蘇州光刻膠生產(chǎn)線項目投資計劃書

1、泓域咨詢/蘇州光刻膠生產(chǎn)線項目投資計劃書蘇州光刻膠生產(chǎn)線項目投資計劃書泓域咨詢 MACRO摘要目前，在顯示面板行業(yè)中，光刻膠主要應用于TFT-LCD陣列制造，濾光片制造和觸摸屏制造三個應用領(lǐng)域。其中，TFT-LCD陣列和濾光片都是LCD面板結(jié)構(gòu)的組成部分，觸摸屏則是以觸摸控制為目的的功能單元。該光刻膠項目計劃總投資17759.68萬元，其中：固定資產(chǎn)投資15078.19萬元，占項目總投資的84.90%；流動資金2681.49萬元，占項目總投資的15.10%。達產(chǎn)年營業(yè)收入25097.00萬元，總成本費用19117.02萬元，稅金及附加314.39萬元，利潤總額5979.98萬元，利稅總額711

2、9.19萬元，稅后凈利潤4484.98萬元，達產(chǎn)年納稅總額2634.20萬元；達產(chǎn)年投資利潤率33.67%，投資利稅率40.09%，投資回報率25.25%，全部投資回收期5.46年，提供就業(yè)職位488個。本文件內(nèi)容所承托的權(quán)益全部為項目承辦單位所有，本文件僅提供給項目承辦單位并按項目承辦單位的意愿提供給有關(guān)審查機構(gòu)為投資項目的審批和建設(shè)而使用，持有人對文件中的技術(shù)信息、商務(wù)信息等應做出保密性承諾，未經(jīng)項目承辦單位書面允諾和許可，不得復制、披露或提供給第三方，對發(fā)現(xiàn)非合法持有本文件者，項目承辦單位有權(quán)保留追償?shù)臋?quán)利。光刻膠又稱光致抗蝕劑，是一種對光敏感的混合液體。其組成部分包括：光引發(fā)劑（包括光

3、增感劑、光致產(chǎn)酸劑）、光刻膠樹脂、單體、溶劑和其他助劑。光刻膠可以通過光化學反應，經(jīng)曝光、顯影等光刻工序?qū)⑺枰奈⒓殘D形從光罩（掩模版）轉(zhuǎn)移到待加工基片上。依據(jù)使用場景，這里的待加工基片可以是集成電路材料，顯示面板材料或者印刷電路板。報告主要內(nèi)容：項目概述、項目建設(shè)背景分析、市場調(diào)研分析、建設(shè)規(guī)劃、選址科學性分析、工程設(shè)計說明、項目工藝及設(shè)備分析、項目環(huán)境保護和綠色生產(chǎn)分析、安全規(guī)范管理、建設(shè)風險評估分析、節(jié)能可行性分析、計劃安排、投資情況說明、項目經(jīng)濟效益分析、項目綜合結(jié)論等。蘇州光刻膠生產(chǎn)線項目投資計劃書目錄第一章 項目概述第二章 項目建設(shè)背景分析第三章 市場調(diào)研分析第四章 建設(shè)規(guī)劃第五

4、章 選址科學性分析第六章 工程設(shè)計說明第七章 項目工藝及設(shè)備分析第八章 項目環(huán)境保護和綠色生產(chǎn)分析第九章 安全規(guī)范管理第十章 建設(shè)風險評估分析第十一章 節(jié)能可行性分析第十二章 計劃安排第十三章 投資情況說明第十四章 項目經(jīng)濟效益分析第十五章 項目招投標方案第十六章 項目綜合結(jié)論第一章 項目概述一、項目承辦單位基本情況（一）公司名稱xxx公司（二）公司簡介公司致力于一個符合現(xiàn)代企業(yè)制度要求，具有全球化、市場化競爭力的新型一流企業(yè)。公司是跨文化的組織，尊重不同文化和信仰，將誠信、平等、公平、和諧理念普及于企業(yè)并延伸至價值鏈；公司致力于制造和采購在技術(shù)、質(zhì)量和按時交貨上均能滿足客戶高標準要求的產(chǎn)品，

5、并使用現(xiàn)代倉儲和物流技術(shù)為客戶提供配送及售后服務(wù)。公司將“以運營服務(wù)業(yè)帶動制造業(yè)，以制造業(yè)支持運營服務(wù)業(yè)”經(jīng)營模式，樹立起雙向融合的新格局，全面系統(tǒng)化擴展經(jīng)營領(lǐng)域。公司為以適應本土化需求為導向，高度整合全球供應鏈。公司始終秉承“集領(lǐng)先智造，創(chuàng)美好未來”的企業(yè)使命，發(fā)展先進制造，不斷提升自主研發(fā)與生產(chǎn)工藝的核心技術(shù)能力，貼近客戶需求，助力中國智造，持續(xù)為社會提供先進科技，覆蓋上下游業(yè)務(wù)領(lǐng)域的行業(yè)綜合服務(wù)商。優(yōu)良的品質(zhì)是公司獲得消費者信任、贏得市場競爭的基礎(chǔ)，是公司業(yè)務(wù)可持續(xù)發(fā)展的保障。公司高度重視產(chǎn)品和服務(wù)的質(zhì)量管理，設(shè)立了品管部，有專職質(zhì)量控制管理人員，主要負責制定公司質(zhì)量管理目標以及組織公司

6、內(nèi)部質(zhì)量管理相關(guān)的策劃、實施、監(jiān)督等工作。公司高度重視技術(shù)人才的培養(yǎng)和優(yōu)秀人才的引進，已形成一支多領(lǐng)域、高水平、穩(wěn)定性強、實戰(zhàn)經(jīng)驗豐富的研發(fā)管理團隊。公司團隊始終立足自主技術(shù)創(chuàng)新，整合公司市場采購部門、營銷部門的資源，將供應市場的知識和經(jīng)驗結(jié)合到研發(fā)過程，及時響應市場和客戶的需求，打造公司研發(fā)隊伍的核心競爭優(yōu)勢。強有力的人才隊伍對公司持續(xù)穩(wěn)健發(fā)展具有重大的支持作用。（三）公司經(jīng)濟效益分析上一年度，xxx科技公司實現(xiàn)營業(yè)收入17127.94萬元，同比增長12.74%（1936.09萬元）。其中，主營業(yè)業(yè)務(wù)光刻膠生產(chǎn)及銷售收入為15832.49萬元，占營業(yè)總收入的92.44%。上年度主要經(jīng)濟指標序

7、號項目第一季度第二季度第三季度第四季度合計1營業(yè)收入3596.874795.824453.264281.9817127.942主營業(yè)務(wù)收入3324.824433.104116.453958.1215832.492.1光刻膠(A)1097.191462.921358.431306.185224.722.2光刻膠(B)764.711019.61946.78910.373641.472.3光刻膠(C)565.22753.63699.80672.882691.522.4光刻膠(D)398.98531.97493.97474.971899.902.5光刻膠(E)265.99354.65329.32316

8、.651266.602.6光刻膠(F)166.24221.65205.82197.91791.622.7光刻膠(.)66.5088.6682.3379.16316.653其他業(yè)務(wù)收入272.04362.73336.82323.861295.45根據(jù)初步統(tǒng)計測算，公司實現(xiàn)利潤總額4190.05萬元，較去年同期相比增長456.52萬元，增長率12.23%；實現(xiàn)凈利潤3142.54萬元，較去年同期相比增長559.15萬元，增長率21.64%。上年度主要經(jīng)濟指標項目單位指標完成營業(yè)收入萬元17127.94完成主營業(yè)務(wù)收入萬元15832.49主營業(yè)務(wù)收入占比92.44%營業(yè)收入增長率（同比）12.74%

9、營業(yè)收入增長量（同比）萬元1936.09利潤總額萬元4190.05利潤總額增長率12.23%利潤總額增長量萬元456.52凈利潤萬元3142.54凈利潤增長率21.64%凈利潤增長量萬元559.15投資利潤率37.04%投資回報率27.78%財務(wù)內(nèi)部收益率24.33%企業(yè)總資產(chǎn)萬元32796.54流動資產(chǎn)總額占比萬元30.61%流動資產(chǎn)總額萬元10038.99資產(chǎn)負債率21.77%二、項目建設(shè)符合性（一）產(chǎn)業(yè)發(fā)展政策符合性由xxx公司承辦的“蘇州光刻膠生產(chǎn)線項目”主要從事光刻膠項目投資經(jīng)營，其不屬于國家發(fā)展改革委產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)調(diào)整指導目錄（2011年本）（2013年修正）有關(guān)條款限制類及淘汰類項目。

10、（二）項目選址與用地規(guī)劃相容性蘇州光刻膠生產(chǎn)線項目選址于xx產(chǎn)業(yè)園，項目所占用地為規(guī)劃工業(yè)用地，符合用地規(guī)劃要求，此外，項目建設(shè)前后，未改變項目建設(shè)區(qū)域環(huán)境功能區(qū)劃；在落實該項目提出的各項污染防治措施后，可確保污染物達標排放，滿足xx產(chǎn)業(yè)園環(huán)境保護規(guī)劃要求。因此，建設(shè)項目符合項目建設(shè)區(qū)域用地規(guī)劃、產(chǎn)業(yè)規(guī)劃、環(huán)境保護規(guī)劃等規(guī)劃要求。（三）“三線一單”符合性1、生態(tài)保護紅線：蘇州光刻膠生產(chǎn)線項目用地性質(zhì)為建設(shè)用地，不在主導生態(tài)功能區(qū)范圍內(nèi)，且不在當?shù)仫嬘盟磪^(qū)、風景區(qū)、自然保護區(qū)等生態(tài)保護區(qū)內(nèi)，符合生態(tài)保護紅線要求。2、環(huán)境質(zhì)量底線：該項目建設(shè)區(qū)域環(huán)境質(zhì)量不低于項目所在地環(huán)境功能區(qū)劃要求，有一定

11、的環(huán)境容量，符合環(huán)境質(zhì)量底線要求。3、資源利用上線：項目營運過程消耗一定的電能、水，資源消耗量相對于區(qū)域資源利用總量較少，符合資源利用上線要求。4、環(huán)境準入負面清單：該項目所在地無環(huán)境準入負面清單，項目采取環(huán)境保護措施后，廢氣、廢水、噪聲均可達標排放，固體廢物能夠得到合理處置，不會產(chǎn)生二次污染。三、項目概況（一）項目名稱蘇州光刻膠生產(chǎn)線項目光刻膠決定芯片的最小特征尺寸。在大規(guī)模集成電路的制造過程中，光刻和刻蝕技術(shù)是精細線路圖形加工中最重要的工藝，其中光刻加工分辨率直接關(guān)系到芯片特征尺寸大小，而光刻膠的性能關(guān)系到光刻分辨率的大小（光的干涉和衍射效應）。決定著芯片的最小特征尺寸，占芯片制造時間的4

12、0-50%，占制造成本的30%。比如一塊半導體芯片在制造過程中需要進行10-50道光刻過程，由于基板不同、分辨率要求不同、蝕刻方式不同等，不同的光刻過程對光刻膠的具體要求也不一樣，即使類似的光刻過程，不同的廠商也會有不同的要求。光刻膠是電子領(lǐng)域微細圖形加工的關(guān)鍵性材料，在半導體、LCD、PCB等行業(yè)的生產(chǎn)中具有重要作用。光刻膠是利用光化學反應，經(jīng)光刻工藝將所需要的微細圖形從掩膜板轉(zhuǎn)移到代加工基片上的圖形轉(zhuǎn)移介質(zhì)，是光電信息產(chǎn)業(yè)的微細圖形線路加工制作的關(guān)鍵性材料。（二）項目選址xx產(chǎn)業(yè)園蘇州，簡稱蘇，古稱姑蘇、平江，是江蘇省地級市，國務(wù)院批復確定的中國長江三角洲重要的中心城市之一、國家高新技術(shù)產(chǎn)

13、業(yè)基地和風景旅游城市。截至2018年，全市下轄5個區(qū)、代管4個縣級市，總面積8657.32平方千米，建成區(qū)面積461.65平方千米，常住人口1072.17萬人，城鎮(zhèn)人口815.39萬人，城鎮(zhèn)化率76.05%。蘇州地處中國華東地區(qū)、江蘇東南部、長三角中部，是揚子江城市群重要組成部分，東臨上海、南接嘉興、西抱太湖、北依長江，地處東經(jīng)1195512120，北緯30473202之間。全市地勢低平，平原占總面積的54.8%，海拔4米左右，丘陵占總面積的2.7%。蘇州屬亞熱帶季風海洋性氣候，四季分明，雨量充沛，種植水稻、小麥、油菜，出產(chǎn)棉花、蠶桑、林果，特產(chǎn)有碧螺春茶葉、長江刀魚、太湖銀魚、陽澄湖大閘蟹等

14、。蘇州是首批國家歷史文化名城之一，有近2500年歷史，是吳文化的發(fā)祥地之一、清代天下四聚之一，有人間天堂的美譽。中國私家園林的代表蘇州古典園林和中國大運河蘇州段被聯(lián)合國教科文組織列為世界文化遺產(chǎn)。（三）項目用地規(guī)模項目總用地面積53853.58平方米（折合約80.74畝）。（四）項目用地控制指標該工程規(guī)劃建筑系數(shù)77.69%，建筑容積率1.60，建設(shè)區(qū)域綠化覆蓋率5.88%，固定資產(chǎn)投資強度186.75萬元/畝。（五）土建工程指標項目凈用地面積53853.58平方米，建筑物基底占地面積41838.85平方米，總建筑面積86165.73平方米，其中：規(guī)劃建設(shè)主體工程61616.15平方米，項目規(guī)

15、劃綠化面積5067.35平方米。（六）設(shè)備選型方案項目計劃購置設(shè)備共計159臺（套），設(shè)備購置費6627.54萬元。（七）節(jié)能分析1、項目年用電量569724.73千瓦時，折合70.02噸標準煤。2、項目年總用水量22032.87立方米，折合1.88噸標準煤。3、“蘇州光刻膠生產(chǎn)線項目投資建設(shè)項目”，年用電量569724.73千瓦時，年總用水量22032.87立方米，項目年綜合總耗能量（當量值）71.90噸標準煤/年。達產(chǎn)年綜合節(jié)能量30.81噸標準煤/年，項目總節(jié)能率23.22%，能源利用效果良好。（八）環(huán)境保護項目符合xx產(chǎn)業(yè)園發(fā)展規(guī)劃，符合xx產(chǎn)業(yè)園產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)調(diào)整規(guī)劃和國家的產(chǎn)業(yè)發(fā)展政策；

16、對產(chǎn)生的各類污染物都采取了切實可行的治理措施，嚴格控制在國家規(guī)定的排放標準內(nèi)，項目建設(shè)不會對區(qū)域生態(tài)環(huán)境產(chǎn)生明顯的影響。（九）項目總投資及資金構(gòu)成項目預計總投資17759.68萬元，其中：固定資產(chǎn)投資15078.19萬元，占項目總投資的84.90%；流動資金2681.49萬元，占項目總投資的15.10%。（十）資金籌措該項目現(xiàn)階段投資均由企業(yè)自籌。（十一）項目預期經(jīng)濟效益規(guī)劃目標預期達產(chǎn)年營業(yè)收入25097.00萬元，總成本費用19117.02萬元，稅金及附加314.39萬元，利潤總額5979.98萬元，利稅總額7119.19萬元，稅后凈利潤4484.98萬元，達產(chǎn)年納稅總額2634.20萬元

17、；達產(chǎn)年投資利潤率33.67%，投資利稅率40.09%，投資回報率25.25%，全部投資回收期5.46年，提供就業(yè)職位488個。（十二）進度規(guī)劃本期工程項目建設(shè)期限規(guī)劃12個月?？茖W組織施工平行流水作業(yè)，交叉施工，使施工機械等資源發(fā)揮最大的使用效率，做到現(xiàn)場施工有條不紊，忙而不亂。將整個項目分期、分段建設(shè)，進行項目分解、工期目標分解，按項目的適應性安排施工，各主體工程的施工期叉開實施。四、項目評價1、本期工程項目符合國家產(chǎn)業(yè)發(fā)展政策和規(guī)劃要求，符合xx產(chǎn)業(yè)園及xx產(chǎn)業(yè)園光刻膠行業(yè)布局和結(jié)構(gòu)調(diào)整政策；項目的建設(shè)對促進xx產(chǎn)業(yè)園光刻膠產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)、技術(shù)結(jié)構(gòu)、組織結(jié)構(gòu)、產(chǎn)品結(jié)構(gòu)的調(diào)整優(yōu)化有著積極的推動意

18、義。2、xxx科技公司為適應國內(nèi)外市場需求，擬建“蘇州光刻膠生產(chǎn)線項目”，本期工程項目的建設(shè)能夠有力促進xx產(chǎn)業(yè)園經(jīng)濟發(fā)展，為社會提供就業(yè)職位488個，達產(chǎn)年納稅總額2634.20萬元，可以促進xx產(chǎn)業(yè)園區(qū)域經(jīng)濟的繁榮發(fā)展和社會穩(wěn)定，為地方財政收入做出積極的貢獻。3、項目達產(chǎn)年投資利潤率33.67%，投資利稅率40.09%，全部投資回報率25.25%，全部投資回收期5.46年，固定資產(chǎn)投資回收期5.46年（含建設(shè)期），項目具有較強的盈利能力和抗風險能力。4、引導民營企業(yè)建立品牌管理體系，增強以信譽為核心的品牌意識。以民企民資為重點，扶持一批品牌培育和運營專業(yè)服務(wù)機構(gòu)，打造產(chǎn)業(yè)集群區(qū)域品牌和知名

19、品牌示范區(qū)。改革開放以來，我國非公有制經(jīng)濟發(fā)展迅速，在支撐增長、促進就業(yè)、擴大創(chuàng)新、增加稅收，推動社會主義市場經(jīng)濟制度完善等方面發(fā)揮了重要作用，已成為我國經(jīng)濟社會發(fā)展的重要基礎(chǔ)。但部分民營企業(yè)經(jīng)營管理方式和發(fā)展模式粗放，管理方式、管理理念落后，風險防范機制不健全，先進管理模式和管理手段應用不夠廣泛，企業(yè)文化和社會責任缺乏，難以適應我國經(jīng)濟社會發(fā)展的新常態(tài)和新要求。公有制為主體、多種所有制經(jīng)濟共同發(fā)展,是我國的基本經(jīng)濟制度；毫不動搖鞏固和發(fā)展公有制經(jīng)濟，毫不動搖鼓勵、支持和引導非公有制經(jīng)濟發(fā)展，是黨和國家的大政方針。今天，我們對民營經(jīng)濟的包容與支持始終如一，人們在市場經(jīng)濟中創(chuàng)造未來的激情也澎湃如

20、昨。綜上所述，項目的建設(shè)和實施無論是經(jīng)濟效益、社會效益還是環(huán)境保護、清潔生產(chǎn)都是積極可行的。五、主要經(jīng)濟指標主要經(jīng)濟指標一覽表序號項目單位指標備注1占地面積平方米53853.5880.74畝1.1容積率1.601.2建筑系數(shù)77.69%1.3投資強度萬元/畝186.751.4基底面積平方米41838.851.5總建筑面積平方米86165.731.6綠化面積平方米5067.35綠化率5.88%2總投資萬元17759.682.1固定資產(chǎn)投資萬元15078.192.1.1土建工程投資萬元7732.882.1.1.1土建工程投資占比萬元43.54%2.1.2設(shè)備投資萬元6627.542.1.2.1設(shè)備

21、投資占比37.32%2.1.3其它投資萬元717.772.1.3.1其它投資占比4.04%2.1.4固定資產(chǎn)投資占比84.90%2.2流動資金萬元2681.492.2.1流動資金占比15.10%3收入萬元25097.004總成本萬元19117.025利潤總額萬元5979.986凈利潤萬元4484.987所得稅萬元1.608增值稅萬元824.829稅金及附加萬元314.3910納稅總額萬元2634.2011利稅總額萬元7119.1912投資利潤率33.67%13投資利稅率40.09%14投資回報率25.25%15回收期年5.4616設(shè)備數(shù)量臺（套）15917年用電量千瓦時569724.7318年

22、用水量立方米22032.8719總能耗噸標準煤71.9020節(jié)能率23.22%21節(jié)能量噸標準煤30.8122員工數(shù)量人488第二章 項目建設(shè)背景分析一、光刻膠項目背景分析光刻膠決定芯片的最小特征尺寸。在大規(guī)模集成電路的制造過程中，光刻和刻蝕技術(shù)是精細線路圖形加工中最重要的工藝，其中光刻加工分辨率直接關(guān)系到芯片特征尺寸大小，而光刻膠的性能關(guān)系到光刻分辨率的大?。ü獾母缮婧脱苌湫?。決定著芯片的最小特征尺寸，占芯片制造時間的40-50%，占制造成本的30%。比如一塊半導體芯片在制造過程中需要進行10-50道光刻過程，由于基板不同、分辨率要求不同、蝕刻方式不同等，不同的光刻過程對光刻膠的具體要求

23、也不一樣，即使類似的光刻過程，不同的廠商也會有不同的要求。光刻膠分辨率隨IC集成度提高而提高。半導體光刻膠隨著市場對半導體產(chǎn)品小型化、功能多樣化的要求，而不斷通過縮短曝光波長提高極限分辨率，從而達到集成電路更高密度的集積。目前光刻膠根據(jù)使用的不同波長的曝光光源分類，波長由紫外寬譜向線(436nm)線(365nm)KrF(248nm)ArF(193nm)F2（157nm）方向轉(zhuǎn)移。不同波長的光刻膠用途、材料也大不相同。另外20世紀80年代以前，負膠一直在光刻工藝中占據(jù)主導地位，隨著集成電路與2-5um圖形尺寸范圍的出現(xiàn)使得正膠在分辨率優(yōu)勢逐步凸顯，目前來看對于小尺寸圖像領(lǐng)域正膠占據(jù)絕大部分市場份

24、額。半導體隨著晶圓廠擴產(chǎn)2020年市場規(guī)模約為25億元。2015年國內(nèi)半導體光刻膠市場規(guī)模假設(shè)為10億元，隨著半導體存儲、功率等器具的發(fā)展以及未來三年本土26座晶圓廠的落地，將有力帶動上游光刻膠需求，我們預計未來2016-2020年國內(nèi)半導體光刻膠市場將保持18-20%增速(2011-2015國內(nèi)半導體光刻膠GAGR=13.6%)，則2020年全國半導體光刻膠市場規(guī)模將達到24.8億元復合增速近20%。光刻膠主要制作彩色濾光片用光刻膠。TFT-LCD是由兩片偏光板，兩片玻璃，中間加上液晶，另外再加上背光源組成的。液晶顯示器里還有一片很多電晶體的玻璃，一片有紅綠藍（R.G.B）三種顏色的彩色濾光

25、片及背光源，例如當屏幕顯示藍色的時候，有電晶體的玻璃就會發(fā)出訊號。只讓藍光可以穿透彩色濾光片，而將紅色光及紅色光留在顯示器里面，這樣我們在顯示器上就只能看到藍色的光。TFT-LCD制程分陣列、組立和模組，其中LCD中光刻膠主要用在制程工序在原始玻璃上制作電晶體的圖案，類似半導體中的堅膜、清洗、曝光、顯影、蝕刻、脫膜、檢測等工序，主要制作彩色光刻膠及黑色光刻膠、LCD襯墊料光刻膠、TFT配線用光刻膠等。新增高世代線面板產(chǎn)能持續(xù)促進面板光刻膠需求。隨著全球高世代線陸續(xù)投產(chǎn)，面板出貨面積有所增長，對上游面板光刻膠需求穩(wěn)定增長，全球2015年面板光刻膠市場規(guī)模突破19.57億美元，假設(shè)復合增速約為4%

26、，則全球光刻膠預計2020年將達到23.7億美元，2016年我國面板產(chǎn)能占全球比重為26%，隨著京東方等十數(shù)家國產(chǎn)廠商擴產(chǎn)項目陸續(xù)投產(chǎn)，預計2020年我國面板產(chǎn)能占比有望提升至42%以上，則整體國內(nèi)市場規(guī)模有望達到10.2億美元約66.3億元，復合增速25%。光刻膠廣泛應用于印刷電路板的設(shè)計與加工中。PCB光刻膠主要包括干膜光刻膠、濕膜光刻膠和光成像阻焊油墨。PCB光刻膠市場穩(wěn)定增長。2015年全球PCB光刻膠市場規(guī)模達18億美元，從地域結(jié)構(gòu)來看，隨著外資企業(yè)將產(chǎn)能遷至中國，國內(nèi)供應商逐步掌握了PCB油墨關(guān)鍵原材料合成樹脂的合成技術(shù)，有效降低了產(chǎn)品成本，形成較為明顯的價格競爭優(yōu)勢，2015年中

27、國PCB光刻膠產(chǎn)值占全球比重約70%，達12.6億美金（約70億元）。隨著PCB板向高密度、高精度、多層化發(fā)展，對于PCB光刻膠的質(zhì)與量的要求會越來越高，預計PCB光刻膠未來增速會超過PCB板行業(yè)增速（2015-2020年期間，國際市場預測為3.2%），若按4%復合增速來算，預計到2020年國內(nèi)PCB光刻膠行業(yè)將達到85億元規(guī)模。二、光刻膠項目建設(shè)必要性分析光刻膠又稱光致抗蝕劑，是一種對光敏感的混合液體。其組成部分包括：光引發(fā)劑（包括光增感劑、光致產(chǎn)酸劑）、光刻膠樹脂、單體、溶劑和其他助劑。光刻膠可以通過光化學反應，經(jīng)曝光、顯影等光刻工序?qū)⑺枰奈⒓殘D形從光罩（掩模版）轉(zhuǎn)移到待加工基片上。依

28、據(jù)使用場景，這里的待加工基片可以是集成電路材料，顯示面板材料或者印刷電路板。2019年全球光刻膠市場規(guī)模預計近90億美元，自2010年至今CAGR約5.4%。預計該市場未來3年仍將以年均5%的速度增長，至2022年全球光刻膠市場規(guī)模將超過100億美元。光刻膠按應用領(lǐng)域分類，可分為PCB光刻膠、顯示面板光刻膠、半導體光刻膠及其他光刻膠。全球市場上不同種類光刻膠的市場結(jié)構(gòu)較為均衡。受益于半導體、顯示面板、PCB產(chǎn)業(yè)東移的趨勢，自2011年至今，光刻膠中國本土供應規(guī)模年華增長率達到11%，高于全球平均5%的增速。2019年中國光刻膠市場本土企業(yè)銷售規(guī)模約70億元，全球占比約10%，發(fā)展空間巨大。目前

29、，中國本土光刻膠以PCB用光刻膠為主，平板顯示、半導體用光刻膠供應量占比極低。在平板顯示行業(yè)；主要使用的光刻膠有彩色及黑色光刻膠、LCD觸摸屏用光刻膠、TFT-LCD正性光刻膠等。在光刻和蝕刻生產(chǎn)環(huán)節(jié)中，光刻膠涂覆于晶體薄膜表面，經(jīng)曝光、顯影和蝕刻等工序?qū)⒐庹郑ㄑ谀ぐ妫┥系膱D形轉(zhuǎn)移到薄膜上，形成與掩膜版對應的幾何圖形。在PCB行業(yè)；主要使用的光刻膠有干膜光刻膠、濕膜光刻膠、感光阻焊油墨等。干膜是用特殊的薄膜貼在處理后的敷銅板上，進行曝光顯影；濕膜和光成像阻焊油墨則是涂布在敷銅板上，待其干燥后進行曝光顯影。干膜與濕膜各有優(yōu)勢，總體來說濕膜光刻膠分辨率高于干膜，價格更低廉，正在對干膜光刻膠的部分市

30、場進行替代。在半導體集成電路制造行業(yè)；主要使用g線光刻膠、i線光刻膠、KrF光刻膠、ArF光刻膠等。在大規(guī)模集成電路的制造過程中，一般要對硅片進行超過十次光刻。在每次的光刻和刻蝕工藝中，光刻膠都要通過預烘、涂膠、前烘、對準、曝光、后烘、顯影和蝕刻等環(huán)節(jié)，將光罩（掩膜版）上的圖形轉(zhuǎn)移到硅片上。光刻膠是集成電路制造的重要材料：光刻膠的質(zhì)量和性能是影響集成電路性能、成品率及可靠性的關(guān)鍵因素。光刻工藝的成本約為整個芯片制造工藝的35%，并且耗費時間約占整個芯片工藝的40%-50%。光刻膠材料約占IC制造材料總成本的4%，市場巨大。因此光刻膠是半導體集成電路制造的核心材料。按顯示效果分類；光刻膠可分為正

31、性光刻膠和負性光刻膠。負性光刻膠顯影時形成的圖形與光罩（掩膜版）相反；正性光刻膠形成的圖形與掩膜版相同。兩者的生產(chǎn)工藝流程基本一致，區(qū)別在于主要原材料不同。按照化學結(jié)構(gòu)分類；光刻膠可以分為光聚合型，光分解型，光交聯(lián)型和化學放大型。光聚合型光刻膠采用烯類單體，在光作用下生成自由基，進一步引發(fā)單體聚合，最后生成聚合物；光分解型光刻膠，采用含有重氮醌類化合物(DQN)材料作為感光劑，其經(jīng)光照后,發(fā)生光分解反應，可以制成正性光刻膠；光交聯(lián)型光刻膠采用聚乙烯醇月桂酸酯等作為光敏材料，在光的作用下，形成一種不溶性的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，而起到抗蝕作用，可以制成負性光刻膠。在半導體集成電路光刻技術(shù)開始使用深紫外（DUV

32、）光源以后，化學放大（CAR）技術(shù)逐漸成為行業(yè)應用的主流。在化學放大光刻膠技術(shù)中，樹脂是具有化學基團保護因而難以溶解的聚乙烯?；瘜W放大光刻膠使用光致酸劑（PAG）作為光引發(fā)劑。當光刻膠曝光后，曝光區(qū)域的光致酸劑（PAG）將會產(chǎn)生一種酸。這種酸在后熱烘培工序期間作為催化劑，將會移除樹脂的保護基團從而使得樹脂變得易于溶解?；瘜W放大光刻膠曝光速遞是DQN光刻膠的10倍，對深紫外光源具有良好的光學敏感性，同時具有高對比度，對高分辨率等優(yōu)點。按照曝光波長分類；光刻膠可分為紫外光刻膠（300-450nm）、深紫外光刻膠（160-280nm）、極紫外光刻膠（EUV，13.5nm）、電子束光刻膠、離子束光刻膠

33、、X射線光刻膠等。不同曝光波長的光刻膠，其適用的光刻極限分辨率不同。通常來說，在使用工藝方法一致的情況下，波長越短，加工分辨率越佳。第三章 市場調(diào)研分析一、光刻膠行業(yè)分析目前，在顯示面板行業(yè)中，光刻膠主要應用于TFT-LCD陣列制造，濾光片制造和觸摸屏制造三個應用領(lǐng)域。其中，TFT-LCD陣列和濾光片都是LCD面板結(jié)構(gòu)的組成部分，觸摸屏則是以觸摸控制為目的的功能單元。TFT-LCD技術(shù)利用半導體精確控制顯示效果。TFT(ThinFilmTransistor)LCD即薄膜晶體管LCD，是有源矩陣類型液晶顯示器(AM-LCD)中的一種。TFT-LCD的主要特點是為每個原色像素點都配臵了一個半導體開

34、關(guān)器件。通過控制TFT單元的電極電壓，就可以使對應像三原色像素點上的透光率發(fā)生變化。這樣，每種原色像素點的灰度都可以得到精確的控制。若每個原色像素點可以有255個灰度階數(shù)，那么三原色像素點就可以構(gòu)成一千六百多萬種顏色。這是TFT-LCD也被稱為“真彩”屏幕技術(shù)的原因之一。由于TFT-LCD每個像素點都相對獨立，并可以進行連續(xù)控制，所以這樣的設(shè)計方法還提高了顯示屏的反應速度。TFT-LCD陣列制造與半導體制造存在共通之處。TFT陣列由一系列半導體三極管控制器組成。在玻璃面板上通過沉積，光刻和刻蝕流程制造TFT三極管的過程與在集成電路上制造三極管的過程十分相似。因此在光刻膠的使用上，TFT陣列構(gòu)造

35、與集成電路制造有共通的地方。其主要區(qū)別在于，TFT陣列的結(jié)構(gòu)比較簡單且標準化，以及TFT陣列對于尺寸的要求比先進集成電路低很多。因此一般g-line光刻膠就可以滿足要求。TFT陣列正膠也是在中國首先得到發(fā)展的光刻膠產(chǎn)品之一。在觸摸屏應用中，光刻工藝用于ITOsensor的制造。ITO是一種N型氧化物半導體-氧化銦錫；將ITO材料按照特定的圖案，涂在玻璃或者Film上，然后貼在一層厚的保護玻璃上，就得到了ITOsensor。ITOsensor是觸摸屏的重要組成部分。觸摸屏通過ITOsensor與ITOsensor之間的電容變化（雙層ITO感應電容）或者ITOsensor與觸摸屏幕的人體部位之間構(gòu)

36、成的電容變化（單層ITO表面電容）來感知觸摸動作，并進而做出相對應的反應。觸摸屏中ITO結(jié)構(gòu)的制造需要以氧化銦錫半導體材料在基底上構(gòu)造出一定的圖案，因此光刻和光刻膠技術(shù)在這個過程當中同樣是必不可少的。PCB光刻膠材料分為干膜光刻膠、濕膜光刻膠干膜與感光油墨。二者的用途都是把底板上的線路布局圖形轉(zhuǎn)移到銅箔基底上，完成印刷電路板的“印刷”過程。其區(qū)別主要在于涂敷的方式。濕膜光刻膠直接以液態(tài)的形式涂敷在待加工基材的表面；干膜光刻膠則是由預先配制好的液態(tài)光刻膠涂布在載體薄膜上，經(jīng)處理形成固態(tài)光刻膠薄膜后在被直接貼附到待加工基材上。PCB用干膜與濕膜光刻膠各有特點。從總體上來說，濕膜具有分辨率高，成本低

37、廉，顯影與刻蝕速度更快等優(yōu)勢。因此，在PCB應用中，濕膜光刻膠正逐漸實現(xiàn)對干膜光刻膠的替代。但是干膜光刻膠在特定應用場景下具有濕膜光刻膠不具備的特點。比如在淹孔加工場景中，濕膜光刻膠會浸沒基材上的孔洞，造成后期加工和清理的不便。而干膜光刻膠就不存在這個問題。PCB加工所用的油墨主要分三類：線路油墨、阻焊油墨、字符油墨。線路油墨可以作為防止PCB線路被腐蝕的保護層，在蝕刻工藝中保護線路。線路油墨一般是液態(tài)感光型的；阻焊油墨可以在PCB線路加工完成后涂在線路上作為保護層。阻焊油墨可以具有液態(tài)感光，熱固化，或者紫外線硬化的性質(zhì)。通過在PCB板上保留焊盤，阻焊油墨可以方便之后的元件焊接，起到絕緣防氧化

38、的作用。字符油墨就是用來做板子表面的標示的，比如標上元器件符號，一般不需要具備感光性質(zhì)。全球光刻膠市場規(guī)模持續(xù)增長。2015全球光刻膠市場規(guī)模大概在73.6億美金左右，光刻膠下游應用主要為三大領(lǐng)域：TFT-LCD顯示、PCB、集成電路，其中PCB光刻膠占比24.5%，LCD光刻膠占比26.6%，半導體光刻膠占比24.1%，其他類光刻膠占比24.8%。而具體中國市場近100億元，其中PCB市場接近70億元，平板顯示領(lǐng)域15-16億元，半導體領(lǐng)域8-10億元。國內(nèi)市場預計整體每年保持10-15%的增長，消費總量占據(jù)全球消費量約15%左右，光刻膠國產(chǎn)化水平嚴重不足，重點技術(shù)差距在半導體行業(yè)，有2-3

39、代差距，隨著下游半導體行業(yè)、LED及平板顯示行業(yè)的快速發(fā)展，未來國內(nèi)光刻膠產(chǎn)品國產(chǎn)化替代空間較大。二、光刻膠市場分析預測光刻膠是電子領(lǐng)域微細圖形加工的關(guān)鍵性材料，在半導體、LCD、PCB等行業(yè)的生產(chǎn)中具有重要作用。光刻膠是利用光化學反應，經(jīng)光刻工藝將所需要的微細圖形從掩膜板轉(zhuǎn)移到代加工基片上的圖形轉(zhuǎn)移介質(zhì)，是光電信息產(chǎn)業(yè)的微細圖形線路加工制作的關(guān)鍵性材料。按照下游應用，光刻膠可分為半導體用光刻膠、LCD用光刻膠、PCB用光刻膠等，其技術(shù)壁壘依次降低。相應地，PCB光刻膠是目前國產(chǎn)替代進度最快的，LCD光刻膠替代進度相對較快，半導體光刻膠目前國產(chǎn)技術(shù)較國外先進技術(shù)差距最大。隨著電子信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展的

40、突飛猛進，光刻膠市場總需求不斷提升。2019年全球光刻膠市場規(guī)模預計近90億美元，自2010年至今CAGR約5.4%，預計未來3年仍以年均5%的速度增長，預計至2022年全球光刻膠市場規(guī)模將超過100億美元。中國光刻膠市場需求增速高于國際平均，但中國本土供應量在全球的占比僅有10%左右，發(fā)展空間巨大。受益半導體、顯示面板、PCB產(chǎn)業(yè)東移的趨勢，2019年我國光刻膠市場本土供應量約70億元，自2011年至今CAGR達到11%，遠高于全球平均5%的增速，但市場規(guī)模全球占比僅為10%左右，發(fā)展空間巨大。全球市場中，半導體、LCD、PCB用光刻膠的供應結(jié)構(gòu)較為均衡；但中國市場中，本土供應以PCB用光刻

41、膠為主，LCD、半導體用光刻膠供應量占比極低。由于極高的行業(yè)壁壘，全球光刻膠行業(yè)呈現(xiàn)寡頭壟斷格局，長年被日本、歐美專業(yè)公司壟斷。目前前五大廠商占據(jù)了全球光刻膠市場87%的份額，行業(yè)集中度較高。其中，日本JSR、東京應化、日本信越與富士電子材料市占率加和達到72%。半導體是光刻膠最重要的應用領(lǐng)域。光刻和刻蝕技術(shù)是半導體芯片在精細線路圖形加工中最重要的工藝，決定著芯片的最小特征尺寸。光刻工藝的成本約為整個芯片制造工藝的30%，耗時約占整個芯片工藝的40%50%，是芯片制造中最核心的工藝。光刻膠及其配套化學品在芯片制造材料成本中的占比高達12%，是繼硅片、電子氣體的第三大IC制造材料。光刻膠市場需求

42、快速增長。隨著半導體線路圖形越來越小，光刻工藝對光刻膠的需求量也越來越大。2018年全球半導體用光刻膠市場規(guī)模約13億美元，預計未來5年年均增速約8%10%；中國半導體用光刻膠市場規(guī)模約23億元人民幣，預計未來5年年均增速約10%。PCB光刻膠主要品種有干膜光刻膠、濕膜光刻膠（又稱液態(tài)光致抗蝕劑、線路油墨）、光成像阻焊油墨等。濕膜性能優(yōu)于干膜，未來濕膜光刻膠有望逐步替代干膜光刻膠。濕膜相比干膜具有高精度、低成本的優(yōu)勢，容易得到高分辨率，滿足PCB高性能的要求。PCB行業(yè)成本中，光刻膠及油墨的占比約35%。全球PCB光刻膠市場規(guī)模在20億美元左右，中國市場規(guī)模占比達50%以上。隨著PCB光刻膠外

43、企東移和內(nèi)資企業(yè)的不斷發(fā)展，中國已成為全球最大的PCB光刻膠生產(chǎn)基地。PCB光刻膠全球市場行業(yè)集中度較高。干膜光刻膠方面，臺灣長興化學、日本旭化成、日本日立化成三家公司就占據(jù)了全球80%以上的市場份額；光成像阻焊油墨方面，日本太陽油墨占據(jù)全球60%左右的市場份額，前十家公司合計占據(jù)全球80%以上的市場份額。國內(nèi)市場中，PCB光刻膠的國產(chǎn)化滲透率較高，中國內(nèi)資企業(yè)已在國內(nèi)PCB市場中占據(jù)50%以上的市場份額。PCB光刻膠技術(shù)壁壘較低，國內(nèi)市場中，容大感光、廣信材料、東方材料、北京力拓達等內(nèi)資企業(yè)已占據(jù)國內(nèi)50%左右的濕膜光刻膠和光成像阻焊油墨市場份額。國內(nèi)企業(yè)中，飛凱材料、容大感光、廣信材料等已

44、有相應PCB光刻膠產(chǎn)品投產(chǎn)。LCD光刻膠全球市場規(guī)模約23億美元，其中中國市場規(guī)模約9億美元。2019年全球LCD用光刻膠市場規(guī)模約23億美元，過去5年平均增速在4%左右，預計未來3年增速也在4%左右。2019年中國LCD面板產(chǎn)能占全球比重已達40%左右，據(jù)此測算中國LCD光刻膠市場規(guī)模約9億美元。LCD光刻膠的全球供應集中在日本、韓國、中國臺灣等地區(qū)，海外企業(yè)市占率超過90%。彩色濾光片所需的高分子顏料和顏料的分散技術(shù)主要集中在Ciba等日本顏料廠商手中，因此彩色光刻膠和黑色光刻膠的核心技術(shù)基本被日本和韓國企業(yè)壟斷。由于光刻膠用于微米級甚至納米級圖形加工，光刻膠產(chǎn)品需要嚴格控制質(zhì)量。光刻膠及

45、其專用化學品的化學結(jié)構(gòu)特殊，品質(zhì)要求高，微粒子及金屬離子含量極低，生產(chǎn)工藝復雜，其研發(fā)和生產(chǎn)具有較高的技術(shù)門檻。光刻膠的品種非常多，針對不同應用需求，通過調(diào)整光刻膠的配方，滿足差異化的應用需求，是光刻膠制造商最核心的技術(shù)。光刻膠需要有相應的光刻機與之配對調(diào)試，資金壁壘較高。目前全球光刻機核心技術(shù)處于壟斷狀態(tài)，只有荷蘭ASML公司可制造EUV光刻機，售價超過1億歐元；而技術(shù)水平稍低的DUV光刻機，售價為20005000萬美元；目前國內(nèi)只有一家企業(yè)可制造光刻機，且技術(shù)等級較低。光刻膠企業(yè)存在較高的資金壁壘，相對于國內(nèi)廠商，國外光刻膠廠商的公司規(guī)模更大，具有資金和技術(shù)優(yōu)勢，供應產(chǎn)品齊全，光刻膠種類豐

46、富，同時有著較為全面的配套化學品，方便下游客戶采購和共同研發(fā)合作。第四章 建設(shè)規(guī)劃一、產(chǎn)品規(guī)劃項目主要產(chǎn)品為光刻膠，根據(jù)市場情況，預計年產(chǎn)值25097.00萬元。相關(guān)行業(yè)是一個產(chǎn)業(yè)關(guān)聯(lián)度高、涉及范圍廣、對相關(guān)產(chǎn)業(yè)帶動力較大的產(chǎn)業(yè)，根據(jù)國內(nèi)統(tǒng)計數(shù)據(jù)顯示，相關(guān)行業(yè)的發(fā)展影響到原材料、能源、商業(yè)、金融、交通運輸和人力資源配置等行業(yè)，對國民經(jīng)濟發(fā)展起到很大的推動作用。項目承辦單位應建立良好的營銷隊伍，利用多媒體、廣告、連鎖等模式，不斷拓展項目產(chǎn)品良好的營銷渠道，提高企業(yè)的經(jīng)濟效益。二、建設(shè)規(guī)模（一）用地規(guī)模該項目總征地面積53853.58平方米（折合約80.74畝），其中：凈用地面積53853.58平

47、方米（紅線范圍折合約80.74畝）。項目規(guī)劃總建筑面積86165.73平方米，其中：規(guī)劃建設(shè)主體工程61616.15平方米，計容建筑面積86165.73平方米；預計建筑工程投資7732.88萬元。（二）設(shè)備購置項目計劃購置設(shè)備共計159臺（套），設(shè)備購置費6627.54萬元。（三）產(chǎn)能規(guī)模項目計劃總投資17759.68萬元；預計年實現(xiàn)營業(yè)收入25097.00萬元。第五章 選址科學性分析一、項目選址原則項目選址應符合城鄉(xiāng)建設(shè)總體規(guī)劃和項目占地使用規(guī)劃的要求，同時具備便捷的陸路交通和方便的施工場址，并且與大氣污染防治、水資源和自然生態(tài)資源保護相一致。投資項目對其生產(chǎn)工藝流程、設(shè)施布置等都有較為嚴格

48、的標準化要求，為了更好地發(fā)揮其經(jīng)濟效益并綜合考慮環(huán)境等多方面的因素，根據(jù)項目選址的一般原則和項目建設(shè)地的實際情況，該項目選址應遵循以下基本原則的要求。場址應靠近交通運輸主干道，具備便利的交通條件，有利于原料和產(chǎn)成品的運輸，同時，通訊便捷有利于及時反饋產(chǎn)品市場信息。二、項目選址該項目選址位于xx產(chǎn)業(yè)園。蘇州，簡稱蘇，古稱姑蘇、平江，是江蘇省地級市，國務(wù)院批復確定的中國長江三角洲重要的中心城市之一、國家高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)基地和風景旅游城市。截至2018年，全市下轄5個區(qū)、代管4個縣級市，總面積8657.32平方千米，建成區(qū)面積461.65平方千米，常住人口1072.17萬人，城鎮(zhèn)人口815.39萬人，城

49、鎮(zhèn)化率76.05%。蘇州地處中國華東地區(qū)、江蘇東南部、長三角中部，是揚子江城市群重要組成部分，東臨上海、南接嘉興、西抱太湖、北依長江，地處東經(jīng)1195512120，北緯30473202之間。全市地勢低平，平原占總面積的54.8%，海拔4米左右，丘陵占總面積的2.7%。蘇州屬亞熱帶季風海洋性氣候，四季分明，雨量充沛，種植水稻、小麥、油菜，出產(chǎn)棉花、蠶桑、林果，特產(chǎn)有碧螺春茶葉、長江刀魚、太湖銀魚、陽澄湖大閘蟹等。蘇州是首批國家歷史文化名城之一，有近2500年歷史，是吳文化的發(fā)祥地之一、清代天下四聚之一，有人間天堂的美譽。中國私家園林的代表蘇州古典園林和中國大運河蘇州段被聯(lián)合國教科文組織列為世界文

50、化遺產(chǎn)。園區(qū)2008月經(jīng)省人民政府批準為省級經(jīng)濟園區(qū)，規(guī)劃面積60平方公里，已建成面積45平方公里。園區(qū)地理位置優(yōu)越，水陸交通便利。園區(qū)內(nèi)給排水、供電、通訊、寬帶等配套設(shè)施齊全，商貿(mào)物流體系日臻完善。營造了“三通一平”、“七通一平”的城市基礎(chǔ)設(shè)施和“天藍、地綠、水清”的生活、工作環(huán)境。三、建設(shè)條件分析項目投資環(huán)境優(yōu)良，當?shù)貫檎猩桃Y出臺了一系列優(yōu)惠政策，為投資項目建設(shè)營造了良好的投資環(huán)境；項目建設(shè)地擁有完善的交通、通訊、供水、供電設(shè)施和工業(yè)配套條件，項目建設(shè)區(qū)域市場優(yōu)勢明顯，對投資項目的順利實施和建成后取得良好經(jīng)濟效益十分有利。四、用地控制指標建設(shè)項目平面布置符合行業(yè)廠房建設(shè)和單位面積產(chǎn)能設(shè)計

51、規(guī)定標準，達到工業(yè)項目建設(shè)用地控制指標（國土資發(fā)【2008】24號）文件規(guī)定的具體要求。投資項目占地產(chǎn)出收益率完全符合國土資源部發(fā)布的工業(yè)項目建設(shè)用地控制指標（國土資發(fā)【2008】24號）中規(guī)定的行業(yè)產(chǎn)品制造行業(yè)占地產(chǎn)出收益率5000.00萬元/公頃的規(guī)定；同時，滿足項目建設(shè)地確定的“占地產(chǎn)出收益率6000.00萬元/公頃”的具體要求。五、用地總體要求本期工程項目建設(shè)規(guī)劃建筑系數(shù)77.69%，建筑容積率1.60，建設(shè)區(qū)域綠化覆蓋率5.88%，固定資產(chǎn)投資強度186.75萬元/畝。土建工程投資一覽表序號項目占地面積（）基底面積（）建筑面積（）計容面積（）投資（萬元）1主體生產(chǎn)工程29580.07

52、29580.0761616.1561616.156082.671.1主要生產(chǎn)車間17748.0417748.0436969.6936969.693771.261.2輔助生產(chǎn)車間9465.629465.6219717.1719717.171946.451.3其他生產(chǎn)車間2366.412366.413573.743573.74364.962倉儲工程6275.836275.8315957.2315957.231145.662.1成品貯存1568.961568.963989.313989.31286.422.2原料倉儲3263.433263.438297.768297.76595.742.3輔助材料倉

53、庫1443.441443.443670.163670.16263.503供配電工程334.71334.71334.71334.7127.033.1供配電室334.71334.71334.71334.7127.034給排水工程384.92384.92384.92384.9224.184.1給排水384.92384.92384.92384.9224.185服務(wù)性工程3974.693974.693974.693974.69285.365.1辦公用房2059.092059.092059.092059.09141.745.2生活服務(wù)1915.601915.601915.601915.60135.386消

54、防及環(huán)保工程1121.281121.281121.281121.2890.576.1消防環(huán)保工程1121.281121.281121.281121.2890.577項目總圖工程167.36167.36167.36167.36-44.747.1場地及道路硬化11136.421685.491685.497.2場區(qū)圍墻1685.4911136.4211136.427.3安全保衛(wèi)室167.36167.36167.36167.368綠化工程3489.86122.15合計41838.8586165.7386165.737732.88六、節(jié)約用地措施土地既是人類賴以生存的物質(zhì)基礎(chǔ)，也是社會經(jīng)濟可持續(xù)發(fā)展必不

55、可少的條件，因此，項目承辦單位在利用土地資源時，嚴格執(zhí)行國家有關(guān)行業(yè)規(guī)定的用地指標，根據(jù)建設(shè)內(nèi)容、規(guī)模和建設(shè)方案，按照國家有關(guān)節(jié)約土地資源要求，合理利用土地。七、總圖布置方案（一）平面布置總體設(shè)計原則同時考慮用地少、施工費用節(jié)約等要求，沿圍墻、路邊和可利用場地種植花卉、樹木、草坪及常綠植物，改善和美化生產(chǎn)環(huán)境。undefined（二）主要工程布置設(shè)計要求應與場外道路銜接順暢，便于企業(yè)運輸車輛直接進入國道、高速公路等國家級道路網(wǎng)絡(luò)，場區(qū)道路應與總平面布置、管線、綠化等協(xié)調(diào)一致。（三）綠化設(shè)計場區(qū)植物配置以本地區(qū)樹種為主，綠化設(shè)計的樹木花草配置應依據(jù)項目建設(shè)區(qū)域的總體布置、豎向、道路及管線綜合布置等要求，并適合當?shù)貧庀蟆⑼寥?、生態(tài)習性與防護性能，疏密適當高低錯落，形成