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1、1,AFM工作原理 通過(guò)隧道電流檢測(cè)力敏元件的位移來(lái)實(shí)現(xiàn)力敏元件探針尖端與表面原子之間的排斥力(10-8-10-6牛頓)的監(jiān)測(cè),進(jìn)而得到表面型貌像。,2,3,調(diào)節(jié)針尖位置和偏壓,將氙原子吸附后移動(dòng),每個(gè)字母長(zhǎng)5納米。(超高真空,超低溫),4,5,在石墨表面通過(guò)搬遷碳原子繪制出的世界上最小的中國(guó)地圖,6,STM deposit This lithographic capability was related to a phenomena that occurred when a gold tip had a short ( sec voltage pulse applied to it. Thi

2、s would deposit a small mound of gold atoms on the substrate. The mounds each contain 100-200 atoms and can be deposited in a pattern (a globe showing the western hemisphere),西半球:4V600納秒脈沖,原子從金針尖發(fā)射,在金樣品留下直徑10納米高1-2納米小丘。地圖直徑1微米。,7,AFM lithography: grooves in Si with a width of about 30nm and a depth

3、of 45nm 掩膜、光柵,8,9,10,四 結(jié)論與展望,11,制造技術(shù)的精密化與微細(xì)化 微細(xì)放電 (Micro EDM) 微細(xì)電解 (Micro ECM) 精密電鑄 (Micro Electroforming) LIGA和UV-LIKE ELID精密磨削 微細(xì)快速成型 (Micro Rapid Prototyping) 微細(xì)銑削 (Micro Milling) 擠壓珩磨 (Extrude Hone) 基于SPM的納米加工,12,羅雷爾,1993年,7th STM SYMP 許多人認(rèn)為納米科技僅僅是遙遠(yuǎn)的未來(lái)基礎(chǔ)科學(xué)的事情,而沒(méi)有什么實(shí)際意義。但我確信納米科技現(xiàn)在已具有與150年前,微米科技所具有的希望和重要意義。150年前,微米作為新的精度標(biāo)準(zhǔn)、并成為工業(yè)革命的技術(shù)基礎(chǔ),最早和最好學(xué)會(huì)并使用微米技術(shù)的國(guó)家都在工業(yè)發(fā)展中占據(jù)了巨大的優(yōu)勢(shì)。同樣,未來(lái)的技術(shù)將屬于那些明智地接受納米作為新標(biāo)準(zhǔn)、并首先學(xué)習(xí)和使用它的國(guó)家。不幸的是,目前對(duì)這一技術(shù)新領(lǐng)域保持和懷疑態(tài)度的還大有人在。我們應(yīng)當(dāng)記住,微米技術(shù)曾同樣地被認(rèn)為對(duì)使用牛

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