【正版授權(quán)-英語版】 ISO 20263:2024 EN Microbeam analysis - Analytical electron microscopy - Method for the determination of interface position in the cross-sectional image of the layered materi

上傳人：中國標準出版社 IP屬地：四川上傳時間：2024-11-08 格式：PDF 積分：1440

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標準號：ISO 20263:2024 EN
標準名稱：微束分析——分析電子顯微學(xué)——層狀材料層界面位置測定方法（微束分析）——橫截面圖像中層狀材料層界面位置測定方法（電子顯微學(xué)）
英文名稱：Microbeam analysis — Analytical electron microscopy — Method for the determination of interface position in the cross-sectional image of the layered materials
標準狀態(tài)：現(xiàn)行
發(fā)布日期：2024-11-06

1.定義和術(shù)語：標準中詳細解釋了微束分析、分析電子顯微術(shù)、層狀材料、層界面等術(shù)語的含義。

2.方法和過程：這部分詳細描述了如何進行微束分析和電子顯微術(shù)，包括樣品準備、掃描電子顯微鏡的操作、圖像處理等步驟。

3.層界面位置的確定：提供了確定層狀材料層界面位置的方法，包括選擇適當(dāng)?shù)挠^察角度、識別層界面、測量層界面的位置等步驟。

4.儀器和設(shè)備：描述了進行微束分析和電子顯微術(shù)所需的儀器和設(shè)備，包括掃描電子顯微鏡、探針、軟件等。

5.安全和防護：強調(diào)了在操作微束分析和電子顯微鏡時需要注意的安全和防護措施，包括個人防護裝備、實驗室安全規(guī)定等。

6.數(shù)據(jù)準確性和可靠性：強調(diào)了數(shù)據(jù)準確性和可靠性在微束分析和電子顯微術(shù)中的重要性，并提供了一些質(zhì)量控制和保證措施。

以上是ISO20263:2024EN微束分析—分析電子顯微術(shù)—層狀材料層界面位置確定的方法標準的詳細內(nèi)容解釋。該標準對于從事材料科學(xué)研究、電子顯微術(shù)研究、材料制備等領(lǐng)域的人員具有重要的參考價值。

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