M2M Gekko中的延時(shí)法則聚焦_第1頁
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文檔簡介

在相控陣技術(shù)中,延時(shí)法則是必不可少的。通過采用每個(gè)陣元合理的延時(shí),我們可以實(shí)現(xiàn)電子掃查、聲束偏轉(zhuǎn)、聲束聚焦。本文將著重介紹聚焦。聚焦,顧名思義,讓聲場的能量聚焦在很小的點(diǎn)上。這提高了側(cè)向分辨力,因此能夠分辨兩個(gè)彼此靠近的指示。通過對指示處發(fā)射更多的能量,也能提高信噪比。但是,聚焦在正確的位置是非常重要的。為了幫助操作人員處理大多數(shù)情況,M2M相控陣儀器提供了三種聚焦選項(xiàng),從而不需要使用外部的軟件計(jì)算延時(shí)和/或?qū)刖劢狗▌t:深度聚焦聲程聚焦投影聚焦深度聚焦是最著名的聚焦類型,也是大多數(shù)相控陣儀器使用的最典型的聚焦。操作人員只需要規(guī)定聚焦的深度。下圖顯示的就是ASMT2491標(biāo)準(zhǔn)中的試塊,試塊上加工有1mm的一排橫通孔,孔深10mm。聲程聚焦:Gekko儀器能讓聲束聚焦在相同的聲程。ASTM2491試塊中加工了兩個(gè)陣列的橫通孔,分布在R25mm和R50mm的圓弧上。采用扇掃,將聲程聚焦在R25mm和R50mm,獲得橫通孔的影像。我們可以看到聚焦對橫通孔的影像。如果聚焦點(diǎn)設(shè)置不合理,信噪比相對很差。投影聚焦:操作員可以規(guī)定距離參考點(diǎn)特定的距離和角度,使得聲束進(jìn)行聚焦。我們可以看到ASTM2491標(biāo)準(zhǔn)中試塊上加工的斜向分布的一排橫通孔。它能很好地聚焦在工件中任意一條線,如坡口面上。所有的延時(shí)法則對線陣列探頭、矩陣列探頭和雙線陣、雙面陣探頭都適用,它允許操作者在檢測時(shí)優(yōu)化和調(diào)節(jié)聚焦參數(shù)。同

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