造成RO膜污染的原因及解決方式[谷風(fēng)經(jīng)驗(yàn)]_第1頁(yè)
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1、1. 造成RO膜污染的原因有哪些? 反滲透運(yùn)行時(shí),進(jìn)水中含有的懸浮物質(zhì)、溶解物質(zhì)以及微生物繁殖等原因都會(huì)造成膜元件污染。反滲透系統(tǒng)的預(yù)處理應(yīng)盡可能的除去這些污染物質(zhì),盡量降低膜元件污染的可能性。造成膜污染的原因主要有以下幾種: 新裝置管道中含有油類物質(zhì)和焊接管道時(shí)的殘留物,以及灰塵且在裝膜前未清洗干凈; 預(yù)處理裝置設(shè)計(jì)不合理; 添加化學(xué)藥品的量發(fā)生錯(cuò)誤或設(shè)備發(fā)生故障; 人為操作失誤; 停止運(yùn)行時(shí)未作低壓沖洗或沖洗條件控制得不正確; 給水水源或水質(zhì)發(fā)生變化。 污染物的種類、發(fā)生原因及處理方法請(qǐng)參見下表。反滲透膜污染的和種類、原因及處理方法污染物種類原因?qū)?yīng)方法堆積物膠體和懸浮粒子等膜面上的堆積提

2、高預(yù)處理的精度或采用UF/MF結(jié)垢由于回收率過(guò)高導(dǎo)致無(wú)機(jī)鹽析出調(diào)整回收率,加阻垢劑生物污染微生物吸附以及繁殖定期殺菌處理有機(jī)物的吸附荷電性/疏水性有機(jī)物和膜之間的相互作用膜種類的選擇需正確2. 反滲透和納濾系統(tǒng)的清洗方式有哪些? 反滲透和納濾系統(tǒng)的清洗可分物理清洗和化學(xué)清洗。物理清洗也可叫物理沖洗,沖洗是采用低壓大流量的進(jìn)水沖洗膜元件,沖洗掉附著在膜表面的污染物或堆積物。 沖洗的要點(diǎn): a.沖洗的流速 裝置運(yùn)行時(shí),顆粒污染物逐漸堆積在膜的表面。如果沖洗時(shí)的流速和制水時(shí)的流速相等或略低,則很難把污染物從膜元件中沖出來(lái)。因此,沖洗時(shí)要使用比正常運(yùn)行時(shí)更高的流速。通常,單支壓力容器內(nèi)的沖洗流速為:

3、8英寸膜元件:7.2-12m3/h; 4英寸膜元件:1.8-2.5m3/h。 b.沖洗的壓力 正常高壓運(yùn)行時(shí),污染物被壓向膜表面造成污染。所以在沖洗時(shí),如果采用同樣的高壓,污染物仍會(huì)被壓在膜表面上,清洗的效果不會(huì)理想。因此在沖洗時(shí),應(yīng)盡可能的通過(guò)低壓、高流速的方式,增加水平方向的剪切力,把污染物沖出膜元件。壓力通??刂圃?.3MPa以下。如果在0.3MPa以下,很難達(dá)到一定的流量時(shí),應(yīng)盡可能控制進(jìn)水壓力,以不出產(chǎn)水或少出產(chǎn)水為標(biāo)準(zhǔn)。一般進(jìn)水壓力不能大于0.4MPa。c.沖洗的頻率 條件允許的情況下,建議經(jīng)常對(duì)系統(tǒng)進(jìn)行沖洗。增加沖洗的次數(shù)比進(jìn)行一次化學(xué)清洗更有效果。一般沖洗的頻率推薦以一天一次為

4、好。根據(jù)具體的情況,用戶可以自行控制沖洗的頻率。 化學(xué)清洗是指在物理沖洗已經(jīng)不能使反滲透膜的性能恢復(fù)時(shí),使用化學(xué)藥劑及方法來(lái)清洗。 化學(xué)清洗藥劑該如何選擇? 不同污染物應(yīng)采用不同的清洗藥劑。污染發(fā)生時(shí)通常不是一種污染物,因此常規(guī)化學(xué)清洗需要包括高PH值清洗和低PH值清洗兩大步驟。可以使用的常規(guī)化學(xué)清洗藥劑。要選用哪個(gè)清洗劑進(jìn)行化學(xué)清洗,可以按以下方法判斷: 按反滲透進(jìn)水水質(zhì)判斷; 進(jìn)行全系統(tǒng)膜元件清洗之前,可以從系統(tǒng)中取出一、兩支膜元件,通過(guò)進(jìn)行清洗試驗(yàn),選擇最佳的清洗藥品。一般來(lái)說(shuō),應(yīng)先采用高PH清洗液清洗油類和微生物污染,然后采用最低PH清洗液清洗無(wú)機(jī)垢類或金屬氧化物污染。有時(shí)也先酸洗后堿

5、洗,或者只采用一種藥劑清洗,例地下水源的鐵污染,采用簡(jiǎn)單的低PH清洗液即可。有時(shí)清洗液中加入洗滌劑以便去除微生物和有機(jī)污染物;有些加入螯合劑如EDTA,以便更好地去除膠體、有機(jī)物、微生物和硫酸鹽垢。如果選擇清洗劑不當(dāng),或清洗順序不當(dāng),可能會(huì)使污染惡化。 清洗液的種類有哪些呢? 溶液1:2.0%(W)檸檬酸(C6H8O7)的低PH清洗液。對(duì)于去除無(wú)機(jī)鹽垢(如碳酸鈣垢、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢等),金屬氧化物或氫氧化物(鐵、錳、銅、鎳、鋅等),及無(wú)機(jī)膠體十分有效。市售檸檬酸為粉末固體。 溶液2:2.0(W)%STPP(三聚磷酸鈉Na5P3O10)和0.8%(W)的Na-EDTA混合的高PH(PH值

6、為10)洗液。它專用于去除硫酸鈣垢和輕微至中等程度的天然有機(jī)污染物。STPP具有無(wú)機(jī)螯合劑和洗滌劑的功用。Na-EDTA是一個(gè)具有螯合性的有機(jī)螯合清洗劑,可有效去除二價(jià)和三價(jià)陽(yáng)離子和金屬離子。市售STPP和Na-EDTA均為粉末固體。 溶液3:2.0(W)%STPP(三聚磷酸鈉Na5P3O10)和0.25%(W)的Na-DDBS十二烷基苯磺酸鈉,C6H5(CH2)12-SO3Na混合的PH值為10的溶液。該清洗液用于去除重度的天然有機(jī)物(NOM)污染。STPP具有無(wú)機(jī)螯合劑和洗滌劑的功用,Na-DDBS則為陰離子洗滌劑。 溶液4:0.5%(W)鹽酸低PH清洗液(PH為2.5),主要用于去除無(wú)機(jī)

7、物垢(如碳酸鈣垢等),金屬氧化物/氫氧化物(鐵、錳、銅、鎳、鋁等),及無(wú)機(jī)膠體。這種清洗液比溶液1要強(qiáng)烈,鹽酸是強(qiáng)酸溶液,配制時(shí)需遵守相關(guān)注意事項(xiàng)。 溶液5:1.0%(W)連二亞硫酸鈉(Na2S2O4)低PH清洗液(PH=4-6)。它用于去除金屬氧化物和氫氧化物。連二亞硫酸鈉是強(qiáng)還原劑,本溶液有強(qiáng)烈氣味需合適通風(fēng)環(huán)境。連二亞硫酸鈉為粉末固體。 溶液6:0.1%氫氧化鈉和0.03%(W)SDS(十二烷基苯磺酸鈉)高PH混合液(PH為11.5)。它用于去除天然有機(jī)污染物、無(wú)機(jī)/有機(jī)膠體混合污染物和微生物(菌素、藻類、霉菌、真菌)污染。SDS是會(huì)產(chǎn)生一些泡沫的陰離子表面活性劑型的洗滌劑。 溶液7:0

8、.1%(W)氫氧化鈉高PH清洗液(PH為11.5)。用于去除聚合硅垢,這是一種較為強(qiáng)烈的堿性清洗液。 3.反滲透和納濾系統(tǒng)的在線清洗方法有哪些? 在線清洗是指膜元件保留在壓力容器中進(jìn)行。離線清洗是指從大系統(tǒng)中取出一支膜元件,用特定的清洗裝置進(jìn)行化學(xué)清洗。 一般的化學(xué)清洗步驟如下所示。具體的事項(xiàng)根據(jù)現(xiàn)場(chǎng)的工作條件及清洗的要求確定。 沖洗膜元件。用反滲透產(chǎn)水或離子交換水進(jìn)行幾分鐘沖洗。 配置藥品。保證藥品完全溶解。 循環(huán)。用低流量置換膜元件中的水,排放一部分清洗液后,進(jìn)行循環(huán)。污染嚴(yán)重時(shí),如果選擇大流量循環(huán),則有可能會(huì)產(chǎn)生壓差過(guò)高的問(wèn)題,從而損壞膜元件(單支膜元件最大壓降0.07MPa)。此時(shí),采

9、用以下方法進(jìn)行操作比較可靠: 循環(huán)運(yùn)行開始5分鐘,按設(shè)定流量1/3的量進(jìn)行循環(huán); 循環(huán)5-10分鐘間,按設(shè)定流量2/3的循環(huán)流量循環(huán); 10分鐘后按流量要求循環(huán)。 循環(huán)的時(shí)間要根據(jù)具體情況決定。一般以1小時(shí)為準(zhǔn)。這期間要隨時(shí)檢測(cè)PH值是否變化。壓力應(yīng)該盡量保持較低的水平,盡可能的沒有產(chǎn)水出現(xiàn)。同時(shí)監(jiān)測(cè)壓差是否有變化。 浸泡及再循環(huán)。緩慢關(guān)閉反滲透膜元件入口的閥門,循環(huán)量接近零時(shí),關(guān)閉循環(huán)泵。為了防止液體流出壓力容器,浸泡時(shí)可以關(guān)閉相關(guān)的閥門。浸泡的時(shí)間根據(jù)污染的程度決定。一般在1-12小時(shí)范圍。浸泡后打開相關(guān)閥門再進(jìn)行循環(huán)。 沖洗。用反滲透產(chǎn)水或離子交換水沖洗膜元件和清洗裝置中的藥液。這時(shí)系統(tǒng)從循環(huán)狀態(tài)替換到排放狀態(tài)。用供給水沖洗膜系統(tǒng)。沖洗的時(shí)間大約為20-60分鐘。可以通過(guò)測(cè)定排水的PH值和電導(dǎo)率來(lái)判斷

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