材料科學(xué)中的信息技術(shù)應(yīng)用基礎(chǔ) 課件 第5講 Origin繪圖功能_第1頁
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計(jì)算機(jī)在材料科學(xué)中的應(yīng)用第5講本節(jié)內(nèi)容:(信息技術(shù)在材料科學(xué)數(shù)據(jù)與圖形處理中的應(yīng)用)Origin軟件在材料科學(xué)中的應(yīng)用(上機(jī))Origin繪圖功能例2-12.采用Nb5+、Ti4+、Y3+和Zn2+四種離子分別對(duì)NASICON陶瓷進(jìn)行Zr位摻雜,采用網(wǎng)絡(luò)分析儀測(cè)試了四個(gè)試樣的介電常數(shù),請(qǐng)繪制介電常數(shù)實(shí)部的點(diǎn)線圖。TSCcontentDensity(g·cm-3)Porosity(%)10%2.2125.820%2.4121.230%2.5219.440%2.7115.8例2-13.現(xiàn)采用等離子噴涂的方法制備了TSC/NASICON復(fù)合涂層,并測(cè)試了不同TSC含量下涂層的密度和氣孔率如表2-16所示。請(qǐng)繪制TSC/NASICON復(fù)合涂層密度和氣孔率隨含量變化的雙Y圖。表2-16TSC/NASICON復(fù)合涂層的密度和氣孔率例2-14.現(xiàn)采用高溫固相法制備了Na3Zr1.6Ti0.4Si2PO12陶瓷和Na3Zr1.8Ti0.2Si2PO12陶瓷,并采用X射線衍射儀對(duì)其進(jìn)行了物相檢測(cè),采用Jade軟件對(duì)其結(jié)果進(jìn)行了分析,發(fā)現(xiàn)PDF#84-1200卡片能夠與其峰位較好地?cái)M合。請(qǐng)繪制陶瓷的XRD譜圖,插入標(biāo)準(zhǔn)卡,標(biāo)出雜質(zhì)峰。例2-15

采用等離子噴涂的方法制備熱障涂層時(shí),采用spraywatch測(cè)溫測(cè)速設(shè)備監(jiān)測(cè)不同工藝條件下飛行粒子的溫度和速度,并測(cè)試了在這些工藝條件下涂層的氣孔率,如表2-17所示。請(qǐng)繪制在不同工藝條件下飛行粒子的溫度和速度以及涂層氣孔率的三維圖。T/℃v/(m/s)氣孔率/%2843.18180.189.22853.9183.4110.52689.39182.3614.52692.23182.6713.83213.31228.626.83279.93225.837.83263.78229.57.93264.172316.13413.69400.935.23418.87405.865.13420.1402.225.13523.83450.675.13245.39380.884.23242.03387.914.63250.7399.734.6表2-17不同工藝條件下飛行粒子的溫度和速度例2-16.采用Excel軟件模擬了不同厚度下材料的計(jì)算反射率,請(qǐng)繪制反射率隨頻率和厚度變化的三維地形圖。ReζReζ2423.2112794.312653.3215034.334793.4117994.515023.6519894.627003.7822014.829883.9925234.8910774.0327894.9112304.22

例2-17.在等離子噴涂制備涂層中,飛行粒子經(jīng)過熔化、飛行、撞擊基板、扁平和堆垛一系列微觀過程形成最終的涂層。大量學(xué)者研究了粒子扁平率與雷諾數(shù)之間的對(duì)應(yīng)關(guān)系,并得到了相應(yīng)的模型,其中應(yīng)用較多的有ξ=1.04Re^0.2、ξ=0.83Re^0.21和ξ=1.2941Re^0.2三種模型。本次實(shí)驗(yàn)采用狹縫收集法獲得了一系列飛行粒子扁平率和雷諾數(shù)之間的對(duì)應(yīng)關(guān)系如表2-18所示。請(qǐng)將實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)與文獻(xiàn)模型繪制到一張圖中,并進(jìn)行對(duì)比。表2-18粒子扁平率與雷諾數(shù)間的測(cè)試數(shù)據(jù)摻雜量Nba(?)Tia(?)Ya(?)Nbb(?)Tib(?)Yb(?)Nbc(?)Tic(?)Yc(?)Nbβ(°)Tiβ(°)Yβ(°)0.115.71115.6415.6119.1129.0859.0329.2349.2339.221123.82123.82123.530.215.74515.68815.5779.1529.0789.0289.2549.2489.201124.12123.85123.310.315.78815.72115.5449.1589.0999.0279.2899.2579.199124.23124.07123.180.415.75415.67815.7719.1549.1019.0149.2669.2229.203124.21124.02123.11例2-18.采用Jade軟件計(jì)算了不同含量Nb5+、Ti4+和Y3+四種離子摻雜NASICON陶瓷的點(diǎn)陣常數(shù),具體參數(shù)如表2-19所示。請(qǐng)將點(diǎn)陣常數(shù)和體積隨摻雜量變化的曲線繪制出來,并在Origin軟件中融合四圖。表2-19不同含量

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