半導(dǎo)體物理考試復(fù)習(xí)試題_第1頁
半導(dǎo)體物理考試復(fù)習(xí)試題_第2頁
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...wd......wd......wd...半導(dǎo)體的電子狀態(tài)1.設(shè)晶格常數(shù)為a的一維晶格,導(dǎo)帶極小值附近能量Ec(k)和價帶極大值附近能量EV(k)分別為:Ec=〔1〕禁帶寬度;導(dǎo)帶底電子有效質(zhì)量;價帶頂電子有效質(zhì)量;〔4〕價帶頂電子躍遷到導(dǎo)帶底時準(zhǔn)動量的變化解:〔1〕2.晶格常數(shù)為0.25nm的一維晶格,當(dāng)外加102V/m,107V/m的電場時,試分別計算電子自能帶底運(yùn)動到能帶頂所需的時間。解:根據(jù):得半導(dǎo)體中的雜質(zhì)和缺陷能級7.銻化銦的禁帶寬度Eg=0.18eV,相對介電常數(shù)r=17,電子的有效質(zhì)量=0.015m0,m0為電子的慣性質(zhì)量,求=1\*GB3①施主雜質(zhì)的電離能,=2\*GB3②施主的弱束縛電子基態(tài)軌道半徑。8.磷化鎵的禁帶寬度Eg=2.26eV,相對介電常數(shù)r=11.1,空穴的有效質(zhì)量m*p=0.86m0,m0為電子的慣性質(zhì)量,求=1\*GB3①受主雜質(zhì)電離能;=2\*GB3②受主束縛的空穴的基態(tài)軌道半徑。半導(dǎo)體中載流子的統(tǒng)計分布1.計算能量在E=Ec到之間單位體積中的量子態(tài)數(shù)。解6.計算硅在-78oC,27oC,300oC時的本征費(fèi)米能級,假定它在禁帶中間合理嗎7.=1\*GB3①在室溫下,鍺的有效態(tài)密度Nc=1.051019cm-3,NV=3.91018cm-3,試求鍺的載流子有效質(zhì)量m*nm*p。計算77K時的NC和NV。300K時,Eg=0.67eV。77k時Eg=0.76eV。求這兩個溫度時鍺的本征載流子濃度。=2\*GB3②77K時,鍺的電子濃度為1017cm-3,假定受主濃度為零,而Ec-ED=0.01eV,求鍺中施主濃度ED為多少10.以施主雜質(zhì)電離90%作為強(qiáng)電離的標(biāo)準(zhǔn),求摻砷的n型鍺在300K時,以雜質(zhì)電離為主的飽和區(qū)摻雜質(zhì)的濃度范圍。半導(dǎo)體的導(dǎo)電性2.試計算本征Si在室溫時的電導(dǎo)率,設(shè)電子和空穴遷移率分別為1350cm2/(V.S)和500cm2/(V.S)。當(dāng)摻入百萬分之一的As后,設(shè)雜質(zhì)全部電離,試計算其電導(dǎo)率。比本征Si的電導(dǎo)率增大了多少倍解:300K時,,查表3-2或圖3-7可知,室溫下Si的本征載流子濃度約為。金鋼石構(gòu)造一個原胞內(nèi)的等效原子個數(shù)為個,查看附錄B知Si的晶格常數(shù)為0.543102nm,那么其原子密度為。摻入百萬分之一的As,雜質(zhì)的濃度為,雜質(zhì)全部電離后,,這種情況下,查圖4-14〔a〕可知其多子的遷移率為800cm2/(V.S)比本征情況下增大了倍16.分別計算摻有以下雜質(zhì)的Si,在室溫時的載流子濃度、遷移率和電阻率:=1\*GB3①硼原子31015cm-3;=2\*GB3②硼原子1.31016cm-3+磷原子1.01016cm-3=3\*GB3③磷原子1.31016cm-3+硼原子1.01016cm=4\*GB3④磷原子31015cm-3+鎵原子11017cm-3+砷原子11017cm-3。解:室溫下,Si本征載流子濃度,硅的雜質(zhì)濃度在1015-1017cm-3范圍內(nèi),室溫下全部電離,屬強(qiáng)電離區(qū)。=1\*GB3①硼原子31015cm-3查圖4-14〔a〕知,=2\*GB3②硼原子1.31016cm-3+磷原子1.01016cm-3,,查圖4-14〔a〕知,=3\*GB3③磷原子1.31016cm-3+硼原子1.01016cm,,查圖4-14〔a〕知,=4\*GB3④磷原子31015cm-3+鎵原子11017cm-3+砷原子11017cm-3,,查圖4-14〔a〕知,17.=1\*GB3①證明當(dāng)unup且電子濃度n=ni時,材料的電導(dǎo)率最小,并求min的表達(dá)式。解:令因此,為最小點的取值=2\*GB3②試求300K時Ge和Si樣品的最小電導(dǎo)率的數(shù)值,并和本征電導(dǎo)率相對比。查表4-1,可知室溫下硅和鍺較純樣品的遷移率Si:Ge:非平衡載流子2.用強(qiáng)光照射n型樣品,假定光被均勻地吸收,產(chǎn)生過剩載流子,產(chǎn)生率為,空穴壽命為?!?〕寫出光照下過剩載流子所滿足的方程;〔2〕求出光照下到達(dá)穩(wěn)定狀態(tài)時的過載流子濃度。7.摻施主濃度ND=1015cm-3的n型硅,由于光的照射產(chǎn)生了非平衡載流子n=p=1014cm-3。試計算這種情況下的準(zhǔn)費(fèi)米能級位置,并和原來的費(fèi)米能級作對比。14.設(shè)空穴濃度是線性分布,在3us內(nèi)濃度差為1015cm-3,up=400cm2/(Vs)。試計算空穴擴(kuò)散電流密度。17.光照1cm的n型硅樣品,均勻產(chǎn)生非平衡載流子,電子-空穴對產(chǎn)生率為1017cm-3s-1。設(shè)樣品的壽命為10us,外表符合速度為100cm/s。試計算:〔1〕單位時間單位外表積在外表復(fù)合的空穴數(shù)?!?

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