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文檔簡介
第第頁為何涂層測厚儀測量時會產生數(shù)據(jù)不準測厚儀常見問題解決方法涂層測厚儀如何使用才可避開降低誤差
在運用涂層測厚儀測量時盡量運用被測材質來作為調零的基體,以防止由于不同的材質而致使導磁性不同,而呈現(xiàn)測量誤差。等到在被測材質的同一部位調零以后,再實行一樣部位的測量,如在側臉工件邊緣及中心部分時當分別調零。
在應用涂層測厚儀實行測量時還該當注意探頭和被測料面維持垂直,以免發(fā)生大的誤差。若是測量的同一個點,可將探頭每次都離開10公分以上,間隔幾秒后再實行測量,以免被測材質探頭磁化而影響測量結果。涂層測厚儀作為調零用的外表面必需盡量維持光滑,假如外表面不光滑,該當視情形取平均值,由于外表面粗糙度對測量的數(shù)值影響較大。構造不同應分別實行調零測量,平面調零側臉平面,測量凹面調零后測量,測量凸面調零后實行測量,防止由于構造不同而在測量上發(fā)生誤差。
在完整版本中,F(xiàn)ischeScopeMMSPCBBLRP可用于PC板生產中的多功能涂層厚度測量。觸點上的金涂層、焊盤和焊痕上的錫鉛合金涂層以及光阻涂層均接受β反向散射法、方法(Betascope插件測試模塊)進行測量。用改進的方法測量了栓孔表面覆銅厚度和鍍銅厚度。渦流法(Sigmascope插件測試模塊)。兩個渦流探頭可以同時連接(如ESL08A和ESC2)。接受電阻法測量多層板和多層板上的銅厚度,探針ERCU不受對面銅層的影響。使用渦流法(Permascope插入式測試模塊)測量銅上的阻焊劑厚度。集中式測量系統(tǒng)只需選擇適當?shù)膽贸绦蚓涂梢詧?zhí)行全部這些測量任務。無論選擇何種測試方法,操作的均勻性都會將操作員活動降至最低。測量數(shù)據(jù)可以被存儲、評估、打印或下載到外部計算機。FischeScopeMMSPCBBLRP為PC板制造商供應了一種經濟的方法來有效測量其全部應用程序。磁感應法(DINENISO2178、ASTMB499):接觸測量方法。低頻交流勵磁電流產生低頻磁場。磁通密度取決于測量探頭與鐵磁基板之間的距離。探頭輸出信號通過拾取線圈產生。該儀器依據(jù)探針特性和合適的數(shù)學轉換模型將測量信號轉換為涂層厚度?;魻栃―INENISO2178):接觸測量方法。永磁體產生恒定磁場。磁場強度將與探針尖端和基板之間的距離成比例。利用霍爾效應傳感器測量磁場強度,由此計算出涂層厚度。一體式涂鍍層測厚儀型號:HAD—TY2200
產品介紹
HAD—TY2200一體式涂鍍層測厚儀接受了磁性測厚方法,可無損地測量磁性金屬基體(如鋼、鐵、合金和硬磁性鋼等)上非磁性覆蓋層的厚度(如鉻、鋅、銅、鋁、琺瑯、橡膠、油漆等)。
HAD—TY2200一體式涂鍍層測厚儀廣泛應用于機械、汽車、造船、石油、化工、電鍍、噴塑、搪瓷、塑料等行業(yè)。
HAD—TY2200一體式涂鍍層測厚儀產品概述:
HAD—TY2200一體式涂鍍層測厚儀接受內置探頭一體化設計、抗干擾技術、數(shù)字顯示,具備機型小巧、操作簡捷、待機時間長等特點;且具有自動關機、欠電指示、統(tǒng)計、系統(tǒng)/零點/兩點校準功能。它能快速、無損傷、精密地進行涂、鍍層厚度的測量。既可用于試驗室,也可用于工程現(xiàn)場。該儀器廣泛應用于機械、汽車、造船、石油、化工、電鍍、噴塑、搪瓷、塑料等行業(yè)。
HAD—TY2200一體式涂鍍層測厚儀測量工作原理:
HAD—TY2200型涂(鍍)層測厚儀接受了磁性測厚方法,可無損地測量磁性金屬基體(如鋼、鐵、合金和硬磁性鋼等)上非磁性覆蓋層的厚度(如鉻、鋅、銅、鋁、琺瑯、橡膠、油漆等)。
◆磁性法(內置F型測頭):當測頭與覆蓋層接觸時,測頭和磁性金屬基體構成一閉合磁路,由于非磁性覆蓋層的存在,使磁路磁阻變化,通過測量其變化可精準明確測量出覆蓋層的厚度。
符合標準:
GB/T4956─1985磁性金屬基體上非磁性覆蓋層厚度測量磁性方法
JB/T8393─1996磁性和渦流式覆層厚度測量儀
JJG889─95《磁阻法測厚儀》
HAD—TY2200一體式涂鍍層測厚儀產品特點:
◆產品設計:內置探頭的一體化設計,重量僅為98g,真正意義的超便攜
◆顯示方式:4位液晶數(shù)字顯示
◆統(tǒng)計功能:設有三個統(tǒng)計量(平均值、大值、小值)
◆校準功能:可進行零點校準、兩點校準及系統(tǒng)校準
◆電量提示:具有欠壓顯示功能(右上角顯示"")
◆蜂鳴提示:操作過程中有蜂鳴提示
◆關機方式:具有自動關機和手動關機兩種方式
技術參數(shù)
量范圍:0~1250um測量誤差:[(1~3)%H+1]小示值:1um電源:兩節(jié)1.5v電池功耗:最大功耗98mw基體小厚度:0.5mm基體小平面的直徑:7mm小曲率半徑:凸:1.5mm凹:6mm外形尺寸:114m
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