浙江水晶光電科技股份有限公司年產(chǎn)10.8億片精密光學薄膜元器件技改項目環(huán)評報告

）： 12019-331002-39-03-047目□超五年重新審核項目/□是：“無”無無/22025年目標：全市環(huán)境空氣質(zhì)量穩(wěn)步提升，到“十四五”b）水環(huán)境質(zhì)量底線目標3個斷面中地表水環(huán)境功能區(qū)達標率及Ⅰ-Ⅲ縣以上城市污水處理率達到95%，建制鎮(zhèn)污水處理率達到基本恢復?？h以上城市污水處理率達到99%，建制鎮(zhèn)污水處4險得到全面管控。受污染耕地安全利用率達到95%以上，污染地塊安全利用率達到95%以上。b）水資源利用上線目標5年，全市年用水總量控制在20.80億mm3，其中工業(yè)和生活用水量控制在13.04億m3。6），令第682號）“四性五不批”符合性分析7是否符合性性五不批符合審批原則準//812“低溫等離子+活性炭吸附塔”處理后由高20m的排氣筒排放。VOCs3VOCs和惡臭污染的污水處理單元4“低溫等離子+活性炭吸95及日常監(jiān)測計劃，要求6序號1處理，總23收時應監(jiān)測TVOCs凈化效率，并記錄其排放口凈化效率、TVOCs排放濃度或其他替12序號1劑符合2使用單一組分溶劑的油墨*//3好型原輔料*符合4符合5管的封閉裝卸系統(tǒng)*符合6符合7符合8統(tǒng)符合9符合符合符合企業(yè)實施綠色印刷*符合符合符合VOCs污染氣體收集與輸送應滿符合單一的有機廢氣*低符合符合符合求進口和排氣筒出口安符合符合少開展1次VOCs廢氣處理設施進、出口監(jiān)測和廠界無組織監(jiān)控濃度監(jiān)測，其中重點企業(yè)處理設施監(jiān)測不少于2次，廠界無組織需委托有資質(zhì)的第三方進行，監(jiān)測指標須包含原輔料所含主要特征污染物和非甲烷總烴等指標，并根據(jù)廢氣處理設施進、出口監(jiān) 符合符合符合說明：1、加“*”的條目為可選整治條目，由當?shù)丨h(huán)保主管部門根據(jù)“三線一單”環(huán)境管控單元-單元管控空間屬性“三線一單”生態(tài)環(huán)境準入清單編制要求省市縣類束要求ZH33100221003省區(qū)合理規(guī)劃布局三類工業(yè)調(diào)整和優(yōu)化步提高區(qū)域產(chǎn)業(yè)準入條園區(qū)整合提的基礎設施進產(chǎn)業(yè)集聚和產(chǎn)業(yè)鏈延居住區(qū)與工居住區(qū)和工業(yè)之間設置沿江河湖庫工業(yè)企聚區(qū)環(huán)境和健康風關(guān)企業(yè)按規(guī)定編制環(huán)境突發(fā)事件應急加強事故廢水應急及應急物資的儲備和應急演業(yè)集聚區(qū)企業(yè)環(huán)境風險防范設施設備建設和正常運行監(jiān)代要發(fā)性有機物全面執(zhí)行國家排放標準大氣污染物特別排放燃煤鍋爐煙氣清潔和地下水污染防治業(yè)園區(qū)應強風險防控體系建態(tài)化的企業(yè)隱患排查整治監(jiān)管機制?？傮w管控要求負面影響的生產(chǎn)、開發(fā)建設活動應逐步退出。生態(tài)保護紅線內(nèi)生態(tài)用地只能增加不能分類管控措施原則上禁止新建農(nóng)村居民點，允許保持生態(tài)保護紅線內(nèi)現(xiàn)有合法的村居宅基地規(guī)模,并根據(jù)人口外遷情況逐步允許現(xiàn)有道路、鐵路、輸油輸氣管道、輸電新建線性基礎設施，應盡量避繞生態(tài)保護紅線；不能避繞的，嚴格按照有關(guān)提出調(diào)整方案，經(jīng)環(huán)境保護部、國家發(fā)展改革委會同有償和退出方案，在保障探礦權(quán)、采礦權(quán)和取水權(quán)人合法權(quán)益的前提下，依法退出禁止開發(fā)區(qū)的核心生態(tài)保護區(qū)。嚴格落實相關(guān)管理規(guī)定，建立生態(tài)保護紅線區(qū)規(guī)范管理的長效機制，逐步解決歷史遺留問12區(qū)護3456489//建設內(nèi)容對照《建設項目環(huán)境影響評價分類管理名錄》（2021年版），項目環(huán)評分類1子設備制造業(yè)39-81電子元件及電子專用材料制造398“電子專用材料制造（電子化工材料制造除造398，其他電子設備制造399程程/程氣氣氣蝕刻機密閉，廢氣收集后經(jīng)堿噴淋塔吸收處）），/），2/理1223456789785/1件223/4/5/6/7/8/9///5/5///0/0/0/0/0/01/2345678940L/瓶/40L/瓶//////1/23456789///40L/瓶/40L/瓶//1234/5/6789//1//2//3//4///5///6//7/8//9//////////kg/年///////1/2/3/4789//////24////1/2/345/6/7/8/9//////1/2kg/年/340L/罐/440L/罐/5/6/7/8/9//kg/年////1/2/3kg/年/440L/罐540L/罐6/7/8AZ2070kg/年/9TMAH-2.38%-DS238-1uskg/年////3///D-485H300mm×100m//A-11D-17KC////40L/罐5ZH05-SD4000-N1-70-CC/1/2/3/4/540L/罐640L/罐57/8/9RZJ-325kg/年/TMAH-2.38%-DS238-1uskg/年///////靶材（Si）靶材-圓筒形-6-Φ145(125)根/年靶材（ITO）/根/年5鉻塊料-8-Φ25個/年550鋁(高純鋁)塊料-3-Φ3kg/年8膜料-金塊料-圓形-2.5-Φ14kg/年二氧化硅塊料-15-Φ335(265)個/年三氧化二鋁散料-1-2.5mmkg/年五氧化三鈦散料-1-3mmkg/年471//2//3/升/4//5氧化硅65/7//89/洗滌助子化合物、水1//2//3TiO2//4Al2O3//5H4/1/6MgF2/kg/a2/7Ag/kg/a4/8Al/1/9//Nb靶/4//1/Ni靶/1//4/////Evatec柵網(wǎng)/2//1/2/3/14/2/3/4/5/6/72/8/91/卷/m3/a/m3/a/m3/a/m3/a/m3/a/m3/a/特氣Ne/Kr/F2m3/a/特氣Ne/Krm3/a2/1/2//320*20*0.64mmkg/a/4/kg/a/5/kg/a/6kg/a/7kg/a/8//9///t=0.35mm/kg/a/kg/a/t=1.6mm/t=1mmkg/年/kg/年/kg/年/kg/年/////t=1.2mmkg/年/kg/年//kg/年//kg/年////kg/年//////t=0.5mm/膠t=1.1mm，雙面背膠kg/年/t=0.5mmkg/年/kg/年/kg/年/kg/年///t=0.5mm//kg/年/kg/年///1/2/340L/罐440L/罐55/6/7kg/年/8kg/年/9/kg/年/TMAH-2.38%-DS238-1uskg/年///6/230mm×100m/300mm×100m//ZH05-SD4000-N1-70-CC1kg/年/2PSpolymer/3primer7#/1/2切削液25KG/桶/34清洗劑YIJ018等5稀土拋光粉釹625kg/袋725kg/袋8500g/瓶91kg/瓶用，成分25kg/袋1金鋼砂/t/a3.0/2清洗劑t/a6.5/3水/t/a/4電/萬Kw.h/a/MSDS配比（%）1/NaOH1/5567水121墨231/水1/5本項目主要原材料物化、理化性質(zhì)見表2.7-2。苯苯-116.2℃,沸點：點-94.9℃,沸點//酸而引起爆炸。遇H發(fā)泡劑立即燃燒。腐蝕性極/醇味，熔點為-88.5℃,沸/0//////////////////C4F8NOx廢氣處理量NOx廢氣排放量//////12//3//4//5//6//7//8//9////-"32.9-"4.4-"32.9-"4.4-"1.0 -"2251360-"51360-"-"617012元2/3354/15/16WM-30017281元92221AT-25PA11/1/1WM-2003ASP-508327322RAD-2010m/1245NST-610P816/51RDF-120264ST2元223/745/96/97ACD6O-1148ACT-300ALLS19/5/4/1/1/1/132AT-25PA2元2/3/3VSP88D3WM-2003451124552853RDF-120264ST331元273AOI檢查機34UV氮氣解膠機2526271829WM-200111AD300S441VK-X10501VERTEX311HC14YZ-WM300M1ASP-648331NSP-1650V35YZ-002302/1/1Ru-W反射儀1/211NSP-1650V35YZ-002302XWS-CJ-1A/1Ru-W反射儀137UV解膠機燈UVASPOT400/T5232AD300S22111NLSL-232-40-W17/34VS-600A2/2UVASPOT400/T6/4/33/321/1116V-30121/1元213/54/258697DISCO-DA50058/19/2/612200*1100*2000mm元234機256748994416231HAN*SLASER1127/22KJSC-2.0/4P82233KJSC-2.0/4P2711/3/1/2/1/42/1/812213/14ZERO-30015164728191UV1-1200MB75812AOIA檢查機21111/12ZERO-30013441526YT02A-TG217AT-60PD2829WM2002IRFilterInspection6N2倒膜機WM-2004UV1-1201MB7111元2UV-1800231415ZIP45016VERTEX311HC27MA150E等38PLAUX-SJC-50019YZ-C7001131HTCR4220-230SN等2PLAUX-SJC-5001箱112AD-830等2Y1E412011111AOI檢查機111元223NSP-1650V3345USPM-RU-W1617182911UV-18002112ZIP4501VERTEX311HC24MA150E等3W-14280SG等3PLAUX-SJC-50012112XWDS-14280SG1113HTCR4220-230SN等3124XWDS15000STWF1/21元23/84567889////4/8/4112NSP-1650設備清單1314ZERO-30015161112MA8/BA8等2314ACS2001516VK1000/110017RDF-3072RS181911AS81111Nikon204B1元2ACT81314NLD5700151627181911511221AC20011Nikon204B11YT02A-11元2131415161718191XM-HV001-600113911ExplorerClassic06.081111元2VERTEX311HC1314151617PLAUX-SJC-50018/19191111AOI檢查機11/1元2壓印機GL8-MLA13劃片機DAD335011開料機1800×1500×90022精雕機2130×1835×2000303二次元800×700×100034仿形機1000×800×145025自動曲面掃光機2450×2450×245076真空泵/17周拋機/28雙面拋光機/9超聲波清洗機/6甩干機/1全自動鋼化爐（雙缸）9400×4200×38002鋼化爐（小）1200×1000×11006預熱爐（?。?100×900×10002硬力測試儀300×250×1502萬能測試儀1630×780×7301絲印機/2烘箱H1800mm×W1500×D860mm2隧道爐L4000mm×W1200mm×1650mm21聯(lián)合廠房1有機廢氣處理設施風量20000m3/h12聯(lián)合廠房2有機廢氣處理設施風量6000m3/h13聯(lián)合廠房1酸堿噴淋塔處理設施風量20000m3/h14聯(lián)合廠房3酸堿噴淋塔處理設施風量3000m3/h15聯(lián)合廠房4有機廢氣處理設施風量10000m3/h16西廠區(qū)廢水處理設施17東廠區(qū)廢水處理設施18潔凈車間過濾換風系統(tǒng)單層車間換風量約為20000m3/h8聯(lián)合廠房1有機廢氣處理設施聯(lián)合廠房1有機廢氣處理設施聯(lián)合廠房2有機廢氣處理設施聯(lián)合廠房2有機廢氣處理設施聯(lián)合廠房1酸堿噴淋塔處理設施聯(lián)合廠房1酸堿噴淋塔處理設施聯(lián)合廠房3酸堿噴淋塔處理設施聯(lián)合廠房3酸堿噴淋塔處理設施聯(lián)合廠房4有機廢氣處理設施聯(lián)合廠房4有機廢氣處理設施西廠區(qū)廢水處理設施西廠區(qū)廢水處理設施東廠區(qū)廢水處理設施東廠區(qū)廢水處理設施），工藝流程和產(chǎn)排污環(huán)節(jié)清洗劑、水清洗劑、水清洗劑、水廢氣、固廢清洗劑、水清洗劑、水清洗劑、水廢氣、固廢1驗2聲波清洗速度快、質(zhì)量好，又能大大降低環(huán)境污染；本機器使用PLC3發(fā)鍍。先撕掉A面的兩層膜，再利用光馳鍍最先進的磁控濺射鍍膜工藝，在玻璃表面生長沉積一層特殊的膜層。45發(fā)鍍。先撕掉A面的兩層膜，再利用光馳鍍膜機鍍AR膜，使用全球最先進的磁控濺射鍍膜工藝，在玻璃表面生長沉積一層特殊的膜層。6洗后廢液及涂布過程中產(chǎn)生的廢液進行收集后統(tǒng)一倒入廢液處理桶中7優(yōu)勢：①.清洗對象經(jīng)等離子清洗之后是干燥的，不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序?？梢蕴岣哒麄€工藝流水線的處理效率；②.等離9利用絲印機對其表面進行印刷處理，引述后采用烤箱對產(chǎn)品查清洗劑、水廢氣、固廢清洗劑、水廢氣、固廢清洗劑、水廢氣、固廢清洗劑、水廢氣、固廢清洗劑、水1驗2聲波清洗速度快、質(zhì)量好，又能大大降低環(huán)境污染；本機器使用PLC3發(fā)鍍。先撕掉A面的兩層膜，再利用光馳鍍膜機鍍AR膜，使用全球最先進的磁控濺射鍍膜工藝，在玻璃表面生長沉積一層特殊的膜層。4洗后廢液及涂布過程中產(chǎn)生的廢液進行收集后統(tǒng)一倒入廢液處理桶中5優(yōu)勢：①.清洗對象經(jīng)等離子清洗之后是干燥的，不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序。可以提高整個工藝流水線的處理效率；②.等離6利用絲印機對其表面進行印刷處理，引述后采用烤箱對產(chǎn)品789查純水---h純水---h1234567891234567891外圓切割：外圓切割玻璃外圓切割是最廣泛使用的高效率切切割精度降低。分類有：應用范圍最廣泛的、用于精度比較高的、具有連的均勻圓柱型；適宜于切割比較大的制品，因為有切溝，研磨液能夠很好入，有助于切屑的排除，經(jīng)得起粗猛切割的鑲嵌型；適用于大制品切割，銑磨、精磨：加工毛胚時，高速旋轉(zhuǎn)的砂輪勻速下降和低速旋轉(zhuǎn)的工件接擦，從而銑磨掉加工量。加工尺寸到位后銑磨機開始光刀。這時高速旋轉(zhuǎn)的砂輪停止下降，停留在指定高度循環(huán)銑模。光刀時間越長，工件光潔度越拋光：本項目采用機械拋光對光學玻璃進行作業(yè)，機械拋光是靠切削面塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的拋光方法，本項目在含有超聲波清洗：超聲波清洗速度快、質(zhì)量好，又能大大降低環(huán)境污染；本機達到高效率之清洗功能。此機器可設計使用于溶劑清洗或水性清洗，并可鍍膜：鍍膜設備由真空蒸鍍室、真空系統(tǒng)、蒸發(fā)源、離子源、光學膜厚控統(tǒng)、電氣自動化控制系統(tǒng)等組成的自動鍍膜系統(tǒng)，其工作原理是在高真空態(tài)下，利用電子槍產(chǎn)生高能電子束將靶材氣化沉積在基片上，形成具有某膜系設計及基片處理技術(shù)，采用尖端的鍍膜設備及離子源輔助技術(shù)工藝，了生產(chǎn)過程中對膜層厚度、鍍膜均勻性、牢固度和表面缺陷的精密控制，了濾光片表面缺陷20μm以下的技術(shù)難題。線切割：多線切割機用于玻璃的切薄片，相對于原有的多刀切割絲印及烘干：絲網(wǎng)印刷屬于孔版印刷，它與平印、凸印、凹印一起印刷方法。孔版印刷包括謄寫版、鏤孔花版、噴花和絲網(wǎng)印刷等?？装嬖硎?印版（紙膜版或其它版的版基上制作出可通過油墨的孔眼通過一定的壓力使油墨通過孔版的孔眼轉(zhuǎn)移到承印物（紙張、陶瓷等2球面鏡生產(chǎn)工藝銑磨、精磨、拋光、超聲波清洗、鍍膜工藝與微棱鏡生芯?。簩伖夂蟮溺R片兩個面的曲率中心與幾何中心合致，清洗劑、水清洗劑、水清洗劑、水清洗劑、水清洗劑、水清洗劑、水1/2445本設備采用日本光馳NSP-1650V3，是由真空濺射室、真空系統(tǒng)、靶材、ICP、光學膜厚控制系統(tǒng)、電氣自動化控制系統(tǒng)等組成的自材激發(fā)氣化沉積在基片上，形成具有某種光學特性的薄膜，ICP可過程中對膜層厚度、鍍膜均勻性、牢固度和表面缺陷的6789清洗劑、水清洗劑、水清洗劑、水清洗劑、水水-清洗劑、水清洗劑、水清洗劑、水清洗劑、水水-1/2445靶材、ICP、光學膜厚控制系統(tǒng)、電氣自動化控制系統(tǒng)等組成的自材激發(fā)氣化沉積在基片上，形成具有某種光學特性的薄膜，ICP可6789使用貼片機對晶片進行貼片、采用日本進口的Dis切削液、純切削液、純1使用涂膠顯影機對芯片進行涂膠顯影，并進234本設備采用日本光馳NSP-1650V3，是由真空濺射室、真靶材、ICP、光學膜厚控制系統(tǒng)、電氣自動化控制系統(tǒng)等組成的自材激發(fā)氣化沉積在基片上，形成具有某種光學特性的薄膜，ICP可56使用體視顯微鏡/金相顯微鏡/影像測量儀等設備對芯789清洗劑、水清洗劑、水清洗劑、水清洗劑、水清洗劑、水清洗劑、水1進料檢驗人工進行精選；2異形切割使用異形切割機對玻璃片進行切割3激光打標使用激光打標機對玻璃片進行打標4超聲波清洗超聲波清洗速度快、質(zhì)量好，又能大大降低環(huán)境污染；本機器使用PLC計算機程序控制，具有自動化，可完全搭配客戶所需之各種清洗流程，達到高效率之清洗功能。此機器可設計使用于溶劑清洗或水性清洗，并可兼具熱風干燥，以及無水痕處理。5濺射鍍膜本設備采用日本光馳NSP-1650V3，是由真空濺射室、真空系統(tǒng)、靶材、ICP、光學膜厚控制系統(tǒng)、電氣自動化控制系統(tǒng)等組成的自動鍍膜系統(tǒng)，其工作原理是在高真空的狀態(tài)下，利用電壓電流將靶材激發(fā)氣化沉積在基片上，形成具有某種光學特性的薄膜，ICP可以保證這種薄膜的牢6使用涂膠顯影機對芯片進行涂膠顯影，并進789本設備采用日本光馳NSP-1650V3，是由真空濺射室、真空系統(tǒng)、靶材、ICP、光學膜厚控制系統(tǒng)、電氣自動化控制系統(tǒng)等組成的自材激發(fā)氣化沉積在基片上，形成具有某種光學特性的薄膜，ICP可曝光在涂好膠的玻璃片表面利用掩膜版進行曝光顯影將曝光好的玻璃片進行顯影處理，使干膜表面形成圖案濕法蝕刻用濕化學臺蝕刻晶片表面污使用體視顯微鏡/金相顯微鏡/影像測量儀等設備對芯清洗劑、水清洗劑、水清洗劑、水清洗劑、水清洗劑、水清洗劑、水清洗劑、水清洗劑、水1本設備采用日本高鳥公司生產(chǎn)的MWS-612DD機型（Takatori線切割機），主要能精密控制對藍寶石晶棒的切片功能。2雙面研磨：利用雙面研磨機將藍寶石毛片表面磨平整；研磨液循環(huán)使用，不定期排放，形成研磨廢水及廢渣。倒邊：本設備選用日本精密公司生產(chǎn)的W-GM-4200B（雙軸）機型，主要執(zhí)行對超硬晶體藍寶石晶片的磨邊功能。3銅盤拋光本設備選用日本Engis公司生產(chǎn)的EJW-910IT-3AL-HFU-36N機型，主要執(zhí)行對藍寶石晶片的表面化學機械拋光功能。拋光液及拋光后清洗產(chǎn)生廢水，過濾產(chǎn)生含銅屑廢渣；4超聲波清洗超聲波清洗速度快、質(zhì)量好，又能大大降低環(huán)境污染；本機器使用PLC計算機程序控制，具有自動化，可完全搭配客戶所需之各種清洗流程，達到高效率之清洗功能。此機器可設計使用于溶劑清洗或水性清洗，并可兼具熱風干燥，以及無水痕處理。5化學拋光基本原理是將待拋光工件在一定的下壓力及拋光液(由超細顆粒、化學氧化劑和液體介質(zhì)組成的混合液)的存在下，相對于一個拋光墊作旋轉(zhuǎn)運動，借助磨粒的機械磨削及化學氧化劑的腐蝕作用來完成對工件表面的材料去除，并獲得光潔表面。主要包括拋光機、拋光液、拋光墊、后CMP清洗設備、拋光終點檢測及工藝控制設備、廢物處理和檢測設去膠液、水--去膠液、水--h鍍膜----備等，其中拋光液和拋光墊為消耗品。6涂膠、固化1使用涂膠顯影機對芯片進行涂膠顯影，并進234本設備采用日本光馳NSP-1650V3，是由真空濺射室、真靶材、ICP、光學膜厚控制系統(tǒng)、電氣自動化控制系統(tǒng)等組成的自材激發(fā)氣化沉積在基片上，形成具有某種光學特性的薄膜，ICP可512靶材、ICP、光學膜厚控制系統(tǒng)、電氣自動化控制系統(tǒng)等組成的自材激發(fā)氣化沉積在基片上，形成具有某種光學特性的薄膜，ICP可以保證這種薄膜的牢固。鍍膜材料包括TiO2、MgF2、Ag、Al、Si靶、Nb靶、Cr靶、Ni靶、Ti靶等，對3涂膠、固化1涂膠、固化使用涂膠顯影機對芯片進行涂膠顯影，并進234洗51對產(chǎn)品進行裝配，完成后通過視覺檢測工裝，對模組的排線2將前一道工序的背光模組與下殼組裝完成，同時裝配主板并3通過壓膠工裝，將鏡片和鏡片框壓合，增強鏡片與鏡片框的4裝配產(chǎn)品的電機模塊，該電機模塊用于驅(qū)動主鏡片的翻轉(zhuǎn)，5遮光罩和副鏡片模先完成遮光罩的安裝，在進行副鏡片的安裝，副鏡片也需要67將內(nèi)部有余量的光感線通過壓線背膠，泡棉之類固定，然后89光學檢測設備包括整體的檢測算法，機械結(jié)構(gòu)，軟件構(gòu)架都是由我公司自主設計開發(fā)完成，可以根據(jù)客戶需求快速的升1使用涂膠顯影機對芯片進行涂膠顯影，并進2使用UV光對光阻進行圖形轉(zhuǎn)??；34極化采用極化設備對芯片進行極化測試5等離子清洗等離子機（或等離子清潔機）進行等離子清洗；是一種全新的高科技技術(shù)，利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果。等離子清洗的優(yōu)勢：①.清洗對象經(jīng)等離子清洗之后是干燥的，不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序?？梢蕴岣哒麄€工藝流水線的處理效率；②.等離子清洗使得用戶可以遠離有害溶劑對人體的傷害，同時也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對象的問題；③.避免使用三氯乙烷等ODS有害溶劑，這樣清洗后不會產(chǎn)生有害污染物，因此這種清洗方法屬于環(huán)保的綠色清洗方法。6銀漿絲印通過制作高精度的絲網(wǎng)版，利用平面絲網(wǎng)印刷技術(shù)并使用銀漿油墨印刷出設計的圖案；7使用潔凈烘箱將絲印后的芯片進行烘烤固化8干刻PVDF將芯片放入ICP刻蝕機進行蝕刻9清洗蝕刻后的芯片進行自動清洗貼BG膠帶采用全自動貼膜機對芯片貼BG膠帶減薄使用減薄機對芯片進行減薄切割使用自動劃片機對減薄后的芯片進行劃切離心清洗利用晶片清洗機將晶片清洗干凈；1基片客供芯片2軟膜制作UV軟膜膠，PET制作3壓印壓印膠水4切割使用刀片對壓印后的基片進行切割5檢查6包裝打包機打包出售1/244567利用精雕機將對玻璃產(chǎn)品進行精雕加工處理。8拋光采用拋光機對玻璃進行拋光處理；9使用硝酸鈉、硝酸鉀、硅酸對玻璃進行強化處理，水水12鍍膜后的球罩、工裝件用噴砂機進行噴砂去污，膜層厚的工3化學需氧量、氟化物、總氮廢包裝袋、桶、瓶與項目有關(guān)的原有環(huán)境污染問題序號12術(shù)改造項目34大面陣高清數(shù)字成像系統(tǒng)濾光器件產(chǎn)業(yè)化項目萬套單反數(shù)碼相機用光學低通濾波5(椒)[2013]5號6號相機用光學低通濾波器12紅外截止濾表棒250萬毫米能3擎、生物識別濾光片組立件7.5億套全部完成自主藍寶石項目取消，不再實施4年產(chǎn)2.0億套生 產(chǎn)80噸80公斤1234環(huán)境保護驗收監(jiān)測報告》（以下簡稱已建項目一）、《別濾光片組立件技改項目》（以下簡稱已建項目二）、有限公司年產(chǎn)4.7億套智能終端用光學組件技監(jiān)測報告表》（以下簡稱已建項目三）對于生產(chǎn)工況的現(xiàn)有已建項目一聯(lián)合廠房一），天年產(chǎn)6億片（套）光電元器件（包括150動力中心大樓2~3層），產(chǎn)120萬增強現(xiàn)實（AR）投影引擎技改項目、7.5億套年產(chǎn)2.0億套生物識別光學組件、1.5億套），///序號數(shù)量套）14423456789386/2210/53MWS-612DR8/層9///層臺層臺層臺/層/箱UVASPOT400/T/53988心/88心400RT78心/22層58/80///機/33XRFD39-6642心/11層08心/08心400RT08心/04層/08/04戶不同產(chǎn)品尺寸、大小、型號的不同要求而做出的調(diào)整，增減序號備注㈠1臺66/2臺11/3臺/1/1/4臺11/5臺/5/5/6臺57臺48臺49臺6/5臺7/7/UVled面光源臺//臺/臺//臺/4/4/臺/4/4/臺///臺/8/8/臺/8/8/臺/4/4/臺/8/8/臺//4臺/6/6/臺/4/4/臺/1/1/套8/8/套/8/8/套400RT8/8/1臺//2臺/3臺//4臺UV1800/5臺UV2600/6臺UV-37003/3/7機臺USPM-RU36/48臺/9臺///臺405*445//臺//臺/臺/臺//臺//臺/9/9/臺///臺//8臺///臺///臺//2臺//臺//臺//6臺///臺/臺AT-25PA//臺/臺4/4/臺VSP-88DM8/7臺//臺//臺UVI-1200MB7//臺//臺//臺//臺ZKMOL-3DS//臺//臺/臺VS-600//臺6/6/臺8/1臺9/3臺7/7/臺5/8臺7/4臺/8/8/臺3/4臺/2/2/臺/臺2/2/套1/1/套//套///套400RT//6臺，其余與環(huán)評基本一致。根據(jù)企業(yè)出具的《建設項目序號稱單位環(huán)評數(shù)量1機臺66致2臺/臺3臺NSP-1650NSP-1650致4臺設備的型5臺致6臺致7臺YYJC007A-001YYJC007A-0018臺69機臺臺3臺臺臺82儀臺42臺8臺41臺6臺89臺45儀臺46機臺45臺84臺83套88致臺//臺33致本項目主要的產(chǎn)污設備為預清洗機、清洗機和絲印機根據(jù)各項目驗收監(jiān)測報告和現(xiàn)場核實，現(xiàn)有已建項目原//12345張67TiO28升9套//1張23升456卷7片8套//12234片5套//123升45升6789/套氣升升濾光片組立件、高端智能手機紅外截止濾光片的相關(guān)原輔材12345678954㈡藍玻璃濾光片及生物識別濾光片組立件生產(chǎn)原輔材88NaOH一、移動智能終端精密薄膜光學面板主要原輔材料消耗定額量1234200000×85×0.125mm56789250mm×50m根據(jù)環(huán)境保護驗收監(jiān)測報告和現(xiàn)場核實，現(xiàn)有已建項精選要求大小的水晶毛片，在刀條對水晶大片進行切割的過程中拋光（外協(xié)利用精密的拋光機將研磨后的水晶片表面拋光拋亮，外形尺膠合：根據(jù)產(chǎn)品結(jié)構(gòu)的要求，將不同的鍍膜片、水晶片及檢驗、包裝、入庫：固化后的產(chǎn)品經(jīng)檢驗合格后，包裝研磨、拋光（外協(xié)即對光學玻璃厚度及表面質(zhì)量的加大于產(chǎn)品厚度時需要研磨后再拋光；若玻璃僅表面質(zhì)量需要動劃片機將鍍膜好的晶片劃成符合產(chǎn)品規(guī)格要求的尺寸；膠合：把符合產(chǎn)品要求的鍍膜劃片的晶片與特殊的塑料支包裝、檢驗、入庫：清洗后的晶片經(jīng)人工精選后，包裝光學玻璃劃大片研磨拋光拋光粉[金剛砂]RO濃水拋光粉[金剛砂]三乙醇胺純水[RO濃水]稀釋堿性清洗劑純水S1：廢刀片光學玻璃劃大片研磨拋光拋光粉[金剛砂]RO濃水拋光粉[金剛砂]三乙醇胺純水[RO濃水]稀釋堿性清洗劑純水S1：廢刀片S2：邊角料W2廢水S3研磨廢渣W3廢水S3拋光廢渣W4弱堿性廢水鍍膜材料W4堿性清洗廢水S4廢強堿原液強堿原液純水W4清洗廢水S4廢堿液強堿原液純水光敏膠紫外線[UV]光超聲波清洗鍍膜超聲波清洗超聲波清洗膜層檢測稀釋堿性清洗劑稀釋堿性清洗劑膠合UV固化最終檢測包裝純水[RO濃水]稀釋堿性清洗劑光學玻璃W2弱堿性廢水進料檢查超聲波清洗鍍膜材料稀釋堿性清洗劑鍍膜材料稀釋堿性清洗劑W4堿性清洗廢水超聲波清洗擦片超聲波清洗W2清洗廢水UV解膠包裝入庫精選包裝、最終檢驗、入庫：清洗后的晶片經(jīng)人工精選①.定向切割：本設備采用日本高鳥公司生產(chǎn)的MWS-612），機型，主要執(zhí)行對藍寶石晶片的表面化學機械拋光功能。拋光⑦.化學機械拋光：化學機械拋光（英語：Che光液(由超細顆粒、化學氧化劑和液體介質(zhì)組成的混合液)拋光墊作旋轉(zhuǎn)運動，借助磨粒的機械磨削及化學氧化劑的腐蝕,S1廢刀片S2邊角料W4清洗廢水S4廢強堿原液W2研磨廢水S3研磨廢渣切割線稀釋堿性清洗劑強堿原液/純水碳化硼RO濃水碳化硼RO濃水W2研磨廢水S3研磨廢渣W4清洗廢水稀釋堿性清洗劑強堿原液/純水稀釋堿性清洗劑強堿原液/純水W1清洗廢水S2廢強堿原液蠟稀釋堿性清洗劑強堿原液/純水 化學機械拋光.W3拋光廢水S3廢渣S3廢渣超聲波清洗超聲波清洗 超聲波清洗W6清洗廢水清洗設備、拋光終點檢測及工藝控制設備、廢物處理和檢測,S1廢刀片S2邊角料W4清洗廢水S4廢強堿原液W2研磨廢水S3研磨廢渣切割線稀釋堿性清洗劑強堿原液/純水碳化硼RO濃水碳化硼RO濃水W2研磨廢水S3研磨廢渣W4清洗廢水稀釋堿性清洗劑強堿原液/純水稀釋堿性清洗劑強堿原液/純水W1清洗廢水S2廢強堿原液蠟稀釋堿性清洗劑強堿原液/純水 化學機械拋光.W3拋光廢水S3廢渣S3廢渣超聲波清洗超聲波清洗 超聲波清洗W6清洗廢水定向切割定向切割倒角倒角切割片檢測S1次品雙面研磨雙面研磨超聲波清洗超聲波清洗退火退火上蠟上蠟鉆石拋光液 銅盤拋光W3拋光廢水鉆石拋光液稀釋堿性清洗劑強堿原液/純水 去蠟清洗W4清洗廢水稀釋堿性清洗劑強堿原液/純水 S4廢強堿原液S6廢強堿原液激光打標激光打標-超聲波清洗-超聲波清洗W4清洗廢水精選精選/包裝最終檢測轉(zhuǎn)圖形化加工顯影是對曝光后的光刻膠進行去除，由于光照后的光刻膠和未別溶于和不溶于顯影液，這樣就使光刻膠上形成了溝槽。通過膠下面的材料要被選擇性地去除，使用的方法就是濕法腐蝕），的刻蝕過程中需要選擇合適的掩蔽膜。實際生產(chǎn)過程中已取光學冷加工廢水——固廢廢水各種棱鏡鍍膜超聲波清洗廢水廢水膠合廢氣廢氣平面鏡位置及角度并加上相應圖像的技術(shù)，這種技術(shù)的目標是在屏現(xiàn)實世界并進行互動。把原本在現(xiàn)實世界的一定時間空間實世界被人類感官所感知，從而達到超越現(xiàn)實的感官體驗，光學冷加工廢水——固廢廢水各種棱鏡鍍膜超聲波清洗廢水廢水膠合廢氣廢氣平面鏡棱鏡、球面反射鏡平板玻璃光學冷加工廢水、廢氣研磨廢水、廢氣研磨各種球面反射鏡鍍膜鍍膜切割廢水、噪聲切割機其他配件（芯片、構(gòu)件配件）機超聲波清洗膠合棱鏡膠合件整體組立檢測包裝出貨光學冷加工主要包括銑磨、精磨、拋光、研磨、噴化學機械拋光：化學機械拋光（英語：Chemi），液(由超細顆粒、化學氧化劑和液體介質(zhì)組成的混合液)的光墊作旋轉(zhuǎn)運動，借助磨粒的機械磨削及化學氧化劑的腐蝕面的材料去除，并獲得光潔表面。主要包括清洗設備、拋光終點檢測及工藝控制設備、廢物處理和檢測子源、光學膜厚控制系統(tǒng)、電氣自動化控制系統(tǒng)等組成通過采用進口高精密自動點膠機與其配套的圖像識別系統(tǒng)，配合自行設計的獨特組立夾具，取代人工點膠和傳統(tǒng)自動點膠過程膠水用量的精確控制，以及在膠水固化過程把符合產(chǎn)品要求的鍍膜劃片的光學玻璃與特殊的塑料支無溶劑；利用紫外光固化設備把膠合好的產(chǎn)品放入相比傳統(tǒng)紅外截止濾光片，近紅外帶通濾光片透過過的高折射率鍍膜材料。這個設計不僅提升了產(chǎn)品的生產(chǎn)稀釋堿性清洗鍍膜材料廢水廢水、固廢切割材料-廢水稀釋堿性清洗光敏膠固化-稀釋堿性清洗鍍膜材料廢水廢水、固廢切割材料-廢水稀釋堿性清洗光敏膠固化-廢水稀釋堿性清洗鍍膜材料廢水廢水、固廢切割材料-廢水稀釋堿性清洗稀釋堿性清洗鍍膜材料廢水廢水、固廢切割材料-廢水稀釋堿性清洗廢水超聲波清洗速度快、質(zhì)量好，又能大大降低環(huán)境污染清洗功能。此機器可設計使用于溶劑清洗或水性清洗，并可兼統(tǒng)，配合自行設計的獨特組立夾具，取代人工點膠和傳統(tǒng)自動點膠過程膠水用量的精確控制，以及在膠水固化過程把符合產(chǎn)品要求的鍍膜劃片的晶片與特殊的塑料支架粘無溶劑；無VOC揮發(fā)物，對環(huán)境空氣無污染；利用激光切割是將從激光器發(fā)射出的激光，經(jīng)光路系統(tǒng)，聚焦光束。激光束照射到工件表面，使工件達到熔點或沸點，同時氣體將熔化或氣化玻璃吹走。隨著光束與工件相對位置的移動全自動切割機用于玻璃的切薄片，相對于原有的多刀切堿性清洗劑、水清洗廢水（W2)堿性清洗劑、水覆膜材料[PE保護膜]清洗廢水（W2)覆膜材料[PE保護膜]堿性清洗劑、水清洗廢水（W2)堿性清洗劑、水覆膜材料[PE保護膜]清洗廢水（W2)覆膜材料[PE保護膜]鍍膜材料[硅靶]鍍膜材料ALPS項目其產(chǎn)品主要為手機屏幕保護貼和手機防護屏，其生產(chǎn)工藝流程及光學玻璃進料檢驗進料檢驗預清洗預清洗超聲波清洗超聲波清洗一次覆膜一次覆膜一次剪膜一次剪膜二次覆膜二次覆膜二次剪膜二次剪膜鍍鍍AR膜鍍鍍AF膜烘烤烘烤干式擦洗干式擦洗等離子清潔等離子清潔檢驗檢驗包裝包裝12聲波清洗速度快、質(zhì)量好，又能大大降低環(huán)境污染；本機器使用PLC345先撕掉藍膜，再利用恩騰覆膜機二次覆膜，其中B面上覆上高溫6利用剪刀剪去多余的白膜和藍膜，其中長邊留2mm，短邊留1mm，四78），9術(shù)，利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序?？梢蕴岣哒麄€工藝流水線免了濕法清洗中容易洗壞清洗對象的問題；③米蘭項目主要為智能光學面板，工藝流程及產(chǎn) 12聲波清洗速度快、質(zhì)量好，又能大大降低環(huán)境污染3456IR一般叫紅外截止濾光膜，準確叫法是IR-CUTFIL7AS鍍膜89研磨廢水、拋光廢水）、酸堿廢水（超聲波清洗線產(chǎn)生的稀釋水和漂洗廢水、酸洗機酸洗漂洗廢水、純水站離子交換樹脂清洗堿性廢水、刻蝕廢氣洗滌廢水）、酸性廢水（防污板清洗洗凈服廢水。對照環(huán)評，企業(yè)原輔料清洗配方中不再使用氫），經(jīng)中和后排入綜合廢水調(diào)節(jié)池，或由閥控制定量投入至綜水水質(zhì)、水量保持在一個穩(wěn)定的范圍，以減少對物化處回調(diào)后出水進入生化池，進入缺氧、好氧生化處理系統(tǒng)離，出水達一級標準后達標排放；為保證廢水穩(wěn)定達標安系統(tǒng)，當廢水不穩(wěn)定時，采取物化強制處理，確保廢二淀池與初沉池產(chǎn)生的浮渣和污泥排入污泥濃8根據(jù)企業(yè)驗收監(jiān)測數(shù)據(jù)，監(jiān)測期間，水晶光電公司廢水標氨氮、總磷日均最大排放濃度符合《工業(yè)企業(yè)廢水NH3-N現(xiàn)有已建項目一廢水實際排放量為274967t/a，廢水經(jīng)污水處理站處理達納管標準后，納入臺州市水處理發(fā)展有限公司最終處理根據(jù)企業(yè)提供資料和現(xiàn)場調(diào)查，本項目廢氣主要為酸性有組織廢氣排放口達標性分析見下表。監(jiān)測期間，序號均排放濃平均排放速率1酸堿廢氣霧2.51×10-32.35×10-33.48×10-3氫3.13×10-2氨/4.37×10-22有機廢氣3.83×10-4/4.05×10-4烴3.49×10-32.59×10-3注1）酸堿廢氣（硫酸霧、氯氣、氯化氫）、有機廢氣（甲醇、非甲烷總烴）排氣筒插法計算相應排氣筒高度需執(zhí)行的標準，且不能滿足排氣筒高度高出周圍200m半徑范圍中新改擴污染源無組織排放監(jiān)控濃度限值；氨稱1氨2345467現(xiàn)有已建項目一的主要噪聲源為各動力及公用設備機組、空壓機、真空泵、水泵等強噪聲源均布置根據(jù)企業(yè)驗收監(jiān)測數(shù)據(jù)，監(jiān)測期間，水晶光電公司廠界界環(huán)境噪聲排放標準》(GB12348-2008)中的4類標廢顯影液、去膠液、廢活性炭及生活垃圾、廢水處理污泥等。氫氟酸，因此不再產(chǎn)生廢氫氟酸，同時企業(yè)采用去膠劑進行去和光刻膠無法分離，屬于同一類危險固廢，根據(jù)企業(yè)目前實際序號固廢分類測量結(jié)果評價1危險廢物危廢間暫托有資質(zhì)單位處置符合要求2345446酸708/79/片般工業(yè)固廢//符合要求料//////般固廢//理運處理符合要求），銅盤拋光廢渣、廢硫酸、廢活性炭、廢礦物油、廢光刻膠、廢好危廢堆場防風、防雨，地面已做好防腐、防滲，標準、標牌廢氣0NH3酯氣//廢水CODCr固廢0套藍玻璃及生物識別濾光片組立件技改項目已實施完成正企業(yè)現(xiàn)有已建項目二廢水處理設施與已建項目根據(jù)水平衡及廢水監(jiān)測結(jié)果，現(xiàn)有已建項目污染CODCrNH3-N有組織廢氣排放口達標性分析：監(jiān)測期間，有機廢現(xiàn)有已建項目的主要噪聲源為各動力及公用設備運根據(jù)企業(yè)驗收監(jiān)測數(shù)據(jù)，監(jiān)測期間，水晶光電公司廠界監(jiān)測點晝間和夜間噪聲測量值均符合《工業(yè)企業(yè)序號固廢分類式結(jié)果評價1墨危險廢物符合要求23/4般工業(yè)固廢//符合要求5//6//7//8般固廢//理理符合要求移聯(lián)單制度落實較好，同時，危廢堆場已做好導流設施VOCs/項目內(nèi)容及規(guī)模），總量控制廢水防治廢氣防治噪聲防治GB12348-2008《工業(yè)企業(yè)廠界環(huán)固廢防治GB18599-2001《一般工業(yè)固體）；），司年產(chǎn)4.7億套智能終端用光學組件技改項目（先行企業(yè)實際建設過程中新增廢水主要有清洗廢企業(yè)在建項目三，清洗線槽液廢水進入二期污水處理水可直接納入市政污水管網(wǎng)，生活污水經(jīng)化糞池預處理后納入市政水納入水晶光電科技股份有限公司統(tǒng)一規(guī)劃建設的二期污水處理站限公司為依托責任主體）處理，整個水晶光電二期項目污水處理收集后進入酸堿中和槽，經(jīng)中和后排入綜合廢水調(diào)節(jié)綜合廢水調(diào)節(jié)池，與連續(xù)流綜合廢水混合，使廢水水水質(zhì)、水量保持在一個穩(wěn)定的范圍，以減少對物化處理系統(tǒng)的沖擊。水進入生化池，進入缺氧、好氧生化處理系統(tǒng)，進入二沉池進行泥達標排放；為保證廢水穩(wěn)定達標排放，同時考慮將來直排河道作為河設置反應終沉保安系統(tǒng)，通過投加粉末活性炭等采取物化強制處理，確度凈化處理后，經(jīng)其他過濾超濾等系統(tǒng)穩(wěn)定達標直排排放；系統(tǒng)具有占二淀池、終沉池與初沉池產(chǎn)生的浮渣和污泥排根據(jù)臺州市綠水青山環(huán)境科技有限公司對在建項目三水根據(jù)水平衡及廢水監(jiān)測結(jié)果，現(xiàn)有已建項目污染NH3-N源酯），態(tài)，設備為全密閉設備，內(nèi)設換精密薄膜光學面板米蘭項目生產(chǎn)車求6次/小時，廢氣為全部收集有組織排放。配套建設低溫等離子+活性設施）后，通過30m高的排氣筒排濃度符合《工作場所有害因素職業(yè)接觸限值第一部分》（一部分》（GBZ2.1-2019）中濃度限值要求。車間外符合《揮發(fā)性有機物無組織排放控制標準》（GB37822-20現(xiàn)有已建項目的主要噪聲源為各動力及公用設備運根據(jù)企業(yè)驗收監(jiān)測數(shù)據(jù)，監(jiān)測期間，廠界南側(cè)晝間和夜《工業(yè)企業(yè)廠界環(huán)境噪聲排放標準》(GB12348-200廢原料包裝材料、廢PE保護膜、廢擦片、廢堿液、性炭以及職工生活垃圾等。其中，玻璃邊角料及次品、廢水處裝材料、廢PE保護膜、廢擦片和生活垃圾屬于一般廢原料桶、廢無塵布、廢活性炭屬于危險固廢，按要求收移聯(lián)單制度落實較好，同時，危廢堆場已做好導流設施，防止暴雨序號性質(zhì)式1般固廢2/2.73#3用456/運7危險廢物228置99注：*為先行項目產(chǎn)生量根據(jù)環(huán)評折算得到；#廢水處理污泥無法單獨統(tǒng)計，故根據(jù)本項目的廢水處理量折算得到；生活垃圾以0.1kg/人*d計。VOCs/2.73#9/處理量折算得到；生活垃圾以0.1kg/人*d計。項目內(nèi)容及規(guī)?？偭靠刂浦笜送ㄟ^青島啤酒(臺州)有限公司轉(zhuǎn)讓和政府儲備量購買得到。廢水防治質(zhì)執(zhí)行《污水綜合排放標準》(GB8978-19廢氣防治噪聲防治排放標準》(GB12348-2008)2固廢防治），水總排放口能處理達標后納管，廠界噪聲達標，危險廢一般固廢有合理的去處。廢氣處理設施能穩(wěn)定達標排放，建議進一步做好清污分流，RO濃水和漂洗水污染物濃度很低網(wǎng)。建議企業(yè)應進一步提高生產(chǎn)廢水的循環(huán)利用率，RO濃司年產(chǎn)4.7億套智能終端用光學組件技改項目（先行部分）”已完成環(huán)保自主驗收。已審批在建未驗收項目為一個；《浙江水晶光電智能終端用光學組件技改項目》（臺環(huán)建（椒）[2020]24號2020.1.19未實施在建項目一在聯(lián)合廠房三、四內(nèi)組織實施，生產(chǎn)一般實行激光切割機、光刻機、超聲波清洗機等設備，形成年產(chǎn)4123單位數(shù)量1臺4/2臺4/3臺8/4臺4/5臺2/6臺4/7/臺/8臺臺6/9臺2//個4臺2臺3/NSR-1755G7A臺1/臺2//臺2AOI檢查機臺2USPM-380臺1/USPMRU-III臺1/AOI檢查機臺4/臺2臺2/臺2/臺2/臺2NSP-1650V3臺4//臺6/臺2/臺7/臺/臺1/RDF-150336S臺21臺/臺3臺1/臺2/YYJC007A-001臺3/臺/臺/UVASPOT400-T臺1/機VS-600A臺1/VERTE×311HC臺1/臺1/臺1//臺1/臺1/臺1/YAZ1300臺8/WDS5000臺9/臺4/臺4/二、成像光學組件（聯(lián)合廠房四2層）單位數(shù)量1臺2臺3HAN'SMM-FC9198臺54臺7ASMPacific(Hong5臺/6機KWT-4084R臺27KWT-4084R臺28KWT-4084R臺29臺2備臺1臺2臺3臺AD300S臺4/臺//臺臺5臺臺4團臺4WM-200臺3AT-25PA臺2NANO臺4臺2UVASPOT400-T臺2臺2團/臺6臺3司臺臺/臺6臺4/USPMRU-III臺3UV-1800、UV-2600臺8司VME322臺2URA臺1/套1套1BDTF測試儀臺1/一、生物識別光學組件主要原輔材料消耗定額及來源一覽表序號123Q×074558×0.15A2×40/67A-11D-30KC-189Na離子的氧化混合物/二、成像光學組件主要原輔材料消耗定額及來源一覽表序號1234/5-/6/789A-11D-30KC-1），），//噴砂廢水(W1)、固廢(S2)堿性清洗劑、水清洗廢水（W2） 蝕刻廢氣（G3）、廢蝕刻液（S7）廢去膠液（S8）、清洗廢水（W2）蝕刻液去膠液、水噴砂廢水(W1)、固廢(S2)堿性清洗劑、水清洗廢水（W2） 蝕刻廢氣（G3）、廢蝕刻液（S7）廢去膠液（S8）、清洗廢水（W2）蝕刻液去膠液、水光敏膠 包裝組合激光切割外觀檢查外觀檢查光學冷加工光學冷加工超聲波清洗超聲波清洗鍍膜材料-鍍膜電加熱-涂膠烘烤·有機廢氣（G2)曝光曝光顯影液、水-顯影·廢顯影液(S6）涂覆材料-涂覆光阻蝕刻 去膠清洗AOIAOI檢查12345678本工序采用Mark-7涂膠顯影機對產(chǎn)品表面涂上NSR-1755G7A光刻機對膠層進行特定區(qū)域的刻蝕，使產(chǎn)品表面的涂膠圖層形成很高的尺寸精度的圖形；9稀釋堿性清洗劑、純水清洗廢水（W2）鍍膜材料切割材料油墨有機廢氣（G1）有機廢氣（G1）稀釋堿性清洗劑、純水清洗廢水（W2）超聲清洗稀釋堿性清洗劑、純水清洗廢水（W2）鍍膜材料切割材料油墨有機廢氣（G1）有機廢氣（G1）稀釋堿性清洗劑、純水清洗廢水（W2）超聲清洗白玻璃進料檢驗進料檢驗鍍AR膜 超聲清洗·清洗廢水 超聲清洗·清洗廢水（W2）鍍紅外帶通膜鍍紅外帶通膜 離心清洗.清洗廢水（W2）自動切割自動切割絲印絲印固化固化超聲清洗超聲清洗廢氣（廢氣（G4）組合成品成品123聲波清洗速度快、質(zhì)量好，又能大大降低環(huán)境污染；45使用超聲波產(chǎn)生空化效應，去除玻璃表面灰塵、油污及臟污等6789本項目污水納入水晶光電科技股份有限公司統(tǒng)一規(guī)劃（以浙江晶馳科技有限公司為依托責任主體）處理中央空調(diào)系統(tǒng)常年保持恒溫，車間空氣經(jīng)空調(diào)換風系統(tǒng)）；合理布置噪聲源：冷凍機組、空壓機、真空泵、水泵力機房內(nèi)；選擇低噪聲設備：冷凍站、空壓站、水泵等本項目固體廢棄物可分為一般固廢和危廢固廢。一般廢原料桶、廢顯影液、廢蝕刻液、廢去膠液、廢廢堿液可進入企業(yè)自有的污水處理系統(tǒng)作為酸堿中和處理影液、廢蝕刻液、廢去膠液、廢無塵布、廢活性炭委托交由根據(jù)在建項目一：《浙江水晶光電科技股份有限用光學組件技改項目環(huán)境影響報告表》（臺環(huán)建（NH3-NVOCS000000000000注：在建項目一削減量已扣除已建項目三相量量量廢氣////0///NH3///VOCs廢水CODCr固廢///////4///40///0///0////0/////9////////3相關(guān)污染物不再排放，企業(yè)“年產(chǎn)6億片（套）光電元器件建設項目”審批時18918-2002）一級標準，隨著臺州市水處理發(fā)展有限公司提標改造完成，現(xiàn)執(zhí)行《城鎮(zhèn)污水處理廠污序號號標出水濃度量證量放量減量1//////50/量/0//////////2號號量/53套移動智能終端精密薄膜光學面板、號號05504實（AR）投影引擎0濾光片組立件技改號號////51號50//////5///////////0區(qū)域環(huán)境質(zhì)量現(xiàn)狀1pH（無量綱）2344BOD556789PM10PM2.5NO24mg/m3μg/dm2·dμg/dm2·dmg/m3根據(jù)浙江省空氣質(zhì)量功能區(qū)劃，本項目所在區(qū)域能區(qū)。環(huán)境空氣質(zhì)量執(zhí)行《環(huán)境空氣質(zhì)量標準》（GB5885NO2PM10PM2.5本項目涉及特征污染物氟化物排放，為了解項目所在氣質(zhì)量現(xiàn)狀，本項目委托浙江鑫泰檢測技術(shù)有限公司對企監(jiān)測點位、監(jiān)測項目、監(jiān)測時間及頻率具體見表3.2-2。點子 /m源XY監(jiān)測分析方法按國家有關(guān)標準和國家環(huán)?？偩诸C布的《空氣和廢氣監(jiān)測分析方法》中有關(guān)規(guī)定執(zhí)行；質(zhì)量保證措施按《浙江省環(huán)境監(jiān)測質(zhì)量保證技術(shù)規(guī)定》執(zhí)行，具體分析方法見表3.2-3。環(huán)境空氣氟化物的測定濾膜采樣／氟離子選評價標準：評價區(qū)域執(zhí)行GB3095-2012《環(huán)境空氣質(zhì)量標準》二級標準及相關(guān)標準。評價方法：采用單因子比值法對該區(qū)的域的大氣環(huán)境質(zhì)量現(xiàn)狀進行評價，I≥1即超標，I=Ci/CiO。式中：i——空氣質(zhì)量指數(shù)；Ci——第i污染物實測值；Cio——第i污染物的空氣質(zhì)量標準。監(jiān)測數(shù)據(jù)監(jiān)測數(shù)據(jù)見表3.2-4。位物濃度占標達標情況XY物30達標根據(jù)監(jiān)測結(jié)果可知，項目所在區(qū)域氟化物監(jiān)測值均能達到《環(huán)境空氣質(zhì)量本項目附近主要水體為七條河等，根據(jù)《浙江省水功方案》，水功能區(qū)為“椒江、路橋農(nóng)業(yè)、工業(yè)用水區(qū)”，水根據(jù)《環(huán)境影響評價技術(shù)導則—地表水環(huán)境》（HJ2.3◆單因子i在j點的標準指標式中：Sij——評價因子i的水質(zhì)指數(shù)，大于pHj——pH值實測統(tǒng)計代表值；pH值BOD5CODMnNH3-N6/從上述水質(zhì)監(jiān)測數(shù)據(jù)評價結(jié)果可見：項目建設地到《地表水環(huán)境質(zhì)量標準》（GB3838為了解項目實施地的聲環(huán)境質(zhì)量現(xiàn)狀，本次環(huán)評噪聲委托浙江鑫泰檢測技術(shù)有限公司對項目廠界50米范圍內(nèi)西側(cè)建設村環(huán)境質(zhì)量現(xiàn)狀并評價達標情況進行1①.評價標準：本項目西側(cè)敏感點聲環(huán)境質(zhì)量執(zhí)行《聲環(huán)境質(zhì)量標準》本因子、石油烴（C10-C40）樣，在土壤2#柱苯、石油烴（C10-C40）土壤4#柱本因子、石油烴（C10-C40）苯、石油烴（C10-C40）鄰二甲苯、石油烴（C10-C40）苯、石油烴（C10-C40）N28°38′13.69″）N28°38′20.06″）砷mg/kg鎘銅鉛汞鎳苯?h]蒽萘pH///鎘汞砷鉛鉻銅鎳鋅////石油烴（C10-C40）//本項目所在區(qū)域地下水環(huán)境質(zhì)量現(xiàn)狀本底值參考浙江中一檢測研究院股份有根據(jù)地下水水質(zhì)監(jiān)測結(jié)果可知，各監(jiān)測點地下水水質(zhì)現(xiàn)狀均為Ⅴ類，地下水原因，可能主要受區(qū)域地表水與地下水水質(zhì)交換的影響，此外區(qū)易受到海水入侵，周邊海域水質(zhì)較差，可能對地下水水質(zhì)也有一定影響。本環(huán)評建議企業(yè)所在區(qū)域開展廢水零直排等創(chuàng)建活動，杜絕廢水直排現(xiàn)象，從源頭減少地下水污染源；開展區(qū)域地表水環(huán)境綜合整治，改善與地下水聯(lián)系緊密的地表水環(huán)境質(zhì)量；開展近岸海域水環(huán)境綜合整治，改善近岸海域水環(huán)境環(huán)境保護目標為農(nóng)用地，規(guī)劃二類工業(yè)用地；北面現(xiàn)狀為農(nóng)用地，規(guī)劃為本項目附近地表水為七條河，保護級別為《地表水環(huán)境質(zhì)量標準》環(huán)境質(zhì)量標準》(GB3096-2008本項目位于產(chǎn)業(yè)園區(qū)內(nèi)，且建設項目不新增用地的，因此本項目用地范圍內(nèi)相對方位地最近廠界NW境NW境E境廠界外500米范圍內(nèi)無地下水集中式飲用水污染物排放控制標準3.5污染物排放標準本項目廢水可納入市政污水管網(wǎng)進入臺州市水處理發(fā)標后排入臺州灣。本項目納管標準執(zhí)行《電子工業(yè)水處理廠污染物排放標準》（GB18918-20021pH值23BOD545NH3-N68789m3/萬只產(chǎn)品pHCODcrNH3-N15本項目印刷、蝕刻、涂布、實驗廢氣等主要污排氣筒高度m9/物本項目印刷、涂布等使用過程中產(chǎn)生的臭氣濃度執(zhí)行度/企業(yè)廠區(qū)內(nèi)VOCs無組織排放監(jiān)控點濃6行《工業(yè)企業(yè)廠界環(huán)境噪聲排放標準》(GB）（（GB18599-2001）及其修改單（環(huán)境保護部，201b.危險固廢總量控制指標CODCrVOCs/NOx//VOCsNOx/法(試行)》，建設項目需新增污染物排放量(同類污染物排放量。生態(tài)環(huán)境功能區(qū)劃及其它相關(guān)規(guī)劃明劃執(zhí)行，沒有明確的，其替代比例為：環(huán)境功能區(qū)達標較好地產(chǎn)廢水，只排放生活污水的，其新增生活污水排放量可以不建設項目同時排放生產(chǎn)廢水和生活污水的，應將生產(chǎn)廢水部核算為建設項目污染物排放總量，需新增污染物排放總量文件精神：按照《建設項目主要污染物排放總量指標建設單位將項目的VOCs排放替代總量上報當?shù)丨h(huán)保1項目總量控制情況詳見表3.6-3。例量NH3-NVOCsNOx環(huán)境保護局關(guān)于對新增氮氧化物兩項主要污染物排放市生態(tài)環(huán)境局椒江分局確認后，通過排污權(quán)交易系統(tǒng)獲得相應的總量控制指標，讓憑證均在有效期內(nèi)，可用于本次削減指標為14.48//////////////////施本次技改項目利用現(xiàn)有廠房實施生產(chǎn)。生產(chǎn)設備進行安裝聲、固體廢物、振動等均較小，經(jīng)落實相關(guān)防治措施后對周邊環(huán)境本項目加工廢水主要有切割廢水、銑磨廢水、精磨廢水、拋//本次技改項目清洗廢水包括超聲波清洗機、離子清洗廢水、清洗廢水、凈化臺清洗廢水，根據(jù)類比企業(yè)現(xiàn)有工程實際生產(chǎn)數(shù)據(jù)/53327852362212生活污水—30030—————生活污水—30030—————），％）CODCr———區(qū)7—/—————— 50———區(qū)7——————00根據(jù)以上廢水水量及水質(zhì)核定情況，項目廢CODCr水————水/ 水/———水——— 水/—————/—————//CODCr類物—0—2——————0—0—51———251——/CODCr物——度———0——度 2 ————————— —————0———51———251——/單位CODCr物量0量-量-臺州分公司、浙江臺佳電子信息科技有限公司椒江分公司廢水排入企施進行處理，根據(jù)調(diào)查，上述兩個企業(yè)日排水量約為247.8t/d特光學科技有限公司、浙江晶馳光電科技有限公司廢水排入企業(yè)二浙江晶馳科技有限公司為依托責任主體）進行處理，根據(jù)調(diào)查，），進入酸堿中和槽，經(jīng)中和后排入綜合廢水調(diào)節(jié)池，或由閥控制定量投池，與連續(xù)流綜合廢水混合，使廢水水質(zhì)、水量保持在一個穩(wěn)定的范圍水量保持在一個穩(wěn)定的范圍，以減少對物化處理系統(tǒng)的沖二淀池、終沉池與初沉池產(chǎn)生的浮渣和污泥排入污本項目東廠區(qū)污水納入水晶光電科技股份有限公司統(tǒng)一規(guī)劃（以浙江晶馳科技有限公司為依托責任主體）處理，整個水晶廢堿收集池泵r廢酸收集池泵r酸或堿PAC泵配水v泵v泵泵生產(chǎn)廢水2100m/dpH調(diào)節(jié)池混凝反應池初沉池pH回調(diào)池PAC泵 泵泵空氣生活污水調(diào)節(jié)池污泥回流泵污泥濃縮池廂式壓濾機(自動拉板隔膜式）污泥外運濾液回綜合調(diào)節(jié)池污泥至污泥池中和反應槽過濾+超濾低溶度廢堿低溶度廢酸廢堿收集池泵r廢酸收集池泵r酸或堿PAC泵配水v泵v泵泵生產(chǎn)廢水2100m/dpH調(diào)節(jié)池混凝反應池初沉池pH回調(diào)池PAC泵 泵泵空氣生活污水調(diào)節(jié)池污泥回流泵污泥濃縮池廂式壓濾機(自動拉板隔膜式）污泥外運濾液回綜合調(diào)節(jié)池污泥至污泥池中和反應槽過濾+超濾PAM綜合廢水隔油調(diào)節(jié)池污泥至污泥池粉末炭（預留）PAM粗細格柵兼氧池好氧池二沉池終沉池經(jīng)化糞池后生活廢水污泥至污泥池達標排放126m/d粗細格柵兼氧池好氧池二沉池終沉池經(jīng)化糞池后生活廢水污泥至污泥池達標排放中間清水池過濾直排系統(tǒng)（預留）項目實施后污水處理站廢水處理量在設計處理規(guī)模內(nèi)處理本次項目廢水要求，水晶光電二期污水脫膠廢氣、拋砂粉塵、球罩、工裝去膜廢氣、注塑廢氣、蝕1///23//456//17//8//9//有組織無組織/////90%計算，其余未收集的廢氣在潔凈車間內(nèi)，車間為密閉，車間采有組織無組織/////聯(lián)合廠房2油墨絲印及烘干、膠粘及固化廢氣、1///23////456//7//28//49//有組織無組織////間內(nèi)，車間為密閉，車間采用集中換風方式，排放至外環(huán)境，其中烘），有組織無組織////1//57/9/織織//間內(nèi)，車間為密閉，車間采用集中換風方式，排放至外環(huán)境，廢氣經(jīng)），織織//），算，蝕刻過程中主要的廢氣污染物為硝酸酸），液噴淋裝置處理后達標排放，具體硝酸酸霧廢氣根據(jù)以上統(tǒng)計方法，酸霧的產(chǎn)生量主要與槽液面積、生產(chǎn)時間NOxNOx織Nm3/h0NOxkg/hmg/Nm3通過計算，項目有組織酸霧排放濃度均達到《大氣備空壓機、冷水機等公建設備運行產(chǎn)生的噪聲，主要是位于12535456經(jīng)隔聲、減噪措施后，企業(yè)東、西、北廠界滿類標準要求，西側(cè)建設建設項目運營過程中產(chǎn)生的固體廢物主要有：切割產(chǎn)生產(chǎn)生的次品，不銹鋼邊角料、廢刀片、切割線、研磨拋光渣泥、廢油廢芯取油、化學品廢包裝材料、廢顯影液、廢蝕刻液、涂布廢液、廢再經(jīng)沉淀池預處理后納入污水處理站處理，砂水分離及沉淀預本項目膠帶使用量約為1040卷，保護膜約90卷，根據(jù)類比企業(yè)現(xiàn)有實際生產(chǎn)數(shù)據(jù)本項目工裝件去膜拋砂工序使用濕法拋砂工藝，拋砂過程中本項目純水制備過程中會產(chǎn)生一定量的廢樹脂，根據(jù)企業(yè)實脂產(chǎn)生量約為2.5t/a，廢樹脂屬于一般固廢，收集后出售給物資回收公司利用。廢芯取油及油泥產(chǎn)生量約為5.0t/a；根據(jù)加一定量的切割油泥，根據(jù)類比企業(yè)現(xiàn)有實際生產(chǎn)數(shù)據(jù)統(tǒng)計，油泥產(chǎn)生項目堿性清洗劑、銑磨液、油墨、稀釋劑、固化劑、收作為下一批次原料使用，對照《固體廢物鑒別標準來源于傳感元器件等生產(chǎn)顯影工序，使用過的顯影液除少來源于晶圓圖形化元器件生產(chǎn)蝕刻工序，蝕刻工序蝕刻液本項目去膜清、洗工序采用堿性清洗劑，堿性清洗劑使用量42.3t/a，生產(chǎn)過程中消企業(yè)采用活性炭吸附處理有機廢氣，本次技定要求：固定吸附裝置吸附層的氣體流速應根據(jù)吸附劑的形態(tài)確定），本項目UV解膠過程中消耗一定量等燈管，燈管為汞燈，根根據(jù)加工需求，部分微棱鏡和球面鏡加工過程中使用切削液，用量約為26.2t/a，切削液設置循環(huán)過濾系統(tǒng)，循環(huán)使用，定期更換（約6個月更換一次），根據(jù)企業(yè)現(xiàn)有實際生產(chǎn)數(shù)據(jù)統(tǒng)計，切削液消耗量約為50%左右，則廢切削液產(chǎn)生量約為13.1t/a。本項目切割油、芯取油、機油使用過程中會產(chǎn)生一定量的廢產(chǎn)需要，企業(yè)部分空油桶大部分作為廢礦物油暫根據(jù)加工需求，本項目手機蓋板生產(chǎn)過程中強化過程使用硝酸強化，在高溫強化過程中分解為亞硝酸鹽，失效后需更換，根據(jù)物），建設項目職工定員270人，由于本項目設食堂和宿舍，同時生產(chǎn)車間潔凈要求，生產(chǎn)垃圾產(chǎn)生量較少；生活垃圾產(chǎn)生量按0.5kg0.135t/d，勞動時間為330d/a，合計年產(chǎn)生的生1234固5固6固7固8固9固理修液液有機溶劑、布鐵通、油物1是2是3金剛砂、泥是4固是5固是6固是7固是8固是9固是物是是是是是液是液是是是是是鐵通、油是是根據(jù)《國家危險廢物名錄》（2021）以及《危險廢物鑒別標準1否///2否///3否///4否///5否///6否///7否///8否///9是物是是T是T是T是