材料結(jié)構(gòu)表征重點(diǎn)_第1頁(yè)
材料結(jié)構(gòu)表征重點(diǎn)_第2頁(yè)
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材料結(jié)構(gòu)表征重點(diǎn)_第4頁(yè)
材料結(jié)構(gòu)表征重點(diǎn)_第5頁(yè)
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1紫外光譜1紫外吸收光譜:電子躍遷光譜,吸收光波長(zhǎng)范圍200-400nm(近紫外區(qū)),可用于結(jié)構(gòu)鑒定和定量分析。產(chǎn)生:外層電子從基態(tài)躍遷到激發(fā)態(tài)。2四種電子能級(jí)躍遷所需能量△E大小順序:nfn大<nfn大<n^a大<af。大3生色基:可以產(chǎn)生nfn*和nfn*躍遷的基團(tuán)。如一C=C—,—N=N—,C=O,C=S,芳環(huán),共軛雙鍵4助色基;本身不具有生色基作用,但與生色基相連時(shí),通過非鍵電子的分配,擴(kuò)展了生色基的共軛效應(yīng),影響生色基的吸收波長(zhǎng),增大吸收系數(shù),因常使化合物的顏色加深,故稱助色基。5紅移:由于化合物結(jié)構(gòu)變化(共軛、引入助色團(tuán)取代基)或采用不同溶劑后,吸收峰位置向長(zhǎng)波方向的移動(dòng),叫紅移(長(zhǎng)移)。6藍(lán)移:由于化合物結(jié)構(gòu)變化(共軛、引入助色團(tuán)取代基)或采用不同溶劑后,吸收峰位置向短波方向的移動(dòng),叫藍(lán)移(紫移,短移)7吸收譜帶的類型:R吸收帶,K吸收帶,B吸收帶,E吸收帶8.高強(qiáng)度的吸收為共軛重鍵,270nm以上左右的低強(qiáng)度吸收可能為醛酮的羰基吸收,210nm左右的低強(qiáng)度吸收可能為羧基及其衍生物,250?300nm左右的中等強(qiáng)度吸收表明有芳環(huán)存在2紅外光譜1紅外光譜定義:當(dāng)樣品受到頻率連續(xù)變化的紅外光照射時(shí),分子吸收某些頻率的輻射,并由其振動(dòng)運(yùn)動(dòng)或轉(zhuǎn)動(dòng)運(yùn)動(dòng)引起偶極矩的凈變化,產(chǎn)生的分子振動(dòng)和轉(zhuǎn)動(dòng)能級(jí)從基態(tài)到激發(fā)態(tài)的躍遷,從而形成的分子吸收光譜稱為紅外光譜。又稱為分子振動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)光譜。2紅外光譜圖:縱坐標(biāo)為吸收強(qiáng)度,橫坐標(biāo)為波長(zhǎng)A(微米)和波數(shù)1/人單位:cm-1??煞譃閮蓚€(gè)區(qū),即官能團(tuán)區(qū)和指紋區(qū)。3.Lambert-Beer定律:A=log(I0/I)=klcA:吸光度I0,I:入射光和透射光的強(qiáng)度k:吸光系數(shù)l:樣品厚度c:樣品濃度4.IR產(chǎn)生的條件:(1)輻射應(yīng)具有能滿足物質(zhì)產(chǎn)生振動(dòng)躍遷所需的能量;(2)輻射與物質(zhì)間有相互偶合作用。對(duì)稱分子:沒有偶極矩,輻射不能引起共振,無(wú)紅外活性。如:N2、O2、Cl2等。非對(duì)稱分子:有偶極矩,紅外活性。.分子中基團(tuán)的基本振動(dòng)形式:伸縮振動(dòng)(包括對(duì)稱伸縮振動(dòng),反對(duì)稱伸縮振動(dòng))彎曲振動(dòng)(包括面內(nèi)彎曲與面外彎曲).影響基團(tuán)頻率發(fā)生位移的因素:A誘導(dǎo)效應(yīng)。吸電子基團(tuán)使吸收峰向高頻位移B共軛效應(yīng)。共軛效應(yīng)使碳碳雙鍵的伸縮振動(dòng)頻率向低頻位移C空間效應(yīng);場(chǎng)效應(yīng),空間位阻,環(huán)張力D氫鍵效應(yīng):伸縮振動(dòng)向低頻位移,彎曲振動(dòng)向高頻位移7常見的基團(tuán)頻率:羰基伸縮振動(dòng)在1600?1900cm-1之間,往往是譜圖的第一強(qiáng)峰,特征非常明顯;C=C伸縮振動(dòng)出現(xiàn)在1600?1660cm-1之間,一般強(qiáng)度較弱;單核芳烴的C=C伸縮振動(dòng)出現(xiàn)在1500~1480cm-1和1600~1590cm-1兩個(gè)區(qū)域。是鑒定芳核的重要標(biāo)志。2000~2500cm-1是叁鍵和累積雙鍵區(qū)。1370~1380cm-1為甲基的彎曲振動(dòng)區(qū).多原子的簡(jiǎn)振振動(dòng)數(shù)目為3n-6,如水分子共有三個(gè)簡(jiǎn)振振動(dòng),直線型分子有3n-5個(gè)簡(jiǎn)振振動(dòng)。簡(jiǎn)振振動(dòng)包括伸縮振動(dòng)(鍵長(zhǎng)發(fā)生變化)與彎曲振動(dòng)(鍵角發(fā)生變化).不飽和度=(2X碳原子數(shù)+2-氫原子數(shù)-鹵原子數(shù)+氮原子數(shù)):2,氧硫原子不影響不飽和度,Na與氫原子等價(jià)。.材料結(jié)構(gòu)表征的三個(gè)任務(wù):成分分析,結(jié)構(gòu)測(cè)定,形貌觀察。結(jié)構(gòu)測(cè)定以衍射方法為主,形貌觀察主要是依靠顯微鏡。3核磁共振氫譜.產(chǎn)生核磁共振的條件:(1)IW0的自旋核(2)外磁場(chǎng)B0(3)與B0相互垂直的射頻場(chǎng)B1,且vl=V0,v=Y-B0/2n.弛豫過程:在電磁波的作用下,當(dāng)hv對(duì)應(yīng)于分子中某種能級(jí)(分子振動(dòng)能級(jí)、轉(zhuǎn)動(dòng)能級(jí)、電子能級(jí)、核能級(jí)等)的能量差n時(shí),分子可以吸收能量,由低能態(tài)躍遷到高能態(tài)。在電磁波的作用下,激發(fā)態(tài)的分子可以放出能量回到低能態(tài),重建Boltzmann分布。即高能態(tài)的核以非輻射的形式放出能量回到低能態(tài)重建Boltzmann分布。兩種弛豫過程:自旋-晶格弛豫與自旋-自旋弛豫.核外電子云的密度高,。較大,核的共振吸收高場(chǎng)(或低頻)位移,核外電子云的密度低,O較小,核的共振吸收低場(chǎng)(或高頻)位移.為什么選用TMS(四甲基硅烷)作為標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)?(1)屏蔽效應(yīng)強(qiáng),共振信號(hào)在高場(chǎng)區(qū)9值規(guī)定為0),絕大多數(shù)吸收峰均出現(xiàn)在它的左邊。(2)結(jié)構(gòu)對(duì)稱,是一個(gè)單峰。(3)容易回收(b.p低),與樣品不反應(yīng)、不締合。.NMR圖譜:圖中的橫坐標(biāo)為化學(xué)位移6.6=0處的峰為TMS的譜峰.橫坐標(biāo)左向右,磁場(chǎng)增強(qiáng),頻率減小縱坐標(biāo):峰的強(qiáng)度階梯狀曲線為積分曲線,積分高度為對(duì)應(yīng)積分面積,可定量反映氫核的信息6影響化學(xué)位移的因素:誘導(dǎo)效應(yīng),使化學(xué)位移增大共軛效應(yīng),取代基的共軛效應(yīng)分拉電子和推電子,分別使化學(xué)位移增大和減小。如苯環(huán)上鍵入一OH和一OCH3,均為給電子基團(tuán),使得鄰位碳上電子云密度增加,屏蔽效應(yīng)增加,化學(xué)位移向高場(chǎng)移動(dòng),值減小。而一CHO為拉電子基團(tuán),使得鄰位碳上的氫表現(xiàn)為順磁去屏蔽,化學(xué)位移向低場(chǎng)移動(dòng)。值增大化學(xué)鍵的各向異性:乙烯,乙炔,苯分子中化學(xué)位移順序是苯7.3)>乙烯〉乙炔。炔類氫化學(xué)位移介于烷烴氫和烯烴氫之間。烯烴氫化學(xué)位移一般在4.5?8.0之間。碳碳單鍵的價(jià)電子是。電子,也能產(chǎn)生各向異性效應(yīng),當(dāng)碳上的逐漸被烷基取代時(shí),剩下的氫受到越來(lái)越強(qiáng)的去屏蔽效應(yīng),而使共振信號(hào)移向低場(chǎng),化學(xué)位移增大。氫鍵效應(yīng):氫鍵使質(zhì)子在較低場(chǎng)發(fā)生共振,無(wú)論是分子間氫鍵還是分子內(nèi)氫鍵均使氫核受到去屏蔽作用而向低場(chǎng)移動(dòng),即化學(xué)位移增大7.對(duì)于鄰碳磁等價(jià)核之間的偶合,其偶合裂分規(guī)律如下:一個(gè)(組)磁等價(jià)質(zhì)子與相鄰碳上的n個(gè)磁等價(jià)質(zhì)子偶合,將產(chǎn)生n+1重峰。如,CH3CH20H(2+1;3+1;1)一個(gè)(組)磁等價(jià)質(zhì)子與相鄰碳上的兩組質(zhì)子(分別為m個(gè)和n個(gè)質(zhì)子)偶合,如果該兩組碳上的質(zhì)子性質(zhì)類似的,則將產(chǎn)生m+n+1重峰,如CH3CH2CH3;如果性質(zhì)不類似,則將產(chǎn)生(m+1)(n+1)重峰,如CH3CH2CH2NO2;3)裂分峰的強(qiáng)度比符合(a+b)n展開式各項(xiàng)系數(shù)之比;4)一組多重峰的中點(diǎn),就是該質(zhì)子的化學(xué)位移值5)磁全同質(zhì)子之間觀察不到自旋偶合分裂,如C1CH2CH2C1,只有單重峰。6)化學(xué)等價(jià):分子中若有一組氫核,它們的化學(xué)環(huán)境完全相同,化學(xué)位移也嚴(yán)格相等,則這些核稱為化學(xué)等價(jià)的核。7)磁等價(jià):分子中相同種類的核(或相同基團(tuán)),不僅化學(xué)位移相同,而且還以相同的偶合常數(shù)與分子中其它的核相偶合,只表現(xiàn)一個(gè)偶合常數(shù),這類核稱為磁等同的核8.1.孤立體系:?jiǎn)畏澹合噜徧忌蠠o(wú)H,或沒有與C相連(獨(dú)立體系)季碳,羰基,O-C-,酯基等孤立體系2.耦合體系:雙重峰:相鄰的碳上只有一個(gè)H三重峰:相鄰碳上有二個(gè)等價(jià)H(—CH2一)或(-CHI-CHx-CHI,)四重峰:相鄰碳上有三個(gè)H或一CH2—CHx—CH1,)4-3裂分峰為,-CH2CH33、復(fù)雜的多重峰:與之相鄰有多個(gè)碳(三2)上都有H;情況較復(fù)雜。4.質(zhì)譜.分子受到裂解后,形成帶正電荷的離子,這些離子按照其質(zhì)量m和電荷z的比值m/z(質(zhì)荷比)大小依次排列成譜被記錄下來(lái),成為質(zhì)譜(MS)。紅外光譜(拉曼光譜):原子(基團(tuán))紫外光譜:外層電子(共軛結(jié)構(gòu))核磁共振譜:原子核(分子骨架)質(zhì)譜:離子(碎片信息).質(zhì)譜表示法:橫坐標(biāo)為質(zhì)荷比,從左到右逐漸增大。縱坐標(biāo)為離子流強(qiáng)度,各種離子流強(qiáng)度的百分?jǐn)?shù)之和為100%,最強(qiáng)峰為100%.質(zhì)譜裂解表示法:正電荷表示法,電荷轉(zhuǎn)移表示法。共價(jià)鍵斷裂方式:均裂、異裂、半異裂。質(zhì)譜中的離子有分子離子,碎片離子,同位素離子(同位素離子峰一般出現(xiàn)在相應(yīng)分子離子峰或碎片離子峰的右側(cè)附近,m/e用M+1,M+2等表示。)亞穩(wěn)離子,多電荷離子。.氮規(guī)則:在分子中只含C,H,O,S,X元素時(shí),相對(duì)分子質(zhì)量Mr為偶數(shù);若分子中除上述元素外還含有N,則含奇數(shù)個(gè)N時(shí)相對(duì)分子質(zhì)量Mr為奇數(shù),含偶數(shù)個(gè)N時(shí)相對(duì)分子質(zhì)量Mr為偶數(shù)。.各類化合物質(zhì)譜特征烷烴質(zhì)譜特征:a、直鏈烷烴的M??捎^察到,其強(qiáng)度隨相對(duì)分子質(zhì)量增大而減??;b、M-15峰最弱,長(zhǎng)鏈烴不易失去甲基;c、直鏈烷烴有典型的CnH+2n+1離子,其中m/z43(+C3H7)和m/z57(+C4H9)總是很強(qiáng)(基準(zhǔn)峰,很穩(wěn)定);枝鏈烴往往在分枝處裂解形成的峰強(qiáng)度較大(仲或叔正離子)且優(yōu)先失去最大烷基使得CnH+2n+1和CnH+2n離子明顯增加;d、環(huán)烷烴的M峰一般較強(qiáng);環(huán)開裂時(shí)一般失去含兩個(gè)碳的碎片,出現(xiàn)m/z28(C2H4)+.,m/z29(C2H5)+和M-28、M-29的峰烯烴質(zhì)譜特征:a、烯烴易失去一個(gè)n電子,其分子離子峰明顯,強(qiáng)度隨相對(duì)分子質(zhì)量增大而減弱;b、烯烴質(zhì)譜中最強(qiáng)峰(基準(zhǔn)峰)是雙鍵|3位置Ca-CB鍵斷裂產(chǎn)生的峰,帶有雙鍵的碎片帶正電荷;c、烯烴往往發(fā)生McLafferty重排裂解,產(chǎn)生CnH2n離子;d、環(huán)己烯類發(fā)生逆向狄爾斯阿爾德裂解;e、無(wú)法確定烯烴分子中雙鍵的位置。芳烴質(zhì)譜特征:a、分子離子峰明顯,M+1和M+2可精確量出,便于計(jì)算分子式;b、帶烴基側(cè)鍵的芳烴常發(fā)生芐基型裂解,產(chǎn)生Tropyliumionm/z=91(往往是基準(zhǔn)峰);若基準(zhǔn)峰的m/z比91大nX14,則表明苯環(huán)a-碳上另有甲基取代;c、帶有正丙基或丙基以上側(cè)鍵的芳烴(含Y-H)經(jīng)McLafferty重排產(chǎn)生C7H8+.離子(m/z=92);d、側(cè)鍵a裂解發(fā)生機(jī)會(huì)很小,但也有可能。X射線衍射.X射線的波長(zhǎng)范圍為0.01?10nm,特征:X射線對(duì)物質(zhì)有很強(qiáng)的穿透能力,可用于無(wú)損檢測(cè)等;X射線的波長(zhǎng)正好與物質(zhì)結(jié)構(gòu)中的原子,離子間的距離相當(dāng),使它能被晶體衍射;X射線光子的能量與原子內(nèi)層電子的激發(fā)能相當(dāng).X射線連續(xù)譜實(shí)驗(yàn)規(guī)律:連續(xù)譜的形成與短波限的解釋:X射線標(biāo)識(shí)譜的定義:當(dāng)加在X射線管兩端的電壓增高到與陽(yáng)極靶材相應(yīng)的某一特定值V在連續(xù)譜的某一特定的波長(zhǎng)位置上,會(huì)出現(xiàn)一系列強(qiáng)度很高,波長(zhǎng)范圍很窄的線性光譜,它們的波長(zhǎng)對(duì)一定材料的陽(yáng)極靶有嚴(yán)格恒定的數(shù)值,此波長(zhǎng)可作為陽(yáng)極靶材的識(shí)標(biāo)故稱識(shí)標(biāo)X譜3光電效應(yīng):以光子激發(fā)原子所發(fā)生的激發(fā)和輻射過程,就叫做光電效應(yīng)。4X射線衍射分析的基本原理:衍射線的分布規(guī)律由晶胞的大小,形狀和位向決定的而強(qiáng)度則由原子在晶胞中得位置,數(shù)量和種類決定的5布拉菲點(diǎn)陣:14種,7個(gè)晶系(立方四方三方六方正交單斜三斜)面間距公式:立方,四方,正交。課本224頁(yè)6布拉格方程:2dsin0=nA,0為入射線或反射線與反射面的夾角,入為X射線的波長(zhǎng),n為整數(shù),稱為反射級(jí)數(shù)。布拉格方程是X射線在晶體中產(chǎn)生衍射的基本條件,反映了衍射線方向與晶體結(jié)構(gòu)之間的關(guān)系。7衍射線的相對(duì)強(qiáng)度主要由哪幾個(gè)因子決定?結(jié)構(gòu)因子多重性因子角因子吸收因子溫度因子8德拜相機(jī)底片的安裝及衍射花樣的計(jì)算公式:底片安裝方式有正裝法,倒裝法不對(duì)稱裝法正裝法:若相機(jī)半徑為R,則0=S/4R(0:弧度)倒裝法:0=n/2-S/4R(弧度)不對(duì)稱裝法:40/S=180o/W(前反射)(360o-40)/S=180o/W(背反射).照相機(jī)的分辨本領(lǐng)與什么因素有關(guān)?照相機(jī)的分辨本領(lǐng)是指衍射花樣中兩條相鄰線條分離程度的定量表征。1相機(jī)半徑越大,分辨本領(lǐng)越高2,0角越大,分辨本領(lǐng)越高3X射線的波長(zhǎng)越大,分辨本領(lǐng)越高4,面間距越大,分辨率越低。P240.獲取物質(zhì)衍射圖樣的方法按使用的設(shè)備可分為兩大類,粉晶照相法和衍射儀法.X射線衍射儀包括X射線發(fā)生器,測(cè)角儀、自動(dòng)測(cè)量與記錄系統(tǒng)等一整套設(shè)備。衍射儀法的優(yōu)點(diǎn):衍射儀法是用計(jì)數(shù)管來(lái)接受眼射線的,它可省去照明法中暗室內(nèi)裝底片,長(zhǎng)時(shí)間曝光,沖洗和測(cè)量底片等繁復(fù)費(fèi)時(shí)的工作,又具有快速,精確,靈敏,易于自動(dòng)化操作及擴(kuò)展功能的優(yōu)點(diǎn)。12彳衍射花樣的基本要素:1衍射線的峰位:可以測(cè)定晶體常數(shù);2,衍射線線形:可以測(cè)晶粒大小3衍射線強(qiáng)度:可以測(cè)物相含量等。.定量分析原理及主要方法:原理—一在多物質(zhì)中各相的衍射線強(qiáng)度I隨其含量x的增加而提高;主要方法:內(nèi)標(biāo)法,外表法,無(wú)標(biāo)樣相分析法.定性分析的原理及步驟:原理一一根據(jù)晶體對(duì)X射線的衍射特征一衍射線的方向及強(qiáng)度來(lái)達(dá)到鑒定結(jié)晶物質(zhì)的。步驟:A用照相法或衍射法攝得試樣的衍射譜,B確定衍射線峰位,C取三強(qiáng)線作為檢索依據(jù)查找Hannawalt索引。應(yīng)用:1,多晶體點(diǎn)陣常數(shù)的精確測(cè)定;2,晶面取向度的測(cè)定;3,晶體結(jié)晶度的測(cè)定;4,轉(zhuǎn)動(dòng)晶體法測(cè)聚合物結(jié)構(gòu);5,晶粒尺寸的測(cè)定.試確定下面晶體的衍射圖樣中,最小的三個(gè)20角,入射X射線波長(zhǎng)為0.154nm:1)簡(jiǎn)單立方(a=0.300nm);2)簡(jiǎn)單正方(a=0.200nm,c=0.300nm);3)簡(jiǎn)單正方(a=0.300nm,c=0.200nm).現(xiàn)有某種立方系晶體,其每個(gè)單位晶胞含有位于:0%0;%00;%%%;00%上的四個(gè)同類原子,試導(dǎo)出F2的簡(jiǎn)化表達(dá)式,并討論消光條件以及(100),(002),(111),(011)晶面的F2值是多少?.利用人=0.1790nm的X射線照射一個(gè)立方晶系的晶體,其反射依次發(fā)生在下列Bragg角處:10.6,17.6,20.8,21.7,25.4,31.6,33.8度,試計(jì)算a值,并確定其晶體類型。電子顯微技術(shù)1.二次電子:入射電子射到試樣后,使表面物質(zhì)發(fā)生電離,被激發(fā)的電子離開試樣表面而形成的電子。二次電

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