再談晶體管的飽和狀態(tài)和飽和壓降.doc

窗體底端窗體底端個人檔案呢稱：香雪茶 文章(7) 訪問(13364) 評論(77) 投票(138) 訂閱本博 介紹： 在整個電子產(chǎn)業(yè)鏈中，除了材料、封裝沒搞過，其它基本都做過。如此也就是能混碗飯吃而已?，F(xiàn)在科技發(fā)展日新月異，跟不上了，開個博客，重新學習。全部博文：2011年 - 2月 1月 查看全部博文 博客首頁再談晶體管的飽和狀態(tài)和飽和壓降發(fā)布時間：2011-02-15 12:00:43 在前面所寫的晶體管參數(shù)在實際使用中的意義中，提到了晶體管的飽和壓降問題，有網(wǎng)友對此問題提出了不同意見。當時，沒太在意。過后對此問題又重新思考一下，同時，在網(wǎng)上看看對問題的看法，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，許多的理解是錯誤的，一些解釋也是不完全的。因此，想對此問題重點說說。如有不同意見，歡迎討論。眾所周知，一個普通的雙極型晶體管有二個PN結(jié)、三種工作狀態(tài)（截止、飽和、放大）和四種運用接法（共基、共發(fā)、共集和倒置）。對這兩個PN結(jié)所施加不同的電位，就會使晶體管工作于不同的狀態(tài)：兩個PN結(jié)都反偏晶體管截止；兩個PN結(jié)都導通晶體管飽和：一個PN結(jié)正偏，一個PN結(jié)反偏晶體管放大電路（注意：如果晶體管的發(fā)射結(jié)反偏、集電結(jié)正偏，就是晶體管的倒置放大應用）。要理解晶體管的飽和，就必須先要理解晶體管的放大原理。從晶體管電路方面來理解放大原理，比較簡單：晶體管的放大能力，就是晶體管的基極電流對集電極電流的控制能力強弱。控制能力強，則放大大。但如果要從晶體管內(nèi)部的電子、空穴在PN結(jié)內(nèi)電場的作用下，電子、空穴是如何運動的、晶體管的內(nèi)電場對電子、空穴是如何控制的等一些物理過程來看，就比較復雜了。對這個問題，許多教課書上有不同的描述。我對此問題的理解是：當晶體管處于放大狀態(tài)時，基極得到從外電源注入的電子流，部分會與基區(qū)中的空穴復合，此時產(chǎn)生的復合電流，構(gòu)成了基極電流的主體。由于此時晶體管是處于放大狀態(tài)，故集電結(jié)處于反偏。又因集電結(jié)的反偏，就在此PN結(jié)的內(nèi)部，就形成了一個強電場，電場的方向由集電極指向基極，即集電極為正，基極為負。也就是說，在此PN結(jié)（集電結(jié)）聯(lián)接集電極的一端，集中了大量帶正電的空穴。當從基極注入的電子流進入基區(qū)后，一部分與基區(qū)內(nèi)部的空穴進行了復合，而大部分電子則在強電場的作用下，被“拉”到了集電極，這種被電場“拉”到集電極的電子流，構(gòu)成了集電極電流的主要組成部分。由于從基極注入的電子流，只有很少一部分在基區(qū)被復合，大部分電子是在集電結(jié)的強電場的作用下，集中到了集電極，構(gòu)成了集電極電流的主體，所以，此時的集電極電流要遠大于從基極注入的電流，這就是晶體管放大功能的物理模型。此時，是以NPN型晶體管進行舉例。如果是PNP型晶體管，則只要把晶體管的極性由正換成負就行。如果要從基極電流、集電極電流、發(fā)射極電流的組成、流動，PN結(jié)的能級等等方面來講清晶體管的放大機理，就更復雜了。這在許多專業(yè)的教課書都有解釋。現(xiàn)在的問題是：如果增大晶體管基極的電流注入，晶體管還能工作在放大區(qū)嗎？如果不能，則晶體管會從放大狀態(tài)，向什么狀態(tài)過渡？另外，基極電流的注入，能不能無限增加？也就是說，晶體管對基極電流有限制嗎？限制的條件是什么？這就要從晶體管的放大狀態(tài)，進入另一個狀態(tài)的飽和狀態(tài)的討論。在下面的討論中，以共發(fā)射極電路進行。其它形式的放大電路，都可以用這種方法進行。眾所周知，從晶體管的發(fā)射極、基極和集電極電位的關(guān)系中，可以非常方便地對晶體管的工作狀態(tài)作出判斷。對處于共發(fā)射極放大的NPN型晶體管而言，集電極電位基極電位發(fā)射極電位時，晶體管工作于放大狀態(tài)。隨著基極注入電流的增大，流出該管的集電極電流也就增大。此時流過負載電阻Rc的電流同時增加。此時，因晶體管工作于放大狀態(tài)，故晶體管的集電極電流可用由下式表示：Ic=Iceo+*ib當忽略晶體管的反向漏電流Iceo時，Ic*ib可見，隨著基極電流的增加，集電極電流以基極電流的倍同步增加。此時，串于集電極回路的電阻Rc上的壓降，也就隨著Ic增大而增大。因晶體管的集電極電位Vce=電源電壓減去集電極Rc上的壓降，即Vce=VcIc*Rc；對于硅材料組成的雙極型晶體管來講，PN結(jié)的正向?qū)妷簽?.7V，因此一般在工程中認為：當基極注入的電流，讓晶體管的Ic與Rc的積滿足下列公式時（Vce-Ic*Rc）-Vb0V（注意：此時集電結(jié)近似零偏壓，已不是原來的反偏狀態(tài)了）式中：Vce為晶體管集電極發(fā)射極間的電壓，Vb為晶體管基極的電壓。就認為此晶體管已開始進入飽和狀態(tài)。但因這時晶體管的Ic仍能隨著Ib的增大而增大，只是已不符合Ic=Iceo+*ib而已。這就是在工程中常說的“晶體管處于臨界飽和狀態(tài)”，又稱“臨界工作狀態(tài)”。此時如果繼續(xù)加大基極的注入電流，晶體管的集電極電位將進一步降低，當出現(xiàn)晶體管的基極注入已不能使晶體管的Ic隨之增大時（即（Vce-Ic*Rc）-Vb=常數(shù)時），我們就稱此晶體管“進入深飽和狀態(tài)”。此時，晶體管的基極電位為最高（此現(xiàn)象，對N-P-N晶體管而言。如果是P-N-P型晶體管，則只要在所有電源前加一負號即可得出相同的結(jié)論），即晶體管的兩個PN結(jié)均處于正偏狀態(tài)。由此可以得出晶體管飽和的定義：當晶體管的兩個PN結(jié)均處于正偏時，此晶體管就處于飽和狀態(tài)。在實際的放大應用中，如果放大電路是用于小信號放大，只要晶體管的靜態(tài)工作點設置正確，晶體管一般不會進入飽和區(qū)。但如果晶體管放大電路處理的是信號幅值較大的信號，例音頻功放的輸出級，則晶體管極有可能進入飽和區(qū)。此時，就會在輸出波形上出現(xiàn)“削頂”現(xiàn)象。這就是因輸入信號的幅值太高，晶體管進入飽和區(qū)后，對信號失去放大作用，同時對信號產(chǎn)生限幅作用后的結(jié)果。由此可得出第一個問題的答案：隨著基極電流的增加，晶體管的工作狀態(tài)將由放大區(qū)向飽和區(qū)過渡，當基極注入的電流達到一定程度時，晶體管的飽和程度將加深。最后出現(xiàn)無論基極電流怎么增加，集電極電流將維持不變，此時，晶體管進入深飽和狀態(tài)。在以上敘述中，沒有提到電流的量綱問題。也就是說，晶體管在小電流工作時，同樣會出現(xiàn)飽和狀態(tài)。實際上，晶體管的靜態(tài)工作點設置偏左上方時，也就是當電路的Vc較低、Rc較大時，晶體管就較容易進入飽和狀態(tài)。也就是說，晶體管工作時的動態(tài)范圍與所設置的晶體管工作點密切相關(guān)，而與晶體管的能流過多大的電流無關(guān)。需要指出的是：在晶體管電路中，無論改變電路中的哪個參數(shù)，都會對晶體管的工作點產(chǎn)生影響。對此，有興趣的可以自己計算和驗證。這里談的飽和狀態(tài)，是晶體管在工作中的一種物理特性。也就是說，晶體管的飽和狀態(tài)，是晶體管的一種特性，此特性與晶體管的Icm無關(guān)。晶體管的Icm是不能隨外電路的設計而改變的，換句話說，晶體管的Icm對應用者來講，是使用前就已由晶體管本身所決定的一項與晶體管安全使用密切相關(guān)的參數(shù)，而晶體管的飽和狀態(tài)，則是由外電路所提供的條件決定的。晶體管在飽和工作時，對晶體管的可靠性不一定會產(chǎn)生不良影響。例音頻功放最大輸出是在輸出波形的失真達到10%時測試的。此時用示波器觀察，可見輸出波形已出現(xiàn)嚴重的削頂。在前面的討論中曾提到，加大晶體管的基極注入電流，能使晶體管從放大區(qū)向飽和區(qū)過渡。基極電流能任意加大嗎？回答是否定的。我查了一下現(xiàn)在的一些晶體管規(guī)格書，在極限參數(shù)這一欄里，許多功率型晶體管都增加了“最大基極電流”這一項。對此參數(shù)為什么要進行定義？其理由是顯而易見的。我想大概有以下幾個原因：1.晶體管是電流控制型器件，從晶體管的結(jié)構(gòu)上講，基極的內(nèi)引線是晶體管中最細的。這就決定了晶體管基極的電流容量是最小的。在實踐中，也感到晶體管的發(fā)射結(jié)是比較脆弱的：發(fā)射結(jié)的反向擊穿電壓較低，基極電流不能過大，是發(fā)射結(jié)在使用中應考慮的問題之一。2.晶體管導通時，其基極電流的組成又是最復雜的，在半導體器件可靠性這本書中，有對基極電流的詳細描述，現(xiàn)摘錄如下：“硅平面晶體管，基極電流成分是相當復雜的，當晶體管正常工作時，組成基極電流的共有十一種成份：1.基極總電流，2.發(fā)射區(qū)少子的復合和存貯電流，3.發(fā)射結(jié)勢壘產(chǎn)生-復合電流，4.發(fā)射結(jié)附近的產(chǎn)生-復合電流，5.發(fā)射結(jié)電容的位移電流，6.基區(qū)少子的復合和存貯電流，7.集電區(qū)少子的復合和存貯電流，8.集電結(jié)勢壘萄產(chǎn)生-復合電流，9.集電結(jié)電容的位移電流，10.發(fā)射區(qū)少子的擴散和漂移電流，11.集電區(qū)少子的擴散和漂移電流。”“這十一種基極電流成份均與溫度有關(guān)。正因為這樣，在晶體管參數(shù)中，凡是與基極電流Ib有關(guān)的參數(shù)，隨溫度變化一般均比較復雜，很難找到準確的定量關(guān)系，其原因就在于，對于不同結(jié)構(gòu)，不同工藝制成的不同類型的晶體管，這些成份的溫度關(guān)系是不一樣的”?！吧鲜龈骰鶚O電流分量在不同工作條件下或不同結(jié)構(gòu)的晶體管中，所占的比重及其作用也是不同的。比如對微功耗晶體管，其工作電流往往是微安數(shù)量級，所以發(fā)射結(jié)勢壘的產(chǎn)生-復合電流及發(fā)射結(jié)附近表面的產(chǎn)生復合電流占重要地位。而對一般晶體管只有工作在小電流區(qū)時，此二項電流成份才予以注意。再如集電區(qū)少子復合和存貯電流在線性放大區(qū)與總電流相比可以忽略，而在飽和區(qū)則是基極電流的主要組成部分。另外，兩個結(jié)的位移電流只有在調(diào)頻使用條件下才起作用等等”。在該書中，同時給出了PN結(jié)在導通時的溫度變化趨勢，現(xiàn)只引用結(jié)果：“對于硅PN結(jié)，當保持正向電流不變時，結(jié)溫每升高1，正向壓降低2mV；而當保持正向壓降不變時，溫度每升高1，正向電流增加7.8%。換言之，PN結(jié)正向壓降具有負溫度系數(shù)，而正向電流具有正溫度系數(shù)。正是PN結(jié)的這個基本溫度關(guān)系導致了某些結(jié)型器件（例如雙極型功率晶體管、可控硅整流器、功率開關(guān)二極管以及雪崩二極管等）的熱不穩(wěn)定性，甚至導致熱失效。我想，這可能就是某些功率器件要給出最大基極電流的主要原因。討論晶體管的飽和特性，是為了更好地理解晶體管的一項直流參數(shù)飽和壓降Vces。晶體管處于飽和狀態(tài)時，可近似看成是開關(guān)處于開啟狀態(tài)。這與直接導通是有區(qū)別的。因為，所有的半導體模擬開關(guān)，永遠做不到在開啟時完全與導線聯(lián)通完全相等。其原因不說自明。在處于晶體管飽和狀態(tài)時，集電極與發(fā)射極之間的電壓降，在工程上稱為“反向飽和壓降”，記作：Vces；而把基極與發(fā)射極之間的電壓降稱為“正向飽和壓降”，記作：Vbes。飽和壓降是電流的函數(shù)，且與電流成正比。當晶體管用于放大電路時，飽和壓降對放大電路的動態(tài)范圍有影響，這在音頻功放中尤其明顯，當所選晶體管的電流較小時，其不失真輸出功率受飽和壓降的影響，很難達到設計要求。此時如采用提高電源電壓的方案，則就可能會出現(xiàn)晶體管Pcm的超范圍使用，結(jié)果使整機的可靠性下降。因此在對音頻功放的晶體管選型時飽和壓降是一個很重要的參數(shù)。此問題在正常使用中，同樣重要。例有些生產(chǎn)玩具的公司，在驅(qū)動電機時，控制電路采用兩對功率晶體管，接成全橋形式。這種用法，在原理上是正確的。但在晶體管的工作狀態(tài)設置、電源、電流的取值方面，往往出現(xiàn)問題。追究主要原因，是對晶體管飽和壓降、放大的片面理解所致。在這種使用中，凡是出問題的，可歸納以下幾點：1.晶體管工作于大電流臨界飽和狀態(tài)，此時晶體管的功耗已達極限，隨著工作時間的延長，晶體管的結(jié)溫升高，使元器件進入惡性循環(huán)，晶體管就會永久失效。解剖這類晶體管，往往可見是超功耗損壞；2.在此種應用電路中，晶體管往往工作在大電流狀態(tài)，而晶體管的放大，是在一種特定的條件下測的，在晶體管工作在大電流時，放大將會下降。此時如果驅(qū)動不足，則晶體管就會工作在放大區(qū)，這樣，晶體管很快就會因超功耗而失效。嚴重時，通電后不到1分鐘，晶體管就冒煙了。3.應用時對電機是感性負載的認識不足，只計算正常工作時，晶體管的狀態(tài)，而忽略了電機反向工作過程時，產(chǎn)生的反向電動勢對晶體管的影響。當晶體管用于開關(guān)電路時，對飽和壓降就更要重視。在這里，不談飽和壓降與tstdtf等開關(guān)參數(shù)密切相關(guān)，只說一下飽和壓降對電路的實際影響原理：當晶體管用于開關(guān)電路時，一般，因電源電壓較高，故此時晶體管的動態(tài)范圍已不是主問題。問題往往出在轉(zhuǎn)換的過渡區(qū)。在這種使用模式時，晶體管在導通時，往往處于深飽和狀態(tài)。當在晶體管基極注入反向電流時，首先要在基區(qū)復合掉多余的電荷，然后電荷才會對集電結(jié)產(chǎn)生影響。飽和越深，則復合這些電荷的時間也越長（這就是晶體管ts的物理模型）。在此種情況下，如果基極的反向驅(qū)動脈沖時間不夠或幅度不足，就會延長晶體管在過渡時，經(jīng)過放大區(qū)的時間。這對用于高壓情況時的晶體管來講是非常危險的。至少會使晶體管的失效率明顯升高。因此，當晶體管應用于這種電路時，除了要對晶體管的選用加以注意外，同時也要關(guān)注驅(qū)動脈沖對晶體管的影響。晶體管飽和壓降的溫度特性，可用下式說明：Vces的溫度系數(shù)dVces/dT 為正。即在高溫下，Vces增加。這是因為：Vces=Vbe-Vbc+Ic*rcs+Ie*res式中：rcs和res分別是晶體管導通時，集電極和發(fā)射極的串聯(lián)電阻。對硅平面管，VcesIc*rcs如果保持Ic不變，則Vces的溫度特性決定于集電極串聯(lián)電阻rcs，而rcs正比于T。以上就是我對晶體管飽和、飽和壓降的理解。不一定全面。有不同意見，大家繼續(xù)討論。我以為，對技術(shù)問題，只有通過爭論，才能得到提高。2011-2-15于深圳標簽： 半導體 晶體管 分享 閱讀(2598) I 評論(22) I 收藏 I 推薦到我的小組 I 打印窗體頂端有 26 名讀者喜歡此文 窗體底端最后更新：2011-02-15 14:07:27測試程序?qū)w管的影響晶體管參數(shù)在實際使用中的意義(續(xù)四.博主的精彩博文更多 再談晶體管的飽和狀態(tài)和飽和壓降 晶體管參數(shù)在實際使用中的意義(續(xù)四） 晶體管參數(shù)在實際使用中的意義（續(xù)二） 測試程序?qū)w管的影響 晶體管參數(shù)在實際使用中的意義（續(xù)三）隨機精彩文章 中國工程師到底是缺乏才華還是缺乏展示的舞臺？ 電動車尋得市場新突破 BYD電動公交車K9獲得. 這是技術(shù)的戰(zhàn)爭電池霸權(quán) 大陸芯IC設計10年內(nèi)很難超越臺灣 MStar攻下奢侈品牌手機，高端切入打法刁鉆有 16 名讀者發(fā)表評論 - 再談晶體管的飽和狀態(tài)和飽和壓降網(wǎng)友:12605858053272011-02-21 07:06評論:簡單問題復雜化。臭雞蛋 (0)鮮花 (0)網(wǎng)友:香雪茶2011-02-18 18:00評論:回答網(wǎng)友WCC：接受你的觀點。當時，只想表示電流大飽和壓降也大，在表述上的確不夠嚴謹。謝謝！臭雞蛋 (0)鮮花 (0)網(wǎng)友:WCC2011-02-18 16:58評論:樓主說得很好！不過有一處不當：飽和壓降是電流的函數(shù)，且與電流成正比。 確實是正相關(guān)的，但不是成正比，這并不是線性的，看一下特性曲線就明白了。臭雞蛋 (0)鮮花 (0)網(wǎng)友:香雪茶2011-02-18 11:28評論:回答hszgl網(wǎng)友： 你所說的放大原理，應該是半導體內(nèi)部電子運動的情況吧？對此，我認為只要在概念上不錯，就可以了。因為我的主要工作是工程，而不是要對別人說清楚電子在晶體管內(nèi)部是如果運動。當然，如果兩者能兼得，就更好了，但我做不到。 順便說一句：我現(xiàn)在只有一本蘇州大學出版的美國施敏所著、由趙鶴鳴、錢敏、黃秋萍譯的半導體器件-物理與工藝 許多東西，都是對此書的理解。臭雞蛋 (0)鮮花 (0)網(wǎng)友:hszgl2011-02-18 11:00評論:博主寫了很多，但是很抱歉，鄙人看來博主并未真正理解晶體管放大原理。推薦Donald Neamen的半導體物理與器件，里面對于晶體管的放大原理，放大系數(shù)的決定因數(shù)，bipolar的設計方法均有比較詳細的描述，而且淺顯易懂。臭雞蛋 (0)鮮花 (0)網(wǎng)友:香雪茶2011-02-18 09:45評論:對NOP-WANG的一些提問，在必要時，以后我會以博文回答。在此，我只想對NOP-WANG說這樣一句話：對別人的文字，不要斷章取義，而要從全文來看。我認為你這種找問題的思想很好，但問題是怎么找。另外，我沒有讀過國外關(guān)于晶體管電路、知識方面的原版書籍，所以，我不知道國外工程界是如何用文字來闡述晶體管的放大、截止、飽和的。在此，針對以下的問題： “我只問博主一個問題，你說：”由于此時晶體管是處于放大狀態(tài)，故集電結(jié)處于反偏。“那你能否解釋下，在從基極注入的電子流（有基極電流的時候），集電極開路的情況下，集電極，集電節(jié)上的電子是怎么運動的。 究竟是：由于此時晶體管是處于放大狀態(tài)，故集電結(jié)處于反偏？ 還是應該是：由于此時晶體管集電結(jié)處于反偏，故此時晶體管是處于放大狀態(tài)呢？” 問你一個問題：在集電極開路狀況時，晶體管工作在什么狀態(tài)？另外：集電節(jié)？筆誤。應該是集電結(jié)，還是集電極？臭雞蛋 (0)鮮花 (0)網(wǎng)友:王久東 NOP_WANG2011-02-18 00:33評論:只說好，但不知道好在那里的人，不厚道。臭雞蛋 (0)鮮花 (0)網(wǎng)友:王久東 NOP_WANG2011-02-18 00:29評論:不好意思我又來搗亂，但是就象博主說的，技術(shù)是在不斷的討論中變的更加的清晰明了的。 我會分段對博主的博文談點個人的看法。有許多的疑問需要博主解答。首先我不同意博主的“對這兩個PN結(jié)所施加不同的電位，就會使晶體管工作于不同的狀態(tài)”因為BJT是一個電流型的控制器件，所以電壓不應該成為導致BJT進入各種狀態(tài)的絕對誘因，這個就好比我們直接接觸220V的火線會電到我們，但是我們經(jīng)過了試電筆在碰到火線我們可以安然，所以電壓不是絕對誘因，在一定的條件下才可以成為誘因，那就是可以產(chǎn)生足夠的電流。至于大家都為什么都習慣用電壓來描述BJT的工作狀態(tài)呢，個人認為：最大的原因應該就是我們對教科書的金科玉律“發(fā)射極正偏，集電極反偏，三極管處于放大狀態(tài)“，沒有任何的懷疑全盤接受（其實也只有在我們國家的教科書中有這樣的定義）。個人認為這樣的定義太片面，缺少了必要的前提。第二個原因是因為我們在應用中看到的都是輸入小的信號（電壓），而輸出卻獲得了大的信號（電壓），電壓的變化是我們直觀的可以看到的變化和比較容易獲得的參數(shù)。樓主的博文：從晶體管電路方面來理解放大原理，比較簡單：晶體管的放大能力，就是晶體管的基極電流對集電極電流的控制能力強弱?？刂颇芰?，則放大大。但如果要從晶體管內(nèi)部的電子、空穴在PN結(jié)內(nèi)電場的作用下，電子、空穴是如何運動的、晶體管的內(nèi)電場對電子、空穴是如何控制的等一些物理過程來看，就比較復雜了?！弊x完通篇，那么這樣的一個電流放大器件（準確的講是一個電流的控制器件）是怎么實現(xiàn)了電壓的放大了的呢？博主好象說的不是很清楚。那敢問博主這個比較簡單的原理，它到底是一個怎么樣的原理呢？怎么就把電流的控制變成電壓的變化了？還有那既然BJT是一個電流型控制器件，那博主能不能從電流的角度來分析下BJT的三種工作狀態(tài)呢？臭雞蛋 (0)鮮花 (0)網(wǎng)友:王久東 NOP_WANG2011-02-18 00:25評論:樓主的博文：”對這個問題，許多教課書上有不同的描述。我對此問題的理解是：當晶體管處于放大狀態(tài)時，基極得到從外電源注入的電子流，部分會與基區(qū)中的空穴復合，此時產(chǎn)生的復合電流，構(gòu)成了基極電流的主體。由于此時晶體管是處于放大狀態(tài)，故集電結(jié)處于反偏。又因集電結(jié)的反偏，就在此PN結(jié)的內(nèi)部，就形成了一個強電場，電場的方向由集電極指向基極，即集電極為正，基極為負。也就是說，在此PN結(jié)（集電結(jié)）聯(lián)接集電極的一端，集中了大量帶正電的空穴。當從基極注入的電子流進入基區(qū)后，一部分與基區(qū)內(nèi)部的空穴進行了復合，而大部分電子則在強電場的作用下，被“拉”到了集電極，這種被電場“拉”到集電極的電子流，構(gòu)成了集電極電流的主要組成部分。由于從基極注入的電子流，只有很少一部分在基區(qū)被復合，大部分電子是在集電結(jié)的強電場的作用下，集中到了集電極，構(gòu)成了集電極電流的主體，所以，此時的集電極電流要遠大于從基極注入的電流，這就是晶體管放大功能的物理模型。此時，是以NPN型晶體管進行舉例。如果是PNP型晶體管，則只要把晶體管的極性由正換成負就行?！拔抑粏柌┲饕粋€問題，你說：”由于此時晶體管是處于放大狀態(tài)，故集電結(jié)處于反偏。“那你能否解釋下，在從基極注入的電子流（有基極電流的時候），集電極開路的情況下，集電極，集電節(jié)上的電子是怎么運動的。究竟是：由于此時晶體管是處于放大狀態(tài)，故集電結(jié)處于反偏？還是應該是：由于此時晶體管集電結(jié)處于反偏，故此時晶體管是處于放大狀態(tài)呢？后續(xù)疑問后續(xù)提出。臭雞蛋 (0)鮮花 (0)網(wǎng)友:vrituoso2011-02-17 18:40評論:晶體管也可以看作是一個壓控流型器件，還是一個電阻變換器件。transistor=transform + resistor。臭雞蛋 (0)鮮花 (0)網(wǎng)友:vrituoso2011-02-17 18:23評論:（Vce-Ic*Rc）-V