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文檔簡介

1、PVD磁控濺射鍍膜(裝飾鍍膜)的制造工藝流程、向真空室投入物品、真空排氣加熱處理、清洗靶、離子清洗、成膜、冷卻、物品出水、真空室清洗、真空排氣、真空排氣：是薄膜的要求成膜前的真空度要求達到5.010-3Pa (抽真空時間約為3060分鐘)，抽真空加熱、抽真空加熱：在達到一定的真空度的情況下(例如： 2.010-2Pa )開始加熱，隨著打開架子，提高薄膜層的品質(zhì)和性能只有在真空度達到要求的范圍時，才能開啟加熱，所以能夠防止物品的表面被氧化。 必須在加熱打開的同時打開機架。 清洗靶、清洗靶(也稱為點靶) :在真空度達到一定范圍時(本公司制貨物要求范圍為7.010-35.010-3Pa )，可以打開

2、靶，對靶面進行清洗處理。 離子清洗3360工件在預(yù)熱處理后表面也有一定的污垢，也可能有輕的氧化層，但離子清洗是除去污垢和表面氧化層的有效方法之一，成膜3360是在工作氣體的氬氣的壓力達到一定時打開靶，適量的反應(yīng)氣體3 .在成膜過程中注意靶電壓、靶電流、壓力、偏壓等的變化，以獲得氮(N2)、氧(O2)、甲烷(CH4)、乙炔(C2H2)、一氧化碳(CO )等氣體流動的氮化物膜、氧化物膜、碳化物膜等由于冷卻：在成膜過程中會產(chǎn)生高溫，所以為了防止膜層在出爐時受到真空室內(nèi)外溫度差的影響而產(chǎn)生應(yīng)力，要求在成膜結(jié)束后適當(dāng)冷卻后出爐.問題、1、在生產(chǎn)過程中，在下述各階段停止轉(zhuǎn)會會產(chǎn)生什么樣的不良影響(參照專利文獻1 ) 在離子清洗(3)、成膜2、成

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