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文檔簡介

第第頁粒度分析儀在陶瓷制造中的應(yīng)用分析儀是如何工作的對(duì)陶瓷制造來講,原材料是基礎(chǔ),成形是條件,燒成是關(guān)鍵。各種陶瓷原材料由于成因不同、地質(zhì)條件不同,導(dǎo)致其化學(xué)成分、礦物構(gòu)成、工藝性簡單顯現(xiàn)波動(dòng),從而影響產(chǎn)品的質(zhì)量,因而原材料的合理選擇和科學(xué)分析對(duì)陶瓷生產(chǎn)來說至關(guān)緊要。陶瓷粉體的檢測在很多方面取決于初始粉體的功用,其物理化學(xué)性質(zhì)將選擇陶瓷材料結(jié)束的顯微結(jié)構(gòu)和特別功用。粒度分布是粉體特有的一種性質(zhì),也是決議粉體行為與屬性的緊要物理性質(zhì)。因此,在處理粉體時(shí)必需進(jìn)行粒度分布的分析。常用的粒度分析儀有激光粒度分析儀、超聲粒度分析儀、消光法光學(xué)沉積儀及X射線沉積儀等,其中激光粒度分析儀測量便利快捷、重現(xiàn)性高,能很好的測出樣品的粒度分布曲線和集中度,越是球狀顆粒,測量的越,因而廣泛適用于材料、化工、制藥、精細(xì)陶瓷、造紙、化妝品、冶金等以顆粒物作為生產(chǎn)原材料的行業(yè),以及中心體的試驗(yàn)室分析和工業(yè)生產(chǎn)中質(zhì)量掌控等諸多領(lǐng)域。粉體質(zhì)量是制備高功用陶瓷材料的基礎(chǔ),構(gòu)成粉體的固體顆粒其粒徑大小對(duì)粉體系統(tǒng)的性質(zhì)有很大的影響。當(dāng)前測定顆粒粒度的方法和裝置很多,但由于其對(duì)粒徑測定的原理各不相同,因此對(duì)同一種物料用不同的方法測試,所得的結(jié)果可能也會(huì)不同,通常對(duì)陶瓷原材料的粒度進(jìn)行科學(xué)檢驗(yàn)更多的是接受激光粒度分析儀。激光粒度分析儀是利用顆粒對(duì)光的散射(衍射)現(xiàn)象測量顆粒大小的,即光在行進(jìn)過程中碰到顆粒(障礙物)時(shí),會(huì)有一部分偏離原來的傳播方向,顆粒尺寸越小,偏離量越大;顆粒尺寸越大,偏離量越小。陶瓷材料的制備通常要經(jīng)過3個(gè)技能進(jìn)程:材料制備、坯體成形和燒成技能,粒度及分布情形與材料的加工時(shí)間、坯體的致密度大小、燒成溫度的凹凸一級(jí)有關(guān)。干壓成形的粉料和注漿成型漿料都有顆粒存在,陶瓷色釉中也存在粉狀顆粒,所謂陶瓷粉體是很多固體粒子的集結(jié)系統(tǒng)。材料的顆粒粒度配比對(duì)產(chǎn)品的強(qiáng)度和技能功用有較大的影響,特別是在其燒結(jié)時(shí)發(fā)作的改動(dòng),激光粒度分析儀可依據(jù)該值判定其技能特征和制品功用,終選用細(xì)磨粉體經(jīng)不相同方法成型制品。在陶瓷原材料方面,隨著納米技術(shù)的應(yīng)用日益廣泛,近百年來又顯現(xiàn)了很多新的陶瓷品種。它們不再使用或很少使用粘土、長石、石英等傳統(tǒng)原材料,而是使用其他特別原材料,甚至擴(kuò)大到非硅酸鹽、非氧化物的范圍,并且顯現(xiàn)了很多新的工藝。原材料性能的大幅度波動(dòng),給工藝掌控和質(zhì)量管理帶來了很大的困難。對(duì)企業(yè)而言,除了可以利用料倉堆料流程對(duì)企業(yè)自身原材料進(jìn)行標(biāo)準(zhǔn)化處理外,更多著力點(diǎn)或許在于陶瓷原材料的產(chǎn)品分析、檢測標(biāo)定,對(duì)原材料進(jìn)行入廠檢驗(yàn)等方面,同時(shí)依據(jù)陶瓷原材料的波動(dòng),調(diào)整配方、試燒配方、確定配方。嚴(yán)格的監(jiān)管規(guī)定及良好的生產(chǎn)規(guī)范將利于陶瓷制造行業(yè)的良性進(jìn)展。

合金分析儀是一種XRF光譜分析技術(shù),可用于確認(rèn)物質(zhì)里的特定元素,同時(shí)將其量化。它可以依據(jù)X射線的發(fā)射波長(λ)及能量(E)確定實(shí)在元素,而通過測量相應(yīng)射線的密度來確定此元素的量。XRF度普術(shù)就能測定物質(zhì)的元素構(gòu)成。每一個(gè)原子都有本身固定數(shù)量的電子(負(fù)電微粒)運(yùn)行在核子四周的軌道上。而且其電子的數(shù)量等同于核子中的質(zhì)子(正電微粒)數(shù)量。從元素周期表中的原子數(shù)可以得知質(zhì)子的數(shù)目。每一個(gè)原子數(shù)都對(duì)應(yīng)固定的元素名稱。能量色散X螢光與波長色散X螢光光譜分析技術(shù)特別討論與應(yīng)用了最里層三個(gè)電子軌道即K,L,M上的活動(dòng)情況,其中K軌道較為接近核子,每個(gè)電子軌道則對(duì)應(yīng)某元素一個(gè)個(gè)特定的能量層。在XRF分析法中,從X光發(fā)射管里放射出來的高能初級(jí)射線光子會(huì)撞擊樣本元素。這些初級(jí)光子含有充分的能量可以將最里層即K層或L層的電子撞擊脫軌。這時(shí),原子變成了不穩(wěn)定的離子。由于電子本能會(huì)尋求穩(wěn)定,外層L層或M層的電子會(huì)進(jìn)入彌補(bǔ)內(nèi)層的空間。在這些電子從外層進(jìn)入內(nèi)層的過程中,它們會(huì)釋放出能量,稱之為二次X射線光子。而整個(gè)過程則稱為螢光輻射。每種元素的二次射線都各有特征。而X射線光子螢光輻射產(chǎn)生的能量是由電子轉(zhuǎn)換過程中內(nèi)層和外層之間的能量差決議的。特定元素在確定時(shí)間內(nèi)所放射出來的X射線的數(shù)量或者密度,能夠用來衡量這種元素的數(shù)量。典型的XRF能量分布光譜顯示了不同能量時(shí)間子密度的分布情況。

全自動(dòng)電化學(xué)發(fā)光儀是臨床診斷的常用儀器,平常需要注意維護(hù)與保養(yǎng),以削減故障,延長儀器使用壽命。

1.LFC液路清洗

sipper針內(nèi)的污染可能會(huì)降低樣本檢測精準(zhǔn)度和精密度或堵塞測量池通道因此需要對(duì)LFC液路進(jìn)行清洗。

步驟:打開針保護(hù)蓋,從試劑倉中的瓶組1上取出procell瓶,取Sysclean試劑9mL,灌滿適配器的“USER”室(較小的室),將被灌滿Sysclean的適配器當(dāng)心插入試劑倉內(nèi)瓶組1的“procell”位置,標(biāo)記“USER”的邊緣朝著分析儀后部,清空廢液桶,確認(rèn)其他3個(gè)“procell”和“Cleancell”瓶液量充分,且瓶蓋打開,關(guān)閉針保護(hù)蓋,在“綜合功能”中的“維護(hù)”界面打開“LFC液路清洗”窗口,選擇循環(huán)次數(shù),按“開始”鍵,大約17min后結(jié)束,取出適配器,用蒸餾水徹底沖洗干凈,將“procell”瓶放回瓶組1

2.清洗sipper針

sipper針使用容積式的取樣方式將經(jīng)過孵育的反應(yīng)混合液吸取至測量池,針上的污物會(huì)導(dǎo)致污染和液體殘留,影響結(jié)果。sipper針應(yīng)每日清洗。

步驟:關(guān)閉分析儀,將sipper針移至簡單操作區(qū)域,用7O異丙醇浸泡的紗布?jí)K擦拭針表面,再用蒸餾水擦拭,期間不能彎曲探針,不能碰觸探針上部。

3.更換注射器管道

注射器長期使用有可能會(huì)導(dǎo)致管道液體滲漏和微堵,影響吸液量的精準(zhǔn)性和分析儀正確清洗測量池的本領(lǐng)。

步驟:選擇“綜合功能”中的“維護(hù)”,打開“更換測量池”窗口,選擇“開始”,管道內(nèi)液體即被清除,關(guān)閉操作開關(guān)電源;取下配件上的管道,移走系統(tǒng)水容器,使用紙巾覆蓋吸樣管下部區(qū)域,防止?jié)B漏和可能的污染,當(dāng)心取下金屬板上的配件管道,再從注射器上取下管道,將新管道插入注射口,確認(rèn)管道為180mm,旋緊管道末端,避開管道卷曲;接通分析儀,在“綜合功能”中的“維護(hù)”界面,選定“sipper針沖洗”,輸入沖洗10次,選擇“開始”,系統(tǒng)排出sipper中的空氣后進(jìn)行sipper灌注,同時(shí)檢查配件處和管道上有無滲漏;在“維護(hù)”項(xiàng)目列表中選擇“測量池準(zhǔn)備”窗口,按“開始”,系統(tǒng)開始使用procell清洗測量池。

4.清洗磁珠攪拌棒

磁珠攪拌棒緊要用于混合磁珠,并保證懸浮液的均勻。應(yīng)定期檢查磁珠攪拌棒,除去可見的污物,如攪拌棒臂上或攪拌棒上的紅色斑點(diǎn)。棒上的污點(diǎn)可能引起故障,影響結(jié)果。

步驟:將儀器切換至“備用”模式,將攪拌棒臂移至便于接觸的位置,使用7O異丙醇浸泡的紗布當(dāng)心擦拭攪拌棒表面,再用蒸餾水浸泡的紗布重新擦拭,期間不能彎曲攪拌棒,否者有可能導(dǎo)致結(jié)果不精準(zhǔn)。

5.清洗沖洗站

沖洗站用于

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