分別為+12uf0b0、0uf0b0和-12uf0b0。當(dāng)微鏡片對(duì)應(yīng)像素值的二進(jìn)制位時(shí)間為“1”時(shí),微鏡片偏轉(zhuǎn)為+12uf0b0,反射光線全部通過投影系統(tǒng),投影屏幕上對(duì)應(yīng)像素點(diǎn)呈亮點(diǎn),當(dāng)微鏡片對(duì)應(yīng)像素值的二進(jìn)制位時(shí)間為“0”時(shí),微鏡片偏轉(zhuǎn)為-12uf0b0,反射光線偏離投影系統(tǒng),被低溫黑體吸收,投影屏幕上對(duì)應(yīng)像素點(diǎn)呈暗點(diǎn)。因此,通過控制微鏡片的偏轉(zhuǎn)狀態(tài),就可以實(shí)現(xiàn)控制圖像每個(gè)像素點(diǎn)的亮、暗,在接收屏幕上生成一幅完整圖像。2.2場(chǎng)景映射方法如圖4所示,整個(gè)仿真系統(tǒng)主要由兩部分組成:(1)計(jì)算機(jī)圖像生成器;(2)場(chǎng)景投射部分。計(jì)算機(jī)圖像生成器,就是根據(jù)實(shí)際測(cè)試的紅外場(chǎng)景圖像數(shù)據(jù),在計(jì)算機(jī)中利用圖像生成軟件,如VegaPrime、OpenGL、3DSMAX等,根據(jù)實(shí)際測(cè)量的目標(biāo)和背景、環(huán)境信息,生成不同背景、不同環(huán)境下的動(dòng)態(tài)紅外目標(biāo),實(shí)現(xiàn)目標(biāo)的三維重建。場(chǎng)景投射,是指由計(jì)算機(jī)圖像生成器產(chǎn)生的圖像數(shù)據(jù),經(jīng)過數(shù)字信號(hào)處理電路,送入DMD驅(qū)動(dòng)電路,并將數(shù)據(jù)保存在CMOS存儲(chǔ)單元。黑體光源產(chǎn)生紅外熱輻射,通過照明光路準(zhǔn)直勻化以后照射到DMD芯片上,CMOS存儲(chǔ)單元根據(jù)存儲(chǔ)的二進(jìn)制信息產(chǎn)生驅(qū)動(dòng)電壓控制DMD的偏轉(zhuǎn)狀態(tài),反射紅外熱輻射,然后經(jīng)過中繼透鏡組投射到紅外成像系統(tǒng)的入瞳處,使紅外成像系統(tǒng)如同工作在真實(shí)的外場(chǎng)環(huán)境中,實(shí)現(xiàn)評(píng)價(jià)紅外成像系統(tǒng)性能的目的。通過調(diào)節(jié)黑體光源的輻射溫度,可以模擬不同波段的紅外目標(biāo)輻射。2.3脈沖寬度調(diào)制灰度調(diào)制技術(shù)是指用灰度值來表示數(shù)字圖像的亮度值,灰度值越大,亮度越高,每個(gè)像素對(duì)應(yīng)各自的灰度值。用來表示每一像素灰度的比特位數(shù)越高,對(duì)應(yīng)灰度等級(jí)也越高,圖像畫面細(xì)節(jié)表征越好?；叶日{(diào)制方法主要有空間灰度調(diào)制、幀灰度調(diào)制和脈沖寬度調(diào)制等。由于空間灰度調(diào)制存在隨著灰度等級(jí)的提高,圖像分辨率下降的缺點(diǎn),而幀灰度調(diào)制方法存在提高幀頻與DMD視頻處理電路響應(yīng)時(shí)間的矛盾,二者在實(shí)際應(yīng)用上存在一定的缺陷。脈沖寬度調(diào)制則不存在上述問題,在系統(tǒng)設(shè)計(jì)時(shí)采用脈沖寬度調(diào)制。脈沖寬度調(diào)制的原理是將信號(hào)圖像的每幀時(shí)間分成若干時(shí)間間隔,或者稱之為二進(jìn)制位時(shí)間,不同的灰度等級(jí)對(duì)應(yīng)不同的二進(jìn)制位時(shí)間。例如,以4比特位的圖像為例,它具有24個(gè)灰度等級(jí)。如圖5所示,一幀時(shí)間被分成4個(gè)位時(shí)間,每個(gè)位時(shí)間的長(zhǎng)短與該位的二進(jìn)制權(quán)值成正比,即從LSB到MSB的位時(shí)間依次為20、21、22、23,每一幀數(shù)字圖象的時(shí)間被對(duì)應(yīng)分成4個(gè)不同的時(shí)間間隔1/15、2/15、4/15、8/15。這樣,對(duì)于4比特位的二進(jìn)制圖像可以產(chǎn)生24個(gè)灰度等級(jí)。以十進(jìn)制數(shù)10為例,其二進(jìn)制數(shù)表示為1010,反應(yīng)在DMD微鏡片上,高電平所對(duì)應(yīng)的位時(shí)間鏡片偏轉(zhuǎn)+12uf0b0,低電平對(duì)應(yīng)的位時(shí)間鏡片偏轉(zhuǎn)-12uf0b0,如圖5所示,數(shù)據(jù)10對(duì)應(yīng)的灰度級(jí)為10/15。同理,對(duì)一個(gè)8比特位二進(jìn)制圖像數(shù)據(jù)而言,具有28個(gè)灰度等級(jí)。2.4入射光光度eo系統(tǒng)轉(zhuǎn)換效率的高低是衡量一個(gè)系統(tǒng)的重要指標(biāo)。轉(zhuǎn)換效率可以通過圖6給出的模型計(jì)算得出。被測(cè)系統(tǒng)的入射光照度Eo由系統(tǒng)的入射光照度Ei決定:式中:r為系統(tǒng)的轉(zhuǎn)換效率因子;Ei為系統(tǒng)的入射光照度。式中:CS(TS)為溫度為TS的黑體輻照度;θS為黑體光源相對(duì)系統(tǒng)入射角的半角角度;被測(cè)系統(tǒng)的入射光照度EO為:式中:Cp為系統(tǒng)輸出的輻照度;θp為仿真系統(tǒng)相對(duì)被測(cè)系統(tǒng)輸入角的半角角度。則公式(1)可以表示為:仿真系統(tǒng)的轉(zhuǎn)換效率因子r與準(zhǔn)直系統(tǒng)的傳遞效率τc、DMD芯片的反射效率ηDMD、DMD芯片的填充因子ΦDMD以及中繼透鏡的傳遞效率τr成正比,即:由上可知,在光學(xué)器件選定的情況下,根據(jù)黑體光源相對(duì)系統(tǒng)輸入的半角角度θS以及仿真系統(tǒng)相對(duì)被測(cè)系統(tǒng)輸入的半角角度θp,便可計(jì)算出仿真系統(tǒng)的轉(zhuǎn)換效率。3一些關(guān)鍵技術(shù)問題3.1視頻歸一化電路基于DMD芯片的投影系統(tǒng)的主要特點(diǎn)就是信號(hào)傳輸?shù)娜珨?shù)字化控制。對(duì)微鏡陣列的控制只需為每個(gè)像素提供數(shù)字驅(qū)動(dòng)信號(hào),不需要將數(shù)字圖像信號(hào)經(jīng)A/D轉(zhuǎn)換為模擬信號(hào)后傳輸,再經(jīng)D/A轉(zhuǎn)換實(shí)現(xiàn)顯示,保證了圖像信息在傳輸過程的完整性。這就要求系統(tǒng)的信號(hào)傳輸需采用DVI接口標(biāo)準(zhǔn),支持24bit視頻數(shù)字傳輸。對(duì)于不同像素的輸入圖像數(shù)據(jù),為了使DMD驅(qū)動(dòng)電路能夠正確控制DMD鏡片轉(zhuǎn)動(dòng),需要設(shè)計(jì)圖像歸一化電路,使不同像素的輸入圖像與DMD芯片像素規(guī)模具有相同尺寸格式,并且不改變圖像的長(zhǎng)寬比例。通過歸一化電路可以提高圖像的信噪比和仿真系統(tǒng)的整機(jī)穩(wěn)定性,增加對(duì)輸入信號(hào)的兼容性。輸出圖像的灰度等級(jí)是通過控制DMD微反射鏡在某一位置的停留時(shí)間從而達(dá)到脈寬調(diào)制實(shí)現(xiàn)的。對(duì)于凝視型面陣紅外探測(cè)器的成像原理,要求DMD顯示時(shí)間必須與探測(cè)器采樣時(shí)間嚴(yán)格同步,不然會(huì)導(dǎo)致短暫假信號(hào)與抖動(dòng)問題,這就要求在進(jìn)行系統(tǒng)設(shè)計(jì)時(shí),設(shè)計(jì)可編程的同步驅(qū)動(dòng)電路,實(shí)現(xiàn)DMD成像與探測(cè)器探測(cè)同步。3.2透射材料的選擇普通的DMD芯片主要用于可見光波段的投影系統(tǒng),在芯片的上表面覆蓋有一個(gè)透光窗口,用于屏蔽紫外和紅外光波。而目前紅外探測(cè)器主要集中在中波和長(zhǎng)波紅外波段,即3~5uf06dm和8~13uf06dm,要實(shí)現(xiàn)DMD芯片對(duì)中、長(zhǎng)波段紅外光線的反射需要更換芯片表面的光學(xué)窗口,使其可以透過紅外光波。透射材料分為光學(xué)玻璃、光學(xué)晶體和光學(xué)塑料三大類。一般光學(xué)玻璃能透過波長(zhǎng)為0.35~2.5uf06dm的各種色光,超出這個(gè)波段范圍的光將會(huì)被光學(xué)玻璃強(qiáng)烈吸收。光學(xué)晶體的透射范圍一般比光學(xué)玻璃要寬,而光學(xué)塑料的特性受溫度影響較大,成像質(zhì)量不穩(wěn)定。通常使用鍺單晶制作透射窗口。鍺不具有吸濕性,化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,擁有良好的表面硬度和強(qiáng)度,具有高折射率、低色散、導(dǎo)熱性好、容易加工等特性,光波透射范圍為1.8~23uf06dm,且熔點(diǎn)較高,達(dá)937℃,抗熱沖擊阻力大,適用于制造中、遠(yuǎn)紅外波段的鍺窗、棱鏡和透鏡等。鍺透鏡加鍍?cè)鐾改ひ院?其透射比大于90%。3.3微鏡反射過程中可能存在的誤差由于微反射鏡片尺寸(10.8uf06dm)與紅外波長(zhǎng)相差不多(3~5uf06dm和8~13uf06dm),所以在系統(tǒng)設(shè)計(jì)時(shí)需要考慮微鏡反射過程中可能存在的衍射現(xiàn)象。由于衍射現(xiàn)象的存在,不但使圖像分辨率受到影響,而且會(huì)降低圖像對(duì)比度,對(duì)于可見光,典型的圖像對(duì)比度為400:1,而對(duì)于中紅外光波,圖像對(duì)比度會(huì)下降到90:1,影響到成像質(zhì)量。如何提高仿真系統(tǒng)的對(duì)比度是DMD紅外仿真技術(shù)的關(guān)鍵問題之一。3.4選擇面源抗體目前國(guó)內(nèi)研制的仿真系統(tǒng)都是模擬單一波段紅外目標(biāo),要實(shí)現(xiàn)多光譜仿真,在仿真系統(tǒng)的輻射光源選擇上,需要滿足中、長(zhǎng)波紅外出射光的要求。通常選擇中溫黑體作為仿真系統(tǒng)的輻射源,通過精確控制黑體光源的輻射溫度實(shí)現(xiàn)輻射波長(zhǎng)的調(diào)制,滿足多光譜仿真的需要。其它紅外光源如高溫?zé)嵩?、紅外激光等也可以作為紅外輻射源使用,但由于其溫度不易調(diào)節(jié)和控制,在實(shí)際中應(yīng)用不多。在黑體選擇上,面源黑體具有均勻性好、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單緊湊、體積小等特點(diǎn),所以選擇面源黑體作為輻射光源。由維恩定律計(jì)算可知,對(duì)于模擬3~5uf06dm紅外光波輻射,需要調(diào)節(jié)黑體溫度范圍為287~690℃,對(duì)于模擬8~13uf06dm紅外光波輻射,則需要調(diào)節(jié)黑體溫度范圍為-50~100℃?？紤]到溫度過高時(shí),黑體表面發(fā)射率、溫度穩(wěn)定度和均勻性都將變差,且對(duì)整個(gè)光路設(shè)計(jì)和電子電路的穩(wěn)定性影響較大,容易造成電路工作不穩(wěn)定,要求黑體光源溫度在500℃以內(nèi)。由于黑體輻射除了在峰值波長(zhǎng)有輻射,在其它波段仍然有連續(xù)的輻射,可以滿足系統(tǒng)對(duì)3~5uf06dm和8~13uf06dm波段輻射的需求。所以系統(tǒng)設(shè)計(jì)采用美國(guó)ElectroOpticalIndustri