標(biāo)準(zhǔn)解讀

《GB/T 43662-2024 藍(lán)寶石圖形化襯底片》是一項(xiàng)國家標(biāo)準(zhǔn),主要針對用于半導(dǎo)體器件制造中的藍(lán)寶石圖形化襯底片進(jìn)行了詳細(xì)規(guī)定。該標(biāo)準(zhǔn)涵蓋了此類產(chǎn)品的術(shù)語定義、技術(shù)要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則以及包裝、標(biāo)志、運(yùn)輸和貯存等方面的要求。

在術(shù)語與定義部分,明確了“藍(lán)寶石圖形化襯底片”的具體含義,即通過特定工藝處理,在藍(lán)寶石基板上形成具有一定圖案結(jié)構(gòu)的襯底材料,這些圖案可以是周期性的也可以是非周期性的,目的是為了改善后續(xù)生長薄膜的質(zhì)量或?qū)崿F(xiàn)特定功能。

技術(shù)要求方面,標(biāo)準(zhǔn)對藍(lán)寶石圖形化襯底片的關(guān)鍵性能指標(biāo)提出了明確要求,包括但不限于表面形貌、圖形尺寸精度、位置偏差、清潔度等。此外,還涉及到了襯底材料本身的物理化學(xué)性質(zhì)如厚度均勻性、光學(xué)透過率等。

對于試驗(yàn)方法,《GB/T 43662-2024》提供了詳細(xì)的測試流程和技術(shù)參數(shù),確保能夠準(zhǔn)確評估產(chǎn)品是否符合上述技術(shù)規(guī)格。這其中包括了使用掃描電子顯微鏡(SEM)觀察圖形細(xì)節(jié)、原子力顯微鏡(AFM)測量表面粗糙度等多種先進(jìn)檢測手段的應(yīng)用指南。

檢驗(yàn)規(guī)則則進(jìn)一步規(guī)范了生產(chǎn)過程中質(zhì)量控制的具體步驟,從原材料進(jìn)廠到成品出廠整個鏈條上的每一個環(huán)節(jié)都應(yīng)遵循嚴(yán)格的標(biāo)準(zhǔn)操作程序(SOP),并通過定期或不定期抽查來保證產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定可靠。

最后,在包裝、標(biāo)志、運(yùn)輸和貯存章節(jié)中,標(biāo)準(zhǔn)強(qiáng)調(diào)了如何正確地對藍(lán)寶石圖形化襯底片進(jìn)行保護(hù)以避免損壞,并對其標(biāo)識信息做出了具體指導(dǎo),同時指出了適宜的儲存條件及運(yùn)輸方式,以確保產(chǎn)品在整個供應(yīng)鏈過程中的安全性和完整性。


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  • 現(xiàn)行
  • 正在執(zhí)行有效
  • 2024-03-15 頒布
  • 2024-10-01 實(shí)施
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文檔簡介

ICS29045

CCSH.83

中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)

GB/T43662—2024

藍(lán)寶石圖形化襯底片

Patternedsapphiresubstrate

2024-03-15發(fā)布2024-10-01實(shí)施

國家市場監(jiān)督管理總局發(fā)布

國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會

GB/T43662—2024

前言

本文件按照標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則第部分標(biāo)準(zhǔn)化文件的結(jié)構(gòu)和起草規(guī)則的規(guī)定

GB/T1.1—2020《1:》

起草

。

請注意本文件的某些內(nèi)容可能涉及專利本文件的發(fā)布機(jī)構(gòu)不承擔(dān)識別專利的責(zé)任

。。

本文件由全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會與全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)

(SAC/TC203)

化技術(shù)委員會材料分技術(shù)委員會共同提出并歸口

(SAC/TC203/SC2)。

本文件起草單位廣東中圖半導(dǎo)體科技股份有限公司有色金屬技術(shù)經(jīng)濟(jì)研究院有限責(zé)任公司

:、、

華燦光電浙江有限公司黃山博藍(lán)特半導(dǎo)體科技有限公司北京大學(xué)東莞光電研究院云南藍(lán)晶科技

()、、、

有限公司南京理工宇龍新材料科技股份有限公司通遼精工藍(lán)寶石有限公司蘇州恒嘉晶體材料有限

、、、

公司

。

本文件主要起草人張能賀東江張小瓊李素青肖桂明王子榮朱廣敏康凱劉建哲丁曉民

:、、、、、、、、、、

王新強(qiáng)何永杰戴生伢閆殿軍徐永亮

、、、、。

GB/T43662—2024

藍(lán)寶石圖形化襯底片

1范圍

本文件規(guī)定了藍(lán)寶石圖形化襯底片以下簡稱襯底的技術(shù)要求試驗(yàn)方法檢驗(yàn)規(guī)則標(biāo)志包

(“”)、、、、

裝運(yùn)輸貯存隨行文件和訂貨單內(nèi)容

、、、。

本文件適用于藍(lán)寶石圖形化襯底片的研發(fā)生產(chǎn)測試檢驗(yàn)及性能質(zhì)量的評價

、、、。

2規(guī)范性引用文件

下列文件中的內(nèi)容通過文中的規(guī)范性引用而構(gòu)成本文件必不可少的條款其中注日期的引用文

。,

件僅該日期對應(yīng)的版本適用于本文件不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于

,;,()

本文件

計(jì)數(shù)抽樣檢驗(yàn)程序第部分按接收質(zhì)量限檢索的逐批檢驗(yàn)抽樣

GB/T2828.1—20121:(AQL)

計(jì)劃

砷化鎵外延層厚度紅外干涉測量方法

GB/T8758

硅片直徑測量方法

GB/T14140

半導(dǎo)體材料術(shù)語

GB/T14264

納米級長度的掃描電鏡測量方法通則

GB/T20307

潔凈室及相關(guān)受控環(huán)境第部分按粒子濃度劃分空氣潔凈度等級

GB/T25915.1—20211:

3術(shù)語和定義

界定的以及下列術(shù)語和定義適用于本文件

GB/T14264。

31

.

圖形化襯底patternedsubstrate

通過光刻或壓印圖形掩膜工藝再經(jīng)等離子體刻蝕技術(shù)制成的表面具有一系列類圓錐體的周期性

,,

陣列排布的微納米圖形結(jié)構(gòu)的襯底

注圖形化襯底用于提升氮化鎵發(fā)光二極管的光電性能

:。

32

.

圖形排布patternarrangement

襯底表面圖形按最密堆積原則進(jìn)行位置及方向上的陣列分布排布如圖所示排布如圖所示

。0°1

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