材料測(cè)試方法智慧樹(shù)知到期末考試答案章節(jié)答案2024年江蘇大學(xué)

材料測(cè)試方法智慧樹(shù)知到期末考試答案+章節(jié)答案2024年江蘇大學(xué)電子束作用于樣品時(shí)深度大于10nm的位置不會(huì)產(chǎn)生二次電子。

答案:錯(cuò)晶體中的一部分相對(duì)于另一部分按特定的對(duì)稱關(guān)系生長(zhǎng)在一起，即形成了超點(diǎn)陣斑點(diǎn)。

答案:錯(cuò)SEM的分辨率主要取決于物理信號(hào)而不是衍射效應(yīng)和球差。

答案:對(duì)采用約翰遜型聚焦法能夠?qū)崿F(xiàn)X射線完全聚焦的原因是分光晶體的衍射晶面曲率半徑等于聚焦圓曲率半徑。

答案:錯(cuò)一般情況下，憑借某一個(gè)晶帶的衍射斑點(diǎn)，可以確定晶體的基本結(jié)構(gòu)。

答案:錯(cuò)電子束作用于樣品產(chǎn)生散射實(shí)際上是受到電子和原子核的庫(kù)侖力作用而發(fā)生偏轉(zhuǎn)。

答案:對(duì)消像散器形成的矯正磁場(chǎng)在強(qiáng)度上可調(diào)，在方位上不可調(diào)。

答案:錯(cuò)襯度是顯微圖像中不同區(qū)域的明暗差別

答案:對(duì)利用選區(qū)電子衍射可以在多晶體樣品中獲得單晶體衍射花樣。

答案:對(duì)結(jié)構(gòu)因子F是晶體結(jié)構(gòu)對(duì)衍射強(qiáng)度的影響因素。

答案:對(duì)當(dāng)晶體內(nèi)部的原子或離子產(chǎn)生有規(guī)律的位移或不同原子產(chǎn)生有序排列時(shí)，有可能使本來(lái)消光的斑點(diǎn)出現(xiàn)，衍射花樣中也將出現(xiàn)相應(yīng)的額外斑點(diǎn)。

答案:對(duì)投影鏡是用來(lái)形成第一幅高分辨電子顯微圖像或電子衍射花樣。

答案:錯(cuò)通過(guò)倒易原點(diǎn)的倒易平面只有一個(gè)。

答案:對(duì)物鏡光闌通常安裝在物鏡的背焦面上。

答案:對(duì)背散射電子產(chǎn)額的主要影響因素有（）。

答案:入射電子能量;樣品原子序數(shù);樣品傾斜角度愛(ài)瓦爾德球圖解法中，能夠描述入射束方向、衍射束方向和衍射晶面倒易矢量之間相對(duì)幾何關(guān)系的參數(shù)是（

）。

答案:k;;k′二次電子產(chǎn)額主要影響因素有（）。

答案:二次電子能譜特性;樣品傾斜角度;入射電子能量波譜儀與能譜儀相比，能譜儀優(yōu)點(diǎn)有（）。

答案:分析速度快;沒(méi)有機(jī)械傳動(dòng)部件;檢測(cè)效率高;對(duì)樣品表面沒(méi)有特殊要求透射電子顯微操作中，對(duì)于樣品的要求以下說(shuō)法正確的是（）。

答案:組織結(jié)構(gòu)能夠代表大塊樣品;表面效應(yīng)可忽略;杜絕腐蝕和氧化EBSD探頭采集（），重構(gòu)后獲得樣品微區(qū)組織和織構(gòu)等信息

答案:菊池花樣面心立方晶體（111）晶面族的多重性因素是

答案:8在入射電子束作用下被轟擊出來(lái)并離開(kāi)樣品表面的原子核外電子是（）。

答案:二次電子在SEM中，二次電子像襯度最亮的區(qū)域是（）。

答案:和電子束成60°的表面對(duì)于體心立方點(diǎn)陣，采用（

）方法進(jìn)行衍射花樣標(biāo)定比較簡(jiǎn)便。

答案:比值法采用離軸光線成像的是（

）

答案:暗場(chǎng)像在單晶體電子衍射花樣標(biāo)定過(guò)程中，利用以下哪個(gè)參數(shù)確定對(duì)應(yīng)的晶面（

）。

答案:d值為實(shí)現(xiàn)對(duì)X射線聚焦，約翰遜型聚焦法中分光晶體需要滿足（）。

答案:分光晶體衍射晶面的曲率半徑=倍聚焦圓半徑R計(jì)算晶帶軸指數(shù)的基本原理是（

）。

答案:晶帶定理選區(qū)光闌應(yīng)該加在什么位置以實(shí)現(xiàn)選取電子衍射操作？

答案:物鏡的像平面SEM中物鏡是弱磁透鏡，可為樣品室和透鏡之間預(yù)留檢測(cè)器安裝空間。

答案:對(duì)調(diào)節(jié)中間鏡使中間鏡的物平面和物鏡的像平面重合，實(shí)現(xiàn)電子衍射操作。

答案:錯(cuò)高分辨透射電子顯微術(shù)（HRTEM）是材料分子級(jí)別顯微組織結(jié)構(gòu)的相位襯度顯微術(shù)。

答案:錯(cuò)聚光鏡光闌一般安裝在物鏡的后焦面上。

答案:錯(cuò)閃爍體計(jì)數(shù)器探測(cè)信號(hào)是基于信號(hào)作用于閃爍體產(chǎn)生光、所產(chǎn)生的光作用于光敏陰極而產(chǎn)生電信號(hào)來(lái)實(shí)現(xiàn)探測(cè)的。

答案:對(duì)EBSD技術(shù)可廣泛應(yīng)用于顯微組織及織構(gòu)分析，其中織構(gòu)可采用極圖、反極圖及取向分布函數(shù)描述。

答案:對(duì)超點(diǎn)陣斑點(diǎn)一般出現(xiàn)在無(wú)序固溶體禁止反射的位置，強(qiáng)度一般較高。

答案:錯(cuò)盡管物質(zhì)的種類有千千萬(wàn)萬(wàn)，但卻沒(méi)有兩種衍射花樣完全相同的物質(zhì)。

答案:對(duì)零層倒易面上的各倒易矢量都和晶帶軸r=[uvw]垂直（⊥r）

答案:對(duì)機(jī)械拋光減薄法在減薄時(shí)應(yīng)該留有在最終減薄時(shí)應(yīng)該去除的硬化余量。

答案:對(duì)未知晶體結(jié)構(gòu)衍射花樣標(biāo)定時(shí)，應(yīng)該在幾個(gè)不同的方位攝取衍射花樣，測(cè)低指數(shù)斑點(diǎn)的R值。

答案:對(duì)入射束與試樣內(nèi)各晶面相對(duì)位向不同不會(huì)造成衍射強(qiáng)度的明顯差異。

答案:錯(cuò)波譜儀是逐一接收元素的特征波長(zhǎng)進(jìn)行成分分析；能譜儀是同時(shí)接收所有元素的特征X射線進(jìn)行成分分析的。

答案:對(duì)對(duì)于給定原子，其Kα線的波長(zhǎng)比Kβ線波長(zhǎng)短。

答案:錯(cuò)二次電子的產(chǎn)額隨樣品的傾斜度成變化，傾斜度最小，二次電子產(chǎn)額多。

答案:錯(cuò)布拉格方程的一般形式是2dsin2θ=λ。

答案:錯(cuò)高分辨顯微像的襯度由透射波與衍射波的相位差決定。

答案:對(duì)場(chǎng)發(fā)射電子槍比熱發(fā)射電子槍亮度更高，束斑尺寸更小，電子束相干性更好。

答案:對(duì)點(diǎn)陣參數(shù)精確測(cè)定時(shí)，應(yīng)盡可能選取高角度的衍射線。

答案:對(duì)HRTEM是透射束和衍射束干涉形成的襯度，反應(yīng)了晶體的周期性排列。

答案:對(duì)以下哪些是倒易陣點(diǎn)指數(shù)的約束條件（

）。

答案:非結(jié)構(gòu)消光;滿足晶帶定理X射線衍射方法有

答案:粉末多晶法;德拜法;周轉(zhuǎn)晶體法;勞厄法關(guān)于選區(qū)電子衍射，以下說(shuō)法正確的是（

）。

答案:在物鏡的像平面上插入選區(qū)光闌實(shí)現(xiàn)。;電鏡在獲得顯微圖像之后需要切換為電子衍射模式獲得衍射花樣;需要現(xiàn)在成像模式獲得放大的顯微圖像入射電子束穿過(guò)樣品經(jīng)物鏡聚焦成像，在

上形成衍射花樣，在

上形成顯微圖像。

答案:物鏡背焦面;像平面以下哪些可以用來(lái)搭載樣品？

答案:銅網(wǎng);載網(wǎng)支持膜;微柵膜;碳支持膜X射線衍射儀常規(guī)測(cè)量中衍射強(qiáng)度的測(cè)量方法有哪些？

答案:連續(xù)掃描;步進(jìn)掃描體心立方晶體的衍射條件和消光條件分別是

和

。

答案:（H+K+L）偶數(shù);（H+K+L）奇數(shù)在衍射分析中，θ的名稱可以是

答案:掠射角;衍射半角;布拉格角下列哪些信號(hào)可通過(guò)電子束與固體物質(zhì)作用產(chǎn)生？

答案:特征X射線;二次電子;背散射電子;俄歇電子關(guān)于電子衍射與X射線衍射的說(shuō)法，以下正確的是（

）。

答案:電子衍射的散射能力高;X射線的衍射角相對(duì)較大衍射儀法中的試樣形狀是

答案:塊狀粉末多晶電磁透鏡可用于（）的聚焦。

答案:電子束零層倒易面的法線和正空間中的晶帶軸[uvw]是（

）關(guān)系。

答案:重合EBSD中CCD探頭采集來(lái)自樣品表面（）薄層的衍射花樣。

答案:幾十納米當(dāng)入射束不嚴(yán)格滿足布拉格方程的時(shí)候，衍射情況應(yīng)該是

。

答案:產(chǎn)生弱衍射束（）、檢測(cè)信號(hào)類型和檢測(cè)部位原子序數(shù)是影響SEM分辨率的三大要素。

答案:電子束斑大小SEM及TEM中配備的成分分析附件中最常見(jiàn)的儀器是（）。

答案:能譜儀（

）決定透射電子顯微鏡分辨率的高低。

答案:物鏡EBSD中衍射花樣通過(guò)Hough變換，是將實(shí)測(cè)的菊池線轉(zhuǎn)成（）。

答案:空間的點(diǎn)電子衍射的衍射角一般為多少？

答案:rad以下哪個(gè)不屬于高分辨透射電子顯微鏡的改進(jìn)方向？

答案:增加球差用來(lái)進(jìn)行晶體結(jié)構(gòu)分析的X射線學(xué)分支是

答案:X射線衍射學(xué)薄晶體樣品應(yīng)該用

來(lái)獲得滿意的圖像反差。

答案:衍射襯度關(guān)于高分辨透射電子顯微術(shù)，以下說(shuō)法錯(cuò)誤的是（

）。

答案:增大了樣品臺(tái)的傾轉(zhuǎn)角當(dāng)單色X射線照射多晶試樣時(shí)，衍射線將分布在一組以入射線為軸的圓錐面上，圓錐面的頂角為

答案:4θEBSD菊池花樣形成，是試樣所激發(fā)（）電子滿足布拉格方程，發(fā)生衍射效應(yīng)的結(jié)果。

答案:背散射SEM鏡筒中聚光鏡及物鏡均為（）。

答案:電磁透鏡用愛(ài)瓦爾德球圖解說(shuō)明電子衍射過(guò)程中，以下錯(cuò)誤的是（）。（）

答案:k是衍射波的波矢量晶體正空間中的點(diǎn)陣晶面對(duì)應(yīng)倒易空間中的點(diǎn)。

答案:對(duì)脈沖高度分析器可以剔除那些對(duì)衍射分析不需要的干擾脈沖，從而達(dá)到降低背底和提高峰背比的作用

答案:對(duì)X射線衍射法測(cè)定結(jié)晶度是通過(guò)測(cè)定樣品中晶相與非晶相的衍射方位來(lái)實(shí)現(xiàn)的

答案:錯(cuò)X射線衍射方法有哪些？

答案:周轉(zhuǎn)晶體法;勞埃法;粉末法非晶物質(zhì)的衍射圖由少數(shù)漫散峰組成

答案:對(duì)假設(shè)電子從燈絲上逸出時(shí)的能量為0，請(qǐng)問(wèn)在加速電壓為10000V時(shí)電子最終的能量大約是多少？

答案:10000eV材料的內(nèi)應(yīng)力分為三類，X射線衍射方法可以測(cè)定

答案:第一類應(yīng)力（宏觀應(yīng)力）當(dāng)X射線將某