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1、電子束蒸發(fā)原理,孔慶峰,蒸鍍機(jī)照片,一.金屬蒸鍍的分類,一.熱蒸鍍 二.電子束蒸鍍 三,濺射蒸鍍,1.熱蒸鍍,Thermal Evaporation 就是在高真空下，將所要蒸鍍的材料，利用電阻加熱到達(dá)熔化溫度，使其蒸發(fā)，達(dá)到并附著在基底表面的一種技術(shù)。,2.電子束蒸鍍,(E-Gun Evaporation) 就是在高真空下，將所要蒸鍍的材料，利用電子束加熱到達(dá)熔化溫度，使其蒸發(fā)，達(dá)到并附著在基底表面的一種技術(shù)。,3.濺射技術(shù),磁控濺射的工作原理是指電子在電場(chǎng)E的作用下，在飛向基片過(guò)程中與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離產(chǎn)生出Ar和新的電子；新電子飛向基片，Ar 在電場(chǎng)作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟

2、擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜 。,二.電子束蒸鍍,1.特點(diǎn). 相較于熱蒸鍍的方式電子束蒸鍍的方法有其下列的優(yōu)點(diǎn)。 1.可聚焦的電子束，能局部加溫元素源，因不加熱其它部分而避免污染。 2. 高能量電子束能使高熔點(diǎn)元素達(dá)到足夠高溫以產(chǎn)生適量的蒸氣壓。,2.坩堝示意圖,3.電子速控制原理,我們只要改變加速電場(chǎng)的大小就可以改變電子束射擊到坩鍋的位置,假設(shè)與電子束平行的位置為X軸方向，如果與交插電子束的位置加裝一組磁場(chǎng),我們便能控制電子束左右的方向,以此我們稱為Y軸。 以電場(chǎng)和磁場(chǎng)的控制，我們便能控制電子束掃描的區(qū)域及面積的大小。,E-GUN的結(jié)構(gòu)示意圖,晶振片探測(cè)頻率控制膜厚,當(dāng)下電極的部位沉積一些金屬層之后,由于壓

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