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文檔簡介

計算機在材料科學中的應用第5講本節(jié)內容:(信息技術在材料科學數據與圖形處理中的應用)Origin軟件在材料科學中的應用(上機)Origin繪圖功能例2-12.采用Nb5+、Ti4+、Y3+和Zn2+四種離子分別對NASICON陶瓷進行Zr位摻雜,采用網絡分析儀測試了四個試樣的介電常數,請繪制介電常數實部的點線圖。TSCcontentDensity(g·cm-3)Porosity(%)10%2.2125.820%2.4121.230%2.5219.440%2.7115.8例2-13.現采用等離子噴涂的方法制備了TSC/NASICON復合涂層,并測試了不同TSC含量下涂層的密度和氣孔率如表2-16所示。請繪制TSC/NASICON復合涂層密度和氣孔率隨含量變化的雙Y圖。表2-16TSC/NASICON復合涂層的密度和氣孔率例2-14.現采用高溫固相法制備了Na3Zr1.6Ti0.4Si2PO12陶瓷和Na3Zr1.8Ti0.2Si2PO12陶瓷,并采用X射線衍射儀對其進行了物相檢測,采用Jade軟件對其結果進行了分析,發(fā)現PDF#84-1200卡片能夠與其峰位較好地擬合。請繪制陶瓷的XRD譜圖,插入標準卡,標出雜質峰。例2-15

采用等離子噴涂的方法制備熱障涂層時,采用spraywatch測溫測速設備監(jiān)測不同工藝條件下飛行粒子的溫度和速度,并測試了在這些工藝條件下涂層的氣孔率,如表2-17所示。請繪制在不同工藝條件下飛行粒子的溫度和速度以及涂層氣孔率的三維圖。T/℃v/(m/s)氣孔率/%2843.18180.189.22853.9183.4110.52689.39182.3614.52692.23182.6713.83213.31228.626.83279.93225.837.83263.78229.57.93264.172316.13413.69400.935.23418.87405.865.13420.1402.225.13523.83450.675.13245.39380.884.23242.03387.914.63250.7399.734.6表2-17不同工藝條件下飛行粒子的溫度和速度例2-16.采用Excel軟件模擬了不同厚度下材料的計算反射率,請繪制反射率隨頻率和厚度變化的三維地形圖。ReζReζ2423.2112794.312653.3215034.334793.4117994.515023.6519894.627003.7822014.829883.9925234.8910774.0327894.9112304.22

例2-17.在等離子噴涂制備涂層中,飛行粒子經過熔化、飛行、撞擊基板、扁平和堆垛一系列微觀過程形成最終的涂層。大量學者研究了粒子扁平率與雷諾數之間的對應關系,并得到了相應的模型,其中應用較多的有ξ=1.04Re^0.2、ξ=0.83Re^0.21和ξ=1.2941Re^0.2三種模型。本次實驗采用狹縫收集法獲得了一系列飛行粒子扁平率和雷諾數之間的對應關系如表2-18所示。請將實驗數據與文獻模型繪制到一張圖中,并進行對比。表2-18粒子扁平率與雷諾數間的測試數據摻雜量Nba(?)Tia(?)Ya(?)Nbb(?)Tib(?)Yb(?)Nbc(?)Tic(?)Yc(?)Nbβ(°)Tiβ(°)Yβ(°)0.115.71115.6415.6119.1129.0859.0329.2349.2339.221123.82123.82123.530.215.74515.68815.5779.1529.0789.0289.2549.2489.201124.12123.85123.310.315.78815.72115.5449.1589.0999.0279.2899.2579.199124.23124.07123.180.415.75415.67815.7719.1549.1019.0149.2669.2229.203124.21124.02123.11例2-18.采用Jade軟件計算了不同含量Nb5+、Ti4+和Y3+四種離子摻雜NASICON陶瓷的點陣常數,具體參數如表2-19所示。請將點陣常數和體積隨摻雜量變化的曲線繪制出來,并在Origin軟件中融合四圖。表2-19不同含量

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