標(biāo)準(zhǔn)解讀
《GB/T 31470-2015 俄歇電子能譜與X射線光電子能譜測(cè)試中確定檢測(cè)信號(hào)對(duì)應(yīng)樣品區(qū)域的通則》是一項(xiàng)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn),旨在規(guī)范在使用俄歇電子能譜(AES)和X射線光電子能譜(XPS)技術(shù)進(jìn)行材料表面分析時(shí),如何準(zhǔn)確地識(shí)別出所獲得數(shù)據(jù)對(duì)應(yīng)的樣品表面的具體位置。該標(biāo)準(zhǔn)適用于需要精確定位表征信息來(lái)源的應(yīng)用場(chǎng)景,比如微區(qū)分析、薄膜成分分析等。
根據(jù)文檔內(nèi)容,其主要涵蓋了以下幾個(gè)方面:
- 定義了術(shù)語(yǔ)和定義部分,明確了如“分析區(qū)域”、“空間分辨率”等關(guān)鍵概念的確切含義。
- 描述了實(shí)驗(yàn)裝置的基本要求,包括對(duì)儀器設(shè)備性能指標(biāo)的要求,以及為保證測(cè)量結(jié)果準(zhǔn)確性所需采取的措施。
- 提出了用于確定檢測(cè)信號(hào)對(duì)應(yīng)樣品區(qū)域的方法論框架,包括但不限于通過(guò)調(diào)整入射角度、改變探測(cè)器位置等方式來(lái)優(yōu)化空間分辨率;利用標(biāo)記點(diǎn)或已知特征作為參照物幫助定位;采用軟件工具輔助識(shí)別感興趣區(qū)域等。
- 給出了不同應(yīng)用場(chǎng)景下推薦使用的具體方法,并提供了相應(yīng)的示例說(shuō)明,以指導(dǎo)實(shí)際操作過(guò)程中如何選擇合適的技術(shù)手段解決問(wèn)題。
- 強(qiáng)調(diào)了記錄保存的重要性,建議詳細(xì)記錄實(shí)驗(yàn)條件、參數(shù)設(shè)置及處理過(guò)程,以便于后續(xù)的數(shù)據(jù)解釋與復(fù)現(xiàn)工作。
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- 正在執(zhí)行有效
- 2015-05-15 頒布
- 2016-01-01 實(shí)施
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ICS1722020 N 26 . . 中 華 人 民 共 和 國(guó) 國(guó) 家 標(biāo) 準(zhǔn) GB/T314702015 俄歇電子能譜與 X 射線光電子能譜測(cè)試 中確定檢測(cè)信號(hào)對(duì)應(yīng)樣品區(qū)域的通則 Standardpracticefordeterminationofthespecimenareacontributingto thedetectedsignalinAugerelectronspectrometersandsome X-rayphotoelectronspectrometers2015-05-15發(fā)布 2016-01-01實(shí)施 中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局 發(fā) 布 中 國(guó) 國(guó) 家 標(biāo) 準(zhǔn) 化 管 理 委 員 會(huì) GB/T314702015 前 言 本標(biāo)準(zhǔn)按照 給出的規(guī)則起草 GB/T1.12009 。 本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì) 提出并歸口 (SAC/TC203) 。 本標(biāo)準(zhǔn)起草單位 信息產(chǎn)業(yè)專用材料質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)中心 中國(guó)電子技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化研究院 蘇州晶瑞化 : 、 、學(xué)有限公司 天津中環(huán)領(lǐng)先材料技術(shù)有限公司 、 。 本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人 李雨辰 何秀坤 劉筠 劉兵 李翔 : 、 、 、 、 。 GB/T314702015 引 言 俄歇電子能譜和 射線光電子能譜廣泛地應(yīng)用于材料的表面分析 本標(biāo)準(zhǔn)總結(jié)了對(duì)于具有聚焦 X 。 電子束或聚焦 射線束功能的儀器 當(dāng)可掃描區(qū)域大于樣品被分析器檢測(cè)到的區(qū)域 使得通過(guò)選擇電 X , , 子能量分析器的運(yùn)行條件來(lái)確定觀察到的樣品區(qū)域的方法 樣品被觀察到的區(qū)域依賴于電子在能量分 。 析之前是否被減速 分析器的通過(guò)能或者減速比 如果電子在能量分析之前被減速 所選擇的狹縫或孔 、 , , 徑及電子能量值可以被測(cè)出 被觀察到的區(qū)域依賴電子能量分析器運(yùn)行條件的選擇也可能與樣品的適 。 當(dāng)?shù)恼{(diào)整有關(guān) 。 本標(biāo)準(zhǔn)可以給出電子能量分析器在特定的運(yùn)行條件下成像特性的信息 這個(gè)信息對(duì)將分析器性能 。 與廠商說(shuō)明書中所描述的進(jìn)行比較具有一定幫助 。 GB/T314702015 俄歇電子能譜與 X 射線光電子能譜測(cè)試 中確定檢測(cè)信號(hào)對(duì)應(yīng)樣品區(qū)域的通則1 范圍 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了俄歇電子能譜和部分類型的 射線光電子能譜檢測(cè)信號(hào)對(duì)應(yīng)樣品區(qū)域的確定方法 X 。 本標(biāo)準(zhǔn)適用于俄歇電子能譜儀和具有以下條件的 射線光電子能譜 入射 光束激發(fā)的樣品區(qū)域 X : X 大于分析器可檢測(cè)到的樣品區(qū)域 光電子從樣品到分析器入口的過(guò)程中經(jīng)過(guò)自由空間 裝配有輔助電子 ; ; 槍可以產(chǎn)生一束可變能量的電子束照射到樣品上 。2 規(guī)范性引用文件 下列文件對(duì)于本文件的應(yīng)用是必不可少的 凡是注日期的引用文件 僅注日期的版本適用于本文 。 , 件 凡是不注日期的引用文件 其最新版本 包括所有的修改單 適用于本文件 。 , ( ) 。 表面化學(xué)分析 詞匯 GB/T224612008 (ISO18115:2001,IDT) 俄歇電子能譜術(shù)和 射線光電子能譜術(shù)的樣品處理標(biāo)準(zhǔn)導(dǎo)則 SJ/T104581993 X3 術(shù)語(yǔ)和定義 界定的術(shù)語(yǔ)和定義適用于本文件 GB/T224612008 。4 縮略語(yǔ) 下列縮略語(yǔ)適用于本文件 。 俄歇電子能譜 AES: (Augerelectronspectrometer) 射線光電子能譜 XPS:X (X-rayphotoelectronspectrometer) 半高峰寬 FWHM: (fullwidthathalfmaximum)5 儀器 51 試樣 . 建議被測(cè)樣品是金屬箔一類的導(dǎo)體 橫向的尺寸大于電子能量分析器檢測(cè)區(qū)域的尺寸 試樣晶粒 , 。 尺寸應(yīng)小于分析器預(yù)期的空間分辨率或者入射電子束的直徑 以避免溝道效應(yīng)或衍射效應(yīng)造成的假象 , 。 樣品表面應(yīng)光滑 沒(méi)有刮痕 以及憑肉眼可以觀察到的類似缺陷 使用離子濺射或其他方法來(lái)清除 , , 。 樣品表面沾污 例如 氧化物 吸附的碳?xì)浠衔锏?表面潔凈度可以用
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