太原靶材生產(chǎn)建設(shè)項(xiàng)目投資計(jì)劃書(shū)參考模板

1、泓域咨詢/太原靶材生產(chǎn)建設(shè)項(xiàng)目投資計(jì)劃書(shū)太原靶材生產(chǎn)建設(shè)項(xiàng)目投資計(jì)劃書(shū)泓域咨詢機(jī)構(gòu)摘要靶材材料的技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)與下游應(yīng)用產(chǎn)業(yè)的薄膜技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)息息相關(guān)，隨著應(yīng)用產(chǎn)業(yè)在薄膜產(chǎn)品或元件上的技術(shù)改進(jìn)，靶材技術(shù)也應(yīng)隨之變化。鍍膜靶材是通過(guò)磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當(dāng)工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡(jiǎn)單說(shuō)的話，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長(zhǎng)的激光與不同的靶材相互作用時(shí)，會(huì)產(chǎn)生不同的殺傷破壞效應(yīng)。例如：蒸發(fā)磁控濺射鍍膜是加熱蒸發(fā)鍍膜、鋁膜等。更換不同的靶材(如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等)，即可得到不同的膜系(如超

2、硬、耐磨、防腐的合金膜等)。濺射靶材是利用物理氣相沉積技術(shù)制備電子薄膜材料的被轟擊材料，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體芯片、太陽(yáng)能電池、平板顯示、信息存儲(chǔ)等領(lǐng)域，其中半導(dǎo)芯片用濺射靶材技術(shù)要求最高，具有規(guī)?；a(chǎn)能力的企業(yè)數(shù)量也相對(duì)較少，主要分布在美國(guó)、日本等國(guó)家和地區(qū)。該靶材項(xiàng)目計(jì)劃總投資10649.86萬(wàn)元，其中：固定資產(chǎn)投資8419.92萬(wàn)元，占項(xiàng)目總投資的79.06%；流動(dòng)資金2229.94萬(wàn)元，占項(xiàng)目總投資的20.94%。本期項(xiàng)目達(dá)產(chǎn)年?duì)I業(yè)收入18823.00萬(wàn)元，總成本費(fèi)用14254.39萬(wàn)元，稅金及附加206.48萬(wàn)元，利潤(rùn)總額4568.61萬(wàn)元，利稅總額5405.24萬(wàn)元，稅后凈利潤(rùn)3426

3、.46萬(wàn)元，達(dá)產(chǎn)年納稅總額1978.78萬(wàn)元；達(dá)產(chǎn)年投資利潤(rùn)率42.90%，投資利稅率50.75%，投資回報(bào)率32.17%，全部投資回收期4.61年，提供就業(yè)職位388個(gè)。太原靶材生產(chǎn)建設(shè)項(xiàng)目投資計(jì)劃書(shū)目錄第一章 總論一、項(xiàng)目名稱及建設(shè)性質(zhì)二、項(xiàng)目承辦單位三、戰(zhàn)略合作單位四、項(xiàng)目提出的理由五、項(xiàng)目選址及用地綜述六、土建工程建設(shè)指標(biāo)七、設(shè)備購(gòu)置八、產(chǎn)品規(guī)劃方案九、原材料供應(yīng)十、項(xiàng)目能耗分析十一、環(huán)境保護(hù)十二、項(xiàng)目建設(shè)符合性十三、項(xiàng)目進(jìn)度規(guī)劃十四、投資估算及經(jīng)濟(jì)效益分析十五、報(bào)告說(shuō)明十六、項(xiàng)目評(píng)價(jià)十七、主要經(jīng)濟(jì)指標(biāo)第二章 項(xiàng)目建設(shè)必要性分析一、項(xiàng)目承辦單位背景分析二、產(chǎn)業(yè)政策及發(fā)展規(guī)劃三、鼓勵(lì)中小

4、企業(yè)發(fā)展四、宏觀經(jīng)濟(jì)形勢(shì)分析五、區(qū)域經(jīng)濟(jì)發(fā)展概況六、項(xiàng)目必要性分析第三章 產(chǎn)業(yè)分析預(yù)測(cè)第四章 建設(shè)規(guī)劃方案一、產(chǎn)品規(guī)劃二、建設(shè)規(guī)模第五章 項(xiàng)目選址可行性分析一、項(xiàng)目選址原則二、項(xiàng)目選址三、建設(shè)條件分析四、用地控制指標(biāo)五、用地總體要求六、節(jié)約用地措施七、總圖布置方案八、運(yùn)輸組成九、選址綜合評(píng)價(jià)第六章 項(xiàng)目工程方案分析一、建筑工程設(shè)計(jì)原則二、項(xiàng)目工程建設(shè)標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范三、項(xiàng)目總平面設(shè)計(jì)要求四、建筑設(shè)計(jì)規(guī)范和標(biāo)準(zhǔn)五、土建工程設(shè)計(jì)年限及安全等級(jí)六、建筑工程設(shè)計(jì)總體要求七、土建工程建設(shè)指標(biāo)第七章 工藝方案說(shuō)明一、項(xiàng)目建設(shè)期原輔材料供應(yīng)情況二、項(xiàng)目運(yùn)營(yíng)期原輔材料采購(gòu)及管理二、技術(shù)管理特點(diǎn)三、項(xiàng)目工藝技術(shù)設(shè)計(jì)方案

5、四、設(shè)備選型方案第八章 項(xiàng)目環(huán)境保護(hù)分析一、建設(shè)區(qū)域環(huán)境質(zhì)量現(xiàn)狀二、建設(shè)期環(huán)境保護(hù)三、運(yùn)營(yíng)期環(huán)境保護(hù)四、項(xiàng)目建設(shè)對(duì)區(qū)域經(jīng)濟(jì)的影響五、廢棄物處理六、特殊環(huán)境影響分析七、清潔生產(chǎn)八、項(xiàng)目建設(shè)對(duì)區(qū)域經(jīng)濟(jì)的影響九、環(huán)境保護(hù)綜合評(píng)價(jià)第九章 生產(chǎn)安全一、消防安全二、防火防爆總圖布置措施三、自然災(zāi)害防范措施四、安全色及安全標(biāo)志使用要求五、電氣安全保障措施六、防塵防毒措施七、防靜電、觸電防護(hù)及防雷措施八、機(jī)械設(shè)備安全保障措施九、勞動(dòng)安全保障措施十、勞動(dòng)安全衛(wèi)生機(jī)構(gòu)設(shè)置及教育制度十一、勞動(dòng)安全預(yù)期效果評(píng)價(jià)第十章 項(xiàng)目風(fēng)險(xiǎn)情況一、政策風(fēng)險(xiǎn)分析二、社會(huì)風(fēng)險(xiǎn)分析三、市場(chǎng)風(fēng)險(xiǎn)分析四、資金風(fēng)險(xiǎn)分析五、技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)分析六、財(cái)務(wù)

6、風(fēng)險(xiǎn)分析七、管理風(fēng)險(xiǎn)分析八、其它風(fēng)險(xiǎn)分析九、社會(huì)影響評(píng)估第十一章 節(jié)能說(shuō)明一、節(jié)能概述二、節(jié)能法規(guī)及標(biāo)準(zhǔn)三、項(xiàng)目所在地能源消費(fèi)及能源供應(yīng)條件四、能源消費(fèi)種類和數(shù)量分析二、項(xiàng)目預(yù)期節(jié)能綜合評(píng)價(jià)三、項(xiàng)目節(jié)能設(shè)計(jì)四、節(jié)能措施第十二章 進(jìn)度說(shuō)明一、建設(shè)周期二、建設(shè)進(jìn)度三、進(jìn)度安排注意事項(xiàng)四、人力資源配置五、員工培訓(xùn)六、項(xiàng)目實(shí)施保障第十三章 項(xiàng)目投資計(jì)劃方案一、項(xiàng)目估算說(shuō)明二、項(xiàng)目總投資估算三、資金籌措第十四章 項(xiàng)目經(jīng)濟(jì)效益分析一、經(jīng)濟(jì)評(píng)價(jià)綜述二、經(jīng)濟(jì)評(píng)價(jià)財(cái)務(wù)測(cè)算二、項(xiàng)目盈利能力分析第十五章 項(xiàng)目招投標(biāo)方案一、招標(biāo)依據(jù)和范圍二、招標(biāo)組織方式三、招標(biāo)委員會(huì)的組織設(shè)立四、項(xiàng)目招投標(biāo)要求五、項(xiàng)目招標(biāo)方式和招標(biāo)

7、程序六、招標(biāo)費(fèi)用及信息發(fā)布第十六章 評(píng)價(jià)結(jié)論附表1：主要經(jīng)濟(jì)指標(biāo)一覽表附表2：土建工程投資一覽表附表3：節(jié)能分析一覽表附表4：項(xiàng)目建設(shè)進(jìn)度一覽表附表5：人力資源配置一覽表附表6：固定資產(chǎn)投資估算表附表7：流動(dòng)資金投資估算表附表8：總投資構(gòu)成估算表附表9：營(yíng)業(yè)收入稅金及附加和增值稅估算表附表10：折舊及攤銷一覽表附表11：總成本費(fèi)用估算一覽表附表12：利潤(rùn)及利潤(rùn)分配表附表13：盈利能力分析一覽表第一章 總論一、項(xiàng)目名稱及建設(shè)性質(zhì)（一）項(xiàng)目名稱太原靶材生產(chǎn)建設(shè)項(xiàng)目（二）項(xiàng)目建設(shè)性質(zhì)該項(xiàng)目屬于新建項(xiàng)目，依托xx工業(yè)園區(qū)良好的產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)和創(chuàng)新氛圍，充分發(fā)揮區(qū)位優(yōu)勢(shì)，全力打造以靶材為核心的綜合性產(chǎn)業(yè)基地，

8、年產(chǎn)值可達(dá)19000.00萬(wàn)元。二、項(xiàng)目承辦單位xxx有限責(zé)任公司三、戰(zhàn)略合作單位xxx有限公司四、項(xiàng)目提出的理由靶材是濺射薄膜制備的源頭材料，又稱濺射靶材。是制備晶圓、面板、太陽(yáng)能電池等表面電子薄膜的關(guān)鍵材料。超大規(guī)模集成電路制造過(guò)程中要反復(fù)用到的濺射（Sputtering）工藝屬于物理氣相沉積（PVD）技術(shù)的一種，是制備電子薄膜材料的主要技術(shù)之一，它利用離子源產(chǎn)生的離子，在高真空中經(jīng)過(guò)加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發(fā)生動(dòng)能交換，使固體表面的原子離開(kāi)固體并沉積在基底表面，被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。五、項(xiàng)目選址及用地綜述（一）項(xiàng)

9、目選址方案項(xiàng)目選址位于xx工業(yè)園區(qū),地理位置優(yōu)越，交通便利，規(guī)劃電力、給排水、通訊等公用設(shè)施條件完備，建設(shè)條件良好。太原，簡(jiǎn)稱并（bng），古稱晉陽(yáng)，別稱并州、龍城，是山西省省會(huì)、太原都市圈核心城市，國(guó)務(wù)院批復(fù)確定的中國(guó)中部地區(qū)重要的中心城市。截至2018年，全市下轄6個(gè)區(qū)、3個(gè)縣、代管1個(gè)縣級(jí)市，總面積6909平方千米，建成區(qū)面積438平方千米，常住人口442.15萬(wàn)人，城鎮(zhèn)人口375.27萬(wàn)人，城鎮(zhèn)化率84.88%。2019年常住人口446.19萬(wàn)人。太原地處中國(guó)華北地區(qū)、山西中部、太原盆地北端，北接忻州市，東連陽(yáng)泉市，西交呂梁市，南鄰晉中市，是山西省政治、經(jīng)濟(jì)、文化中心，國(guó)家可持續(xù)發(fā)展議

10、程創(chuàng)新示范區(qū)，是中國(guó)北方軍事、文化重鎮(zhèn)，晉商都會(huì)，也是中國(guó)重要的能源、重工業(yè)基地之一，是中國(guó)優(yōu)秀旅游城市、國(guó)家園林城市。太原是國(guó)家歷史文化名城，一座有2500多年建城歷史的古都，控帶山河，踞天下之肩背，襟四塞之要沖，控五原之都邑的歷史古城。全市三面環(huán)山，黃河第二大支流汾河自北向南流經(jīng)，自古就有錦繡太原城的美譽(yù)，太原的城市精神是包容、尚德、崇法、誠(chéng)信、卓越。2018年11月，入選中國(guó)城市全面小康指數(shù)前100名。2019年6月，未來(lái)網(wǎng)絡(luò)試驗(yàn)設(shè)施開(kāi)通運(yùn)行。2019年8月13日，入選全國(guó)城市醫(yī)療聯(lián)合體建設(shè)試點(diǎn)城市。（二）項(xiàng)目用地規(guī)模項(xiàng)目總用地面積32716.35平方米（折合約49.05畝），土地綜合利

11、用率100.00%；項(xiàng)目建設(shè)遵循“合理和集約用地”的原則，按照靶材行業(yè)生產(chǎn)規(guī)范和要求進(jìn)行科學(xué)設(shè)計(jì)、合理布局，符合規(guī)劃建設(shè)要求。六、土建工程建設(shè)指標(biāo)項(xiàng)目?jī)粲玫孛娣e32716.35平方米，建筑物基底占地面積17215.34平方米，總建筑面積45802.89平方米，其中：規(guī)劃建設(shè)主體工程32480.66平方米，項(xiàng)目規(guī)劃綠化面積3275.92平方米。七、設(shè)備購(gòu)置項(xiàng)目計(jì)劃購(gòu)置設(shè)備共計(jì)106臺(tái)（套），主要包括：xxx生產(chǎn)線、xx設(shè)備、xx機(jī)、xx機(jī)、xxx儀等，設(shè)備購(gòu)置費(fèi)2464.58萬(wàn)元。八、產(chǎn)品規(guī)劃方案根據(jù)項(xiàng)目建設(shè)規(guī)劃，達(dá)產(chǎn)年產(chǎn)品規(guī)劃設(shè)計(jì)方案為：靶材xxx單位/年。綜合考xxx有限責(zé)任公司企業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略

12、、產(chǎn)品市場(chǎng)定位、資金籌措能力、產(chǎn)能發(fā)展需要、技術(shù)條件、銷售渠道和策略、管理經(jīng)驗(yàn)以及相應(yīng)配套設(shè)備、人員素質(zhì)以及項(xiàng)目所在地建設(shè)條件與運(yùn)輸條件、xxx有限責(zé)任公司的投資能力和原輔材料的供應(yīng)保障能力等諸多因素，項(xiàng)目按照規(guī)?；⒘魉€生產(chǎn)方式布局，本著“循序漸進(jìn)、量入而出”原則提出產(chǎn)能發(fā)展目標(biāo)。九、原材料供應(yīng)項(xiàng)目所需的主要原材料及輔助材料有：xxx、xxx、xx、xxx、xx等，xxx有限責(zé)任公司所選擇的供貨單位完全能夠穩(wěn)定供應(yīng)上述所需原料，供貨商可以完全保障項(xiàng)目正常經(jīng)營(yíng)所需要的原輔材料供應(yīng)，同時(shí)能夠滿足xxx有限責(zé)任公司今后進(jìn)一步擴(kuò)大生產(chǎn)規(guī)模的預(yù)期要求。十、項(xiàng)目能耗分析1、項(xiàng)目年用電量546860.8

13、9千瓦時(shí)，折合67.21噸標(biāo)準(zhǔn)煤，滿足太原靶材生產(chǎn)建設(shè)項(xiàng)目項(xiàng)目生產(chǎn)、辦公和公用設(shè)施等用電需要2、項(xiàng)目年總用水量14466.80立方米，折合1.24噸標(biāo)準(zhǔn)煤,主要是生產(chǎn)補(bǔ)給水和辦公及生活用水。項(xiàng)目用水由xx工業(yè)園區(qū)市政管網(wǎng)供給。3、太原靶材生產(chǎn)建設(shè)項(xiàng)目項(xiàng)目年用電量546860.89千瓦時(shí)，年總用水量14466.80立方米，項(xiàng)目年綜合總耗能量（當(dāng)量值）68.45噸標(biāo)準(zhǔn)煤/年。達(dá)產(chǎn)年綜合節(jié)能量25.32噸標(biāo)準(zhǔn)煤/年，項(xiàng)目總節(jié)能率28.97%，能源利用效果良好。十一、環(huán)境保護(hù)項(xiàng)目符合x(chóng)x工業(yè)園區(qū)發(fā)展規(guī)劃，符合x(chóng)x工業(yè)園區(qū)產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)調(diào)整規(guī)劃和國(guó)家的產(chǎn)業(yè)發(fā)展政策；對(duì)產(chǎn)生的各類污染物都采取了切實(shí)可行的治理措施

14、，嚴(yán)格控制在國(guó)家規(guī)定的排放標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)，項(xiàng)目建設(shè)不會(huì)對(duì)區(qū)域生態(tài)環(huán)境產(chǎn)生明顯的影響。項(xiàng)目設(shè)計(jì)中采用了清潔生產(chǎn)工藝，應(yīng)用清潔原材料，生產(chǎn)清潔產(chǎn)品，同時(shí)采取完善和有效的清潔生產(chǎn)措施，能夠切實(shí)起到消除和減少污染的作用。項(xiàng)目建成投產(chǎn)后，各項(xiàng)環(huán)境指標(biāo)均符合國(guó)家和地方清潔生產(chǎn)的標(biāo)準(zhǔn)要求。十二、項(xiàng)目建設(shè)符合性（一）產(chǎn)業(yè)發(fā)展政策符合性由xxx有限責(zé)任公司承辦的“太原靶材生產(chǎn)建設(shè)項(xiàng)目”主要從事靶材項(xiàng)目投資經(jīng)營(yíng)，其不屬于國(guó)家發(fā)展改革委產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)調(diào)整指導(dǎo)目錄（2011年本）（2013年修正）有關(guān)條款限制類及淘汰類項(xiàng)目。（二）項(xiàng)目選址與用地規(guī)劃相容性太原靶材生產(chǎn)建設(shè)項(xiàng)目選址于xx工業(yè)園區(qū)，項(xiàng)目所占用地為規(guī)劃工業(yè)用地，符合用地規(guī)

15、劃要求，此外，項(xiàng)目建設(shè)前后，未改變項(xiàng)目建設(shè)區(qū)域環(huán)境功能區(qū)劃；在落實(shí)該項(xiàng)目提出的各項(xiàng)污染防治措施后，可確保污染物達(dá)標(biāo)排放，滿足xx工業(yè)園區(qū)環(huán)境保護(hù)規(guī)劃要求。因此，建設(shè)項(xiàng)目符合項(xiàng)目建設(shè)區(qū)域用地規(guī)劃、產(chǎn)業(yè)規(guī)劃、環(huán)境保護(hù)規(guī)劃等規(guī)劃要求。（三）“三線一單”符合性1、生態(tài)保護(hù)紅線：太原靶材生產(chǎn)建設(shè)項(xiàng)目用地性質(zhì)為建設(shè)用地，不在主導(dǎo)生態(tài)功能區(qū)范圍內(nèi)，且不在當(dāng)?shù)仫嬘盟磪^(qū)、風(fēng)景區(qū)、自然保護(hù)區(qū)等生態(tài)保護(hù)區(qū)內(nèi)，符合生態(tài)保護(hù)紅線要求。2、環(huán)境質(zhì)量底線：該項(xiàng)目建設(shè)區(qū)域環(huán)境質(zhì)量不低于項(xiàng)目所在地環(huán)境功能區(qū)劃要求，有一定的環(huán)境容量，符合環(huán)境質(zhì)量底線要求。3、資源利用上線：項(xiàng)目營(yíng)運(yùn)過(guò)程消耗一定的電能、水，資源消耗量相對(duì)于區(qū)域

16、資源利用總量較少，符合資源利用上線要求。4、環(huán)境準(zhǔn)入負(fù)面清單：該項(xiàng)目所在地?zé)o環(huán)境準(zhǔn)入負(fù)面清單，項(xiàng)目采取環(huán)境保護(hù)措施后，廢氣、廢水、噪聲均可達(dá)標(biāo)排放，固體廢物能夠得到合理處置，不會(huì)產(chǎn)生二次污染。十三、項(xiàng)目進(jìn)度規(guī)劃本期工程項(xiàng)目建設(shè)期限規(guī)劃12個(gè)月。選派組織能力強(qiáng)、技術(shù)素質(zhì)高、施工經(jīng)驗(yàn)豐富、最優(yōu)秀的工程技術(shù)人員和施工隊(duì)伍投入本項(xiàng)目施工。項(xiàng)目承辦單位要合理安排設(shè)計(jì)、采購(gòu)和設(shè)備安裝的時(shí)間，在工作上交叉進(jìn)行，最大限度縮短建設(shè)周期。將投資密度比較大的部分工程盡量押后施工，諸如其他配套工程等?？茖W(xué)組織施工平行流水作業(yè)，交叉施工，使施工機(jī)械等資源發(fā)揮最大的使用效率，做到現(xiàn)場(chǎng)施工有條不紊，忙而不亂。十四、投資估算

17、及經(jīng)濟(jì)效益分析（一）項(xiàng)目總投資及資金構(gòu)成項(xiàng)目預(yù)計(jì)總投資10649.86萬(wàn)元，其中：固定資產(chǎn)投資8419.92萬(wàn)元，占項(xiàng)目總投資的79.06%；流動(dòng)資金2229.94萬(wàn)元，占項(xiàng)目總投資的20.94%。（二）資金籌措該項(xiàng)目現(xiàn)階段投資均由企業(yè)自籌。（三）項(xiàng)目預(yù)期經(jīng)濟(jì)效益規(guī)劃目標(biāo)項(xiàng)目預(yù)期達(dá)產(chǎn)年?duì)I業(yè)收入18823.00萬(wàn)元，總成本費(fèi)用14254.39萬(wàn)元，稅金及附加206.48萬(wàn)元，利潤(rùn)總額4568.61萬(wàn)元，利稅總額5405.24萬(wàn)元，稅后凈利潤(rùn)3426.46萬(wàn)元，達(dá)產(chǎn)年納稅總額1978.78萬(wàn)元；達(dá)產(chǎn)年投資利潤(rùn)率42.90%，投資利稅率50.75%，投資回報(bào)率32.17%，全部投資回收期4.61年，

18、提供就業(yè)職位388個(gè)。十五、報(bào)告說(shuō)明報(bào)告通過(guò)對(duì)項(xiàng)目的市場(chǎng)需求、資源供應(yīng)、建設(shè)規(guī)模、工藝路線、設(shè)備選型、環(huán)境影響、資金籌措、盈利能力等方面的研究調(diào)查，在行業(yè)專家研究經(jīng)驗(yàn)的基礎(chǔ)上對(duì)項(xiàng)目經(jīng)濟(jì)效益及社會(huì)效益進(jìn)行科學(xué)預(yù)測(cè)，從而為客戶提供全面的、客觀的、可靠的項(xiàng)目投資價(jià)值評(píng)估及項(xiàng)目建設(shè)進(jìn)程等咨詢意見(jiàn)。項(xiàng)目報(bào)告核心提示：項(xiàng)目投資環(huán)境分析，項(xiàng)目背景和發(fā)展概況，項(xiàng)目建設(shè)的必要性，行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)格局分析，行業(yè)財(cái)務(wù)指標(biāo)分析參考，行業(yè)市場(chǎng)分析與建設(shè)規(guī)模，項(xiàng)目建設(shè)條件與選址方案，項(xiàng)目不確定性及風(fēng)險(xiǎn)分析，行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)分析十六、項(xiàng)目評(píng)價(jià)1、本期工程項(xiàng)目符合國(guó)家產(chǎn)業(yè)發(fā)展政策和規(guī)劃要求，符合x(chóng)x工業(yè)園區(qū)及xx工業(yè)園區(qū)靶材行業(yè)布局和結(jié)

19、構(gòu)調(diào)整政策；項(xiàng)目的建設(shè)對(duì)促進(jìn)xx工業(yè)園區(qū)靶材產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)、技術(shù)結(jié)構(gòu)、組織結(jié)構(gòu)、產(chǎn)品結(jié)構(gòu)的調(diào)整優(yōu)化有著積極的推動(dòng)意義。2、xxx有限責(zé)任公司為適應(yīng)國(guó)內(nèi)外市場(chǎng)需求，擬建“太原靶材生產(chǎn)建設(shè)項(xiàng)目”，本期工程項(xiàng)目的建設(shè)能夠有力促進(jìn)xx工業(yè)園區(qū)經(jīng)濟(jì)發(fā)展，為社會(huì)提供就業(yè)職位388個(gè)，達(dá)產(chǎn)年納稅總額1978.78萬(wàn)元，可以促進(jìn)xx工業(yè)園區(qū)區(qū)域經(jīng)濟(jì)的繁榮發(fā)展和社會(huì)穩(wěn)定，為地方財(cái)政收入做出積極的貢獻(xiàn)。3、項(xiàng)目達(dá)產(chǎn)年投資利潤(rùn)率42.90%，投資利稅率50.75%，全部投資回報(bào)率32.17%，全部投資回收期4.61年，固定資產(chǎn)投資回收期4.61年（含建設(shè)期），項(xiàng)目具有較強(qiáng)的盈利能力和抗風(fēng)險(xiǎn)能力。4、民營(yíng)企業(yè)貼近市場(chǎng)、嗅覺(jué)

20、敏銳、機(jī)制靈活，在推進(jìn)企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新能力建設(shè)方面起到重要作用。認(rèn)定國(guó)家技術(shù)創(chuàng)新示范企業(yè)和培育工業(yè)設(shè)計(jì)企業(yè)，有助于企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新能力進(jìn)一步升級(jí)。同時(shí)，大量民營(yíng)企業(yè)走在科技、產(chǎn)業(yè)、時(shí)尚的最前沿，能夠綜合運(yùn)用科技成果和工學(xué)、美學(xué)、心理學(xué)、經(jīng)濟(jì)學(xué)等知識(shí)，對(duì)工業(yè)產(chǎn)品的功能、結(jié)構(gòu)、形態(tài)及包裝等進(jìn)行整合優(yōu)化創(chuàng)新，服務(wù)于工業(yè)設(shè)計(jì)，豐富產(chǎn)品品種、提升產(chǎn)品附加值，進(jìn)而創(chuàng)造出新技術(shù)、新模式、新業(yè)態(tài)。民間投資是我國(guó)制造業(yè)發(fā)展的主要力量，約占制造業(yè)投資的85%以上，黨中央、國(guó)務(wù)院一直高度重視民間投資的健康發(fā)展。為貫徹黨的十九大精神，落實(shí)國(guó)務(wù)院對(duì)促進(jìn)民間投資的一系列工作部署，工業(yè)和信息化部與發(fā)展改革委、科技部、財(cái)政部等15個(gè)

21、相關(guān)部門(mén)和單位聯(lián)合印發(fā)了關(guān)于發(fā)揮民間投資作用推進(jìn)實(shí)施制造強(qiáng)國(guó)戰(zhàn)略的指導(dǎo)意見(jiàn)，圍繞中國(guó)制造2025，明確了促進(jìn)民營(yíng)制造業(yè)企業(yè)健康發(fā)展的指導(dǎo)思想、主要任務(wù)和保障措施，旨在釋放民間投資活力，引導(dǎo)民營(yíng)制造業(yè)企業(yè)轉(zhuǎn)型升級(jí)，加快制造強(qiáng)國(guó)建設(shè)。綜上所述，項(xiàng)目的建設(shè)和實(shí)施無(wú)論是經(jīng)濟(jì)效益、社會(huì)效益還是環(huán)境保護(hù)、清潔生產(chǎn)都是積極可行的。十七、主要經(jīng)濟(jì)指標(biāo)主要經(jīng)濟(jì)指標(biāo)一覽表序號(hào)項(xiàng)目單位指標(biāo)備注1占地面積平方米32716.3549.05畝1.1容積率1.401.2建筑系數(shù)52.62%1.3投資強(qiáng)度萬(wàn)元/畝171.661.4基底面積平方米17215.341.5總建筑面積平方米45802.891.6綠化面積平方米3275

22、.92綠化率7.15%2總投資萬(wàn)元10649.862.1固定資產(chǎn)投資萬(wàn)元8419.922.1.1土建工程投資萬(wàn)元3504.022.1.1.1土建工程投資占比萬(wàn)元32.90%2.1.2設(shè)備投資萬(wàn)元2464.582.1.2.1設(shè)備投資占比23.14%2.1.3其它投資萬(wàn)元2451.322.1.3.1其它投資占比23.02%2.1.4固定資產(chǎn)投資占比79.06%2.2流動(dòng)資金萬(wàn)元2229.942.2.1流動(dòng)資金占比20.94%3收入萬(wàn)元18823.004總成本萬(wàn)元14254.395利潤(rùn)總額萬(wàn)元4568.616凈利潤(rùn)萬(wàn)元3426.467所得稅萬(wàn)元1.408增值稅萬(wàn)元630.159稅金及附加萬(wàn)元206.

23、4810納稅總額萬(wàn)元1978.7811利稅總額萬(wàn)元5405.2412投資利潤(rùn)率42.90%13投資利稅率50.75%14投資回報(bào)率32.17%15回收期年4.6116設(shè)備數(shù)量臺(tái)（套）10617年用電量千瓦時(shí)546860.8918年用水量立方米14466.8019總能耗噸標(biāo)準(zhǔn)煤68.4520節(jié)能率28.97%21節(jié)能量噸標(biāo)準(zhǔn)煤25.3222員工數(shù)量人388第二章 項(xiàng)目建設(shè)必要性分析一、項(xiàng)目承辦單位背景分析（一）公司概況公司堅(jiān)持“以人為本，無(wú)為而治”的企業(yè)管理理念，以“走正道，負(fù)責(zé)任，心中有別人”的企業(yè)文化核心思想為指針，實(shí)現(xiàn)新的跨越，創(chuàng)造新的輝煌。熱忱歡迎社會(huì)各界人士咨詢與合作。公司是全球領(lǐng)先的

24、產(chǎn)品提供商。我們?cè)诶m(xù)為客戶創(chuàng)造價(jià)值，堅(jiān)持圍繞客戶需求持續(xù)創(chuàng)新，加大基礎(chǔ)研究投入，厚積薄發(fā)，合作共贏。公司秉承以市場(chǎng)的為導(dǎo)向，堅(jiān)持自主創(chuàng)新、合作共贏。同時(shí)，以產(chǎn)業(yè)經(jīng)營(yíng)為主體，以技術(shù)研究和資本經(jīng)營(yíng)為兩翼，形成“產(chǎn)業(yè)+技術(shù)+資本”相生互動(dòng)、良性循環(huán)的業(yè)務(wù)生態(tài)效應(yīng)。公司致力于高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)發(fā)展，擁有有效專利和軟件著作權(quán)50多項(xiàng)，全國(guó)質(zhì)量管理先進(jìn)企業(yè)、全國(guó)用戶滿意企業(yè)、國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化良好行為AAAA企業(yè)，全國(guó)工業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)運(yùn)用標(biāo)桿企業(yè)。公司堅(jiān)持走“專、精、特、新”的發(fā)展道路，不斷推動(dòng)轉(zhuǎn)型升級(jí)，使產(chǎn)品在全球市場(chǎng)擁有一流的競(jìng)爭(zhēng)力。經(jīng)過(guò)多年發(fā)展，公司已經(jīng)形成一個(gè)成熟的核心管理團(tuán)隊(duì)，團(tuán)隊(duì)具有豐富的從業(yè)經(jīng)驗(yàn)，對(duì)于整個(gè)行業(yè)

25、的發(fā)展、企業(yè)的定位都有著較深刻的認(rèn)識(shí)，形成了科學(xué)合理的公司發(fā)展戰(zhàn)略和經(jīng)營(yíng)理念，有利于公司在市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)中贏得主動(dòng)權(quán)。公司堅(jiān)守企業(yè)契約精神，專業(yè)為客戶提供優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品，致力成為行業(yè)領(lǐng)先企業(yè)，創(chuàng)造價(jià)值，履行社會(huì)責(zé)任。（二）公司經(jīng)濟(jì)效益分析上一年度，xxx有限責(zé)任公司實(shí)現(xiàn)營(yíng)業(yè)收入16241.47萬(wàn)元，同比增長(zhǎng)17.03%（2363.75萬(wàn)元）。其中，主營(yíng)業(yè)業(yè)務(wù)靶材生產(chǎn)及銷售收入為12999.21萬(wàn)元，占營(yíng)業(yè)總收入的80.04%。上年度主要經(jīng)濟(jì)指標(biāo)序號(hào)項(xiàng)目第一季度第二季度第三季度第四季度合計(jì)1營(yíng)業(yè)收入3410.714547.614222.784060.3716241.472主營(yíng)業(yè)務(wù)收入2729.833639.

26、783379.793249.8012999.212.1靶材(A)900.851201.131115.331072.434289.742.2靶材(B)627.86837.15777.35747.452989.822.3靶材(C)464.07618.76574.57552.472209.872.4靶材(D)327.58436.77405.58389.981559.912.5靶材(E)218.39291.18270.38259.981039.942.6靶材(F)136.49181.99168.99162.49649.962.7靶材(.)54.6072.8067.6065.00259.983其他業(yè)務(wù)收

27、入680.87907.83842.99810.573242.26根據(jù)初步統(tǒng)計(jì)測(cè)算，公司實(shí)現(xiàn)利潤(rùn)總額3874.49萬(wàn)元，較去年同期相比增長(zhǎng)686.67萬(wàn)元，增長(zhǎng)率21.54%；實(shí)現(xiàn)凈利潤(rùn)2905.87萬(wàn)元，較去年同期相比增長(zhǎng)447.82萬(wàn)元，增長(zhǎng)率18.22%。上年度主要經(jīng)濟(jì)指標(biāo)項(xiàng)目單位指標(biāo)完成營(yíng)業(yè)收入萬(wàn)元16241.47完成主營(yíng)業(yè)務(wù)收入萬(wàn)元12999.21主營(yíng)業(yè)務(wù)收入占比80.04%營(yíng)業(yè)收入增長(zhǎng)率（同比）17.03%營(yíng)業(yè)收入增長(zhǎng)量（同比）萬(wàn)元2363.75利潤(rùn)總額萬(wàn)元3874.49利潤(rùn)總額增長(zhǎng)率21.54%利潤(rùn)總額增長(zhǎng)量萬(wàn)元686.67凈利潤(rùn)萬(wàn)元2905.87凈利潤(rùn)增長(zhǎng)率18.22%凈利潤(rùn)增長(zhǎng)

28、量萬(wàn)元447.82投資利潤(rùn)率47.19%投資回報(bào)率35.39%財(cái)務(wù)內(nèi)部收益率25.12%企業(yè)總資產(chǎn)萬(wàn)元19712.82流動(dòng)資產(chǎn)總額占比萬(wàn)元34.05%流動(dòng)資產(chǎn)總額萬(wàn)元6712.41資產(chǎn)負(fù)債率20.58%二、靶材項(xiàng)目背景分析靶材是濺射薄膜制備的源頭材料，又稱濺射靶材。是制備晶圓、面板、太陽(yáng)能電池等表面電子薄膜的關(guān)鍵材料。高純度濺射靶材主要應(yīng)用于電子元器件制造的物理氣相沉積（PhysicalVaporDeposition，PVD）工藝。PVD鍍膜目前主要有三種形式，分別是濺射鍍膜、蒸發(fā)鍍膜以及離子鍍膜。為推動(dòng)國(guó)內(nèi)靶材產(chǎn)業(yè)發(fā)展，增強(qiáng)產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新能力和國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)力，帶動(dòng)傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)改造和產(chǎn)品升級(jí)換代，我國(guó)制定了

29、一系列靶材行業(yè)相關(guān)支持政策。靶材行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈主要包括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應(yīng)用等環(huán)節(jié)。其中，靶材制造和濺射鍍膜環(huán)節(jié)是整個(gè)靶材產(chǎn)業(yè)鏈中的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。靶材產(chǎn)業(yè)下游包括半導(dǎo)體、光伏電池、平板顯示器等等，其中，半導(dǎo)體芯片行業(yè)用的金屬靶材，主要種類包括：銅、鉭、鋁、鈦、鈷和鎢等高純靶材，以及鎳鉑、鎢鈦等合金類的靶材。銅靶和鉭靶通常配合起來(lái)使用。靶材主要應(yīng)用在平板顯示、記錄媒體、光伏電池、半導(dǎo)體等領(lǐng)域。其中，在靶材應(yīng)用領(lǐng)域中，半導(dǎo)體芯片對(duì)靶材的金屬材料純度、內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)等方面都設(shè)定了極其苛刻的標(biāo)準(zhǔn)，需要掌握生產(chǎn)過(guò)程中的關(guān)鍵技術(shù)并經(jīng)過(guò)長(zhǎng)期實(shí)踐才能制成符合工藝要求的產(chǎn)品。因此，半導(dǎo)體芯片對(duì)靶材的要求是

30、最高的，價(jià)格也最為昂貴。半導(dǎo)體芯片行業(yè)是金屬濺射靶材的主要應(yīng)用領(lǐng)域之一，也是對(duì)靶材的成分、組織和性能要求最高的領(lǐng)域。目前晶圓的制造正朝著更小的制程方向發(fā)展，銅導(dǎo)線工藝的應(yīng)用量在逐步增大，因此，銅和鉭靶材的需求將有望持續(xù)增長(zhǎng)。鋁靶和鈦靶通常配合起來(lái)使用。目前，在汽車電子芯片等需要110nm以上技術(shù)節(jié)點(diǎn)來(lái)保證其穩(wěn)定性和抗干擾性的領(lǐng)域，仍需大量使用鋁、鈦靶材。目前，全球的靶材制造行業(yè)，特別是高純度的靶材市場(chǎng)，呈現(xiàn)寡頭壟斷格局，主要由幾家美日大企業(yè)把持，如日本的三井礦業(yè)、日礦金屬、日本東曹、住友化學(xué)、日本愛(ài)發(fā)科，以及美國(guó)霍尼韋爾、普萊克斯等。日礦金屬是全球最大的靶材供應(yīng)商，靶材銷售額約占全球市場(chǎng)的30

31、%，霍尼韋爾在并購(gòu)JohnsonMattey、整合高純鋁、鈦等原材料生產(chǎn)廠后，占到全球市約20%的份額，此外，東曹和普萊克斯分別占20%和10%。目前，國(guó)內(nèi)靶材廠商主要聚焦在低端產(chǎn)品領(lǐng)域，在半導(dǎo)體、平板顯示器和太陽(yáng)能電池等市場(chǎng)還無(wú)法與國(guó)際巨頭全面競(jìng)爭(zhēng)。但是，依靠國(guó)內(nèi)的巨大市場(chǎng)潛力和利好的產(chǎn)業(yè)政策，以及產(chǎn)品價(jià)格優(yōu)勢(shì)，它們已經(jīng)在國(guó)內(nèi)市場(chǎng)占有一定的市場(chǎng)份額，并逐步在個(gè)別細(xì)分領(lǐng)域搶占了部分國(guó)際大廠的市場(chǎng)空間。近年來(lái)，我國(guó)政府制定了一系列產(chǎn)業(yè)政策，如863計(jì)劃、02專項(xiàng)基金等來(lái)加速濺射靶材供應(yīng)的本土化進(jìn)程，推動(dòng)國(guó)產(chǎn)靶材在多個(gè)應(yīng)用領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)從無(wú)到有的跨越。這些都從國(guó)家戰(zhàn)略高度扶植并推動(dòng)著濺射靶材產(chǎn)業(yè)的發(fā)展壯

32、大。三、靶材項(xiàng)目建設(shè)必要性分析超大規(guī)模集成電路制造過(guò)程中要反復(fù)用到的濺射（Sputtering）工藝屬于物理氣相沉積（PVD）技術(shù)的一種，是制備電子薄膜材料的主要技術(shù)之一，它利用離子源產(chǎn)生的離子，在高真空中經(jīng)過(guò)加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發(fā)生動(dòng)能交換，使固體表面的原子離開(kāi)固體并沉積在基底表面，被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。一般來(lái)說(shuō)，濺射靶材主要由靶坯、背板等部分構(gòu)成，其中，靶坯是高速離子束流轟擊的目標(biāo)材料，屬于濺射靶材的核心部分，在濺射鍍膜過(guò)程中，靶坯被離子撞擊后，其表面原子被濺射飛散出來(lái)并沉積于基板上制成電子薄膜；由于高純度金屬

33、強(qiáng)度較低，而濺射靶材需要安裝在專用的機(jī)臺(tái)內(nèi)完成濺射過(guò)程，機(jī)臺(tái)內(nèi)部為高電壓、高真空環(huán)境，因此，超高純金屬的濺射靶坯需要與背板通過(guò)不同的焊接工藝進(jìn)行接合，背板起到主要起到固定濺射靶材的作用，且需要具備良好的導(dǎo)電、導(dǎo)熱性能。在濺射靶材應(yīng)用領(lǐng)域中，半導(dǎo)體芯片對(duì)濺射靶材的金屬材料純度、內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)等方面都設(shè)定了極其苛刻的標(biāo)準(zhǔn)，需要掌握生產(chǎn)過(guò)程中的關(guān)鍵技術(shù)并經(jīng)過(guò)長(zhǎng)期實(shí)踐才能制成符合工藝要求的產(chǎn)品，因此，半導(dǎo)體芯片對(duì)濺射靶材的要求是最高的，價(jià)格也最為昂貴；相較于半導(dǎo)體芯片，平面顯示器、太陽(yáng)能電池對(duì)于濺射靶材的純度和技術(shù)要求略低一籌，但隨著靶材尺寸的增大，對(duì)濺射靶材的焊接結(jié)合率、平整度等指標(biāo)提出了更高的要求。

34、此外，濺射靶材需要安裝在濺射機(jī)臺(tái)內(nèi)完成濺射過(guò)程，濺射機(jī)臺(tái)專用性強(qiáng)，對(duì)濺射靶材的形狀、尺寸和精度也設(shè)定了諸多限制。高純度乃至超高純度的金屬材料是生產(chǎn)高純?yōu)R射靶材的基礎(chǔ)，以半導(dǎo)體芯片用濺射靶材為例，若濺射靶材雜質(zhì)含量過(guò)高，則形成的薄膜無(wú)法達(dá)到使用所要求的電性能，并且在濺射過(guò)程中易在晶圓上形成微粒，導(dǎo)致電路短路或損壞，嚴(yán)重影響薄膜的性能。通常情況下，高純金屬提純分為化學(xué)提純和物理提純，為了獲得更高純度的金屬材料，最大限度地去除雜質(zhì)，需要將化學(xué)提純和物理提純結(jié)合使用。在將金屬提純到相當(dāng)高的純度后，往往還需配比其他金屬元素才能投入使用，在這個(gè)過(guò)程中，需要經(jīng)過(guò)熔煉、合金化和鑄造等步驟：通過(guò)精煉高純金屬，去

35、除氧氣、氮?dú)獾榷嘤鄽怏w；再加入少量合金元素，使其與高純金屬充分結(jié)合并均勻分布；最后將其鑄造成沒(méi)有缺陷的錠材，滿足生產(chǎn)加工過(guò)程中對(duì)金屬成份、尺寸大小的要求。濺射靶材制造環(huán)節(jié)首先需要根據(jù)下游應(yīng)用領(lǐng)域的性能需求進(jìn)行工藝設(shè)計(jì)，然后進(jìn)行反復(fù)的塑性變形、熱處理，需要精確地控制晶粒、晶向等關(guān)鍵指標(biāo)，再經(jīng)過(guò)焊接、機(jī)械加工、清洗干燥、真空包裝等工序。濺射靶材制造所涉及的工序精細(xì)且繁多，工序流程管理及制造工藝水平將直接影響到濺射靶材的質(zhì)量和良品率。濺射鍍膜是指物體被離子撞擊時(shí)，被濺射飛散出，因被濺射飛散的物體附著于目標(biāo)基板上而制成薄膜的過(guò)程，濺射靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料。此環(huán)節(jié)是在濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈條中對(duì)生

36、產(chǎn)設(shè)備及技術(shù)工藝要求最高的環(huán)節(jié)，濺射薄膜的品質(zhì)對(duì)下游產(chǎn)品的質(zhì)量具有重要影響。在濺射鍍膜過(guò)程中，濺射靶材需要安裝在機(jī)臺(tái)中完成濺射反應(yīng)，濺射機(jī)臺(tái)專用性強(qiáng)、精密度高，市場(chǎng)長(zhǎng)期被美國(guó)、日本跨國(guó)集團(tuán)壟斷，主要設(shè)備提供商包括AMAT（美國(guó)）、ULVAC（日本）、ANELVA（日本）、Varian（美國(guó)）等行業(yè)內(nèi)知名企業(yè)。終端應(yīng)用是針對(duì)各類市場(chǎng)需求利用封裝好的元器件制成面向最終用戶的產(chǎn)品，包括汽車電子、智能手機(jī)、平板電腦、家用電器等終端消費(fèi)電子產(chǎn)品。通常情況下，在半導(dǎo)體靶材濺射鍍膜后，需要將鍍膜硅片切割并進(jìn)行芯片封裝。封裝是指將電路用導(dǎo)線連接到外部接頭處，以便與其他器件連接的工序，不僅能夠起到保護(hù)芯片的作用

37、，還將芯片與外界隔離，防止空氣中的雜質(zhì)對(duì)芯片電路造成腐蝕而損害導(dǎo)電性能。此外，終端應(yīng)用也包括制備太陽(yáng)能電池、光學(xué)鍍膜、工具改性、高檔裝飾用品等，此環(huán)節(jié)技術(shù)面較寬，呈現(xiàn)多樣化特征。全球范圍內(nèi)，濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈各環(huán)節(jié)參與企業(yè)數(shù)量基本呈金字塔型分布，高純?yōu)R射靶材制造環(huán)節(jié)技術(shù)門(mén)檻高、設(shè)備投資大，具有規(guī)?；a(chǎn)能力的企業(yè)數(shù)量相對(duì)較少，主要分布在美國(guó)、日本等國(guó)家和地區(qū)，其中，部分企業(yè)同時(shí)開(kāi)展金屬提純業(yè)務(wù)，將產(chǎn)業(yè)鏈延伸到上游領(lǐng)域；部分企業(yè)只擁有濺射靶材生產(chǎn)能力，高純度金屬需要上游企業(yè)供應(yīng)。濺射靶材最高端的應(yīng)用是在超大規(guī)模集成電路芯片制造領(lǐng)域，這個(gè)領(lǐng)域只有美國(guó)和日本的少數(shù)公司（日礦金屬、霍尼韋爾、東曹、普萊克斯

38、等）從事相關(guān)業(yè)務(wù)，是一個(gè)被跨國(guó)公司壟斷的行業(yè)。作為濺射靶材客戶端的濺射鍍膜環(huán)節(jié)具有規(guī)?；a(chǎn)能力的企業(yè)數(shù)量相對(duì)較多，但質(zhì)量參差不齊，美國(guó)、歐洲、日本、韓國(guó)等知名企業(yè)居于技術(shù)領(lǐng)先地位，品牌知名度高、市場(chǎng)影響力大，通常會(huì)將產(chǎn)業(yè)鏈擴(kuò)展至下游應(yīng)用領(lǐng)域，利用技術(shù)先導(dǎo)優(yōu)勢(shì)和高端品牌迅速占領(lǐng)終端消費(fèi)市場(chǎng)，如IBM、飛利浦、東芝、三星等。終端應(yīng)用環(huán)節(jié)是整個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈中規(guī)模最大的領(lǐng)域，其產(chǎn)品的開(kāi)發(fā)與生產(chǎn)分散在各個(gè)行業(yè)領(lǐng)域，同時(shí)，此環(huán)節(jié)具有突出的勞動(dòng)密集性特點(diǎn)，參與企業(yè)數(shù)量最多，機(jī)器設(shè)備投資一般，主要分布在日本、中國(guó)臺(tái)灣和中國(guó)大陸等，并逐漸將生產(chǎn)工廠向人力成本低的國(guó)家和地區(qū)轉(zhuǎn)移。濺射靶材產(chǎn)業(yè)分布具有一定的區(qū)域性特征，

39、美國(guó)、日本跨國(guó)集團(tuán)產(chǎn)業(yè)鏈完整，囊括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應(yīng)用各個(gè)環(huán)節(jié)，具備規(guī)模化生產(chǎn)能力，在掌握先進(jìn)技術(shù)以后實(shí)施壟斷和封鎖，主導(dǎo)著技術(shù)革新和產(chǎn)業(yè)發(fā)展；韓國(guó)、新加坡及中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)在磁記錄及光學(xué)薄膜領(lǐng)域有所特長(zhǎng)。另外由于上述地區(qū)芯片及液晶面板產(chǎn)業(yè)發(fā)展較早，促使服務(wù)分工明確，可以為產(chǎn)業(yè)鏈下游的品牌企業(yè)提供如焊接、清洗、包裝等專業(yè)代工服務(wù)，將上游基礎(chǔ)材料和下游終端應(yīng)用對(duì)接，起到承上啟下的作用，并在一定程度上推動(dòng)上游濺射靶材的產(chǎn)品開(kāi)發(fā)和市場(chǎng)擴(kuò)展。但是上述地區(qū)的靶材服務(wù)廠商缺少核心技術(shù)及裝備，不能夠在金屬的提純、組織的控制等核心技術(shù)領(lǐng)域形成競(jìng)爭(zhēng)力濺射靶材的材料即靶坯依然依賴美國(guó)和日本的進(jìn)口。超

40、高純金屬材料及濺射靶材在我國(guó)還屬于較新的行業(yè)，以芯片制造廠商、液晶面板制造企業(yè)為代表的下游濺射鍍膜和終端用戶正在加大力度擴(kuò)展產(chǎn)能。從全球來(lái)看，芯片及液晶面板行業(yè)制造向中國(guó)大陸轉(zhuǎn)移趨勢(shì)愈演愈烈，中國(guó)正在迎來(lái)這一領(lǐng)域的投資高峰。為此高端濺射靶材的應(yīng)用市場(chǎng)需求正在快速增長(zhǎng)。由于濺射鍍膜工藝起源于國(guó)外，所需要的濺射靶材產(chǎn)品性能要求高、專業(yè)應(yīng)用性強(qiáng)，因此，長(zhǎng)期以來(lái)全球?yàn)R射靶材研制和生產(chǎn)主要集中在美國(guó)、日本少數(shù)幾家公司，產(chǎn)業(yè)集中度相當(dāng)高。以霍尼韋爾（美國(guó)）、日礦金屬（日本）、東曹（日本）等跨國(guó)集團(tuán)為代表的濺射靶材生產(chǎn)商較早涉足該領(lǐng)域，經(jīng)過(guò)幾十年的技術(shù)積淀，憑借其雄厚的技術(shù)力量、精細(xì)的生產(chǎn)控制和過(guò)硬的產(chǎn)品質(zhì)

41、量居于全球?yàn)R射靶材市場(chǎng)的主導(dǎo)地位，占據(jù)絕大部分市場(chǎng)份額。這些企業(yè)在掌握濺射靶材生產(chǎn)的核心技術(shù)以后，實(shí)施極其嚴(yán)格的保密措施，限制技術(shù)擴(kuò)散，同時(shí)不斷進(jìn)行橫向擴(kuò)張和垂直整合，將業(yè)務(wù)觸角積極擴(kuò)展到濺射鍍膜的各個(gè)應(yīng)用領(lǐng)域，牢牢把握著全球?yàn)R射靶材市場(chǎng)的主動(dòng)權(quán)，并引領(lǐng)著全球?yàn)R射靶材行業(yè)的技術(shù)進(jìn)步。受到發(fā)展歷史和技術(shù)限制的影響，濺射靶材行業(yè)在我國(guó)起步較晚，目前仍然屬于一個(gè)較新的行業(yè)。與國(guó)際知名企業(yè)生產(chǎn)的濺射靶材相比，我國(guó)濺射靶材研發(fā)生產(chǎn)技術(shù)還存在一定差距，市場(chǎng)影響力相對(duì)有限，尤其在半導(dǎo)體芯片、平板顯示器、太陽(yáng)能電池等領(lǐng)域，全球高純?yōu)R射靶材市場(chǎng)依然被美國(guó)、日本的濺射靶材生產(chǎn)廠商所控制或壟斷。隨著濺射靶材朝著更高

42、純度、更大尺寸的方向發(fā)展，我國(guó)濺射靶材生產(chǎn)企業(yè)只有不斷進(jìn)行研發(fā)創(chuàng)新，具備較強(qiáng)的產(chǎn)品開(kāi)發(fā)能力，研制出適用不同應(yīng)用領(lǐng)域的濺射靶材產(chǎn)品，才能在全球?yàn)R射靶材市場(chǎng)中占得一席之地。半導(dǎo)體芯片、平板顯示器、太陽(yáng)能電池等下游工業(yè)對(duì)產(chǎn)品的品質(zhì)和穩(wěn)定性等方面有較高的要求，為了嚴(yán)格控制產(chǎn)品質(zhì)量，下游客戶尤其是全球知名廠商在選擇供應(yīng)商時(shí)，供應(yīng)商資格認(rèn)證壁壘較高，且認(rèn)證周期較長(zhǎng)。我國(guó)高純?yōu)R射靶材企業(yè)要進(jìn)入國(guó)際市場(chǎng)，首先要通過(guò)部分國(guó)際組織和行業(yè)協(xié)會(huì)為高純?yōu)R射靶材設(shè)置的行業(yè)性質(zhì)量管理體系標(biāo)準(zhǔn)，例如，應(yīng)用于汽車電子的半導(dǎo)體廠商普遍要求上游濺射靶材供應(yīng)商能夠通過(guò)ISO/TS16949質(zhì)量管理體系認(rèn)證，應(yīng)用于電器設(shè)備的濺射靶材生

43、產(chǎn)商需要滿足歐盟制定的RoHS強(qiáng)制性標(biāo)準(zhǔn)；其次，半導(dǎo)體芯片、平板顯示器、太陽(yáng)能電池等下游知名客戶均建立了十分完善的客戶認(rèn)證體系，在高純?yōu)R射靶材供應(yīng)商滿足行業(yè)性質(zhì)量管理體系認(rèn)證的基礎(chǔ)上，下游客戶往往還會(huì)根據(jù)自身的質(zhì)量管理要求再對(duì)供應(yīng)商進(jìn)行合格供應(yīng)商認(rèn)證。認(rèn)證過(guò)程主要包括技術(shù)評(píng)審、產(chǎn)品報(bào)價(jià)、樣品檢測(cè)、小批量試用、批量生產(chǎn)等幾個(gè)階段，認(rèn)證過(guò)程相當(dāng)苛刻，從新產(chǎn)品開(kāi)發(fā)到實(shí)現(xiàn)大批量供貨，整個(gè)過(guò)程一般需要2-3年時(shí)間。為了降低供應(yīng)商開(kāi)發(fā)與維護(hù)成本，保證產(chǎn)品質(zhì)量的持續(xù)性，濺射靶材供應(yīng)商在通過(guò)下游客戶的資格認(rèn)證后，下游客戶會(huì)與濺射靶材供應(yīng)商保持長(zhǎng)期穩(wěn)定的合作關(guān)系，不會(huì)輕易更換供應(yīng)商，并在技術(shù)合作、供貨份額等方面

44、向優(yōu)質(zhì)供應(yīng)商傾斜。近年來(lái)，受益于國(guó)家從戰(zhàn)略高度持續(xù)地支持電子材料行業(yè)的發(fā)展及應(yīng)用推廣，我國(guó)國(guó)內(nèi)開(kāi)始出現(xiàn)不少專業(yè)從事高純?yōu)R射靶材研發(fā)和生產(chǎn)的企業(yè)，并成功開(kāi)發(fā)出一批能適應(yīng)高端應(yīng)用領(lǐng)域的濺射靶材，為高純?yōu)R射靶材大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化提供了良好的研發(fā)基礎(chǔ)和市場(chǎng)化條件。通過(guò)將濺射靶材研發(fā)成果產(chǎn)業(yè)化，積極參與濺射靶材的國(guó)際化市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)，我國(guó)濺射靶材生產(chǎn)企業(yè)在技術(shù)和市場(chǎng)方面都取得了長(zhǎng)足的進(jìn)步，改變了高純?yōu)R射靶材長(zhǎng)期依賴進(jìn)口的不利局面。目前，包括長(zhǎng)沙鑫康在內(nèi)的一些國(guó)內(nèi)企業(yè)已經(jīng)掌握了高純?yōu)R射靶材生產(chǎn)的關(guān)鍵技術(shù)，積累了較為豐富的產(chǎn)業(yè)經(jīng)驗(yàn)，擁有了一定的市場(chǎng)知名度，獲得了全球知名客戶的認(rèn)可。第三章 產(chǎn)業(yè)分析預(yù)測(cè)一、靶材行業(yè)分析靶

45、材材料的技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)與下游應(yīng)用產(chǎn)業(yè)的薄膜技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)息息相關(guān)，隨著應(yīng)用產(chǎn)業(yè)在薄膜產(chǎn)品或元件上的技術(shù)改進(jìn)，靶材技術(shù)也應(yīng)隨之變化。鍍膜靶材是通過(guò)磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當(dāng)工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡(jiǎn)單說(shuō)的話，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長(zhǎng)的激光與不同的靶材相互作用時(shí)，會(huì)產(chǎn)生不同的殺傷破壞效應(yīng)。例如：蒸發(fā)磁控濺射鍍膜是加熱蒸發(fā)鍍膜、鋁膜等。更換不同的靶材(如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等)，即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)。各種類型的濺射薄膜材料在半導(dǎo)體集成電路(VLSI)、光碟、平

46、面顯示器以及工件的表面涂層等方面都得到了廣泛的應(yīng)用。20世紀(jì)90年代以來(lái)，濺射靶材及濺射技術(shù)的同步發(fā)展，極大地滿足了各種新型電子元器件發(fā)展的需求。例如，在半導(dǎo)體集成電路制造過(guò)程中，以電阻率較低的銅導(dǎo)體薄膜代替鋁膜布線：在平面顯示器產(chǎn)業(yè)中，各種顯示技術(shù)(如LCD、PDP、OLED及FED等)的同步發(fā)展，有的已經(jīng)用于電腦及計(jì)算機(jī)的顯示器制造;在信息存儲(chǔ)產(chǎn)業(yè)中，磁性存儲(chǔ)器的存儲(chǔ)容量不斷增加，新的磁光記錄材料不斷推陳出新這些都對(duì)所需濺射靶材的質(zhì)量提出了越來(lái)越高的要求，需求數(shù)量也逐年增加。日本。就美國(guó)而言.約有50家中小規(guī)模的靶材制造商及經(jīng)銷商，其中最大的公司員工大約有幾百人。不過(guò)為了能更接近使用者，以

47、便提供更完善的售后服務(wù)，全球主要靶材制造商通常會(huì)在客戶所在地設(shè)立分公司。近段時(shí)間，亞洲的一些國(guó)家和地區(qū)，如臺(tái)灣.韓國(guó)和新加坡，就建立了越來(lái)越多制造薄膜元件或產(chǎn)品的工廠，如IC、液晶顯示器及光碟制造廠。對(duì)靶材廠商而言，這是相當(dāng)重要的新興市場(chǎng)。中國(guó)靶材產(chǎn)業(yè)發(fā)展也是與日俱增，不斷的擴(kuò)大自己的規(guī)模和生產(chǎn)技術(shù)，國(guó)內(nèi)一線生產(chǎn)制造靶材的品牌已經(jīng)達(dá)到國(guó)外最頂尖的技術(shù)水平。2010年，日本三菱公司就在中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)建立了光碟塒靶材的生產(chǎn)基地，可以滿足臺(tái)灣50%的靶材需要。BCC(BusinessCommunicationsCompany，商業(yè)咨詢公司)最新的統(tǒng)計(jì)報(bào)告指出，全球靶材市場(chǎng)將以8.8%的年平均增長(zhǎng)率(A

48、AGR)在今后的5年內(nèi)持續(xù)增長(zhǎng)，估計(jì)銷售額將從1999年的7.2億美元增加到2004年的11億美元。靶材是一種具有高附加價(jià)值的特種電子材料，主要使用在微電子，顯示器，存儲(chǔ)器以及光學(xué)鍍膜等產(chǎn)業(yè)上，用以濺射用于尖端技術(shù)的各種薄膜材料。BCC的報(bào)告顯示：全球的上述產(chǎn)業(yè)在1999年使用了2.88百萬(wàn)公斤靶材。換算為面積，則濺射了363百萬(wàn)平方米的薄膜。而若以單位靶材來(lái)計(jì)算，全球在1999年則大約使用了37400單位的靶材。這里所要指出的是，隨著應(yīng)用產(chǎn)業(yè)的不同，靶材的形狀與大小也有所差異，其直徑從15Gm到3m都有，而上述的統(tǒng)計(jì)資料，則是平均化后的結(jié)果。在所有應(yīng)用產(chǎn)業(yè)中，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)對(duì)靶材濺射薄膜的品質(zhì)要

49、求是最苛刻的。如今12英寸(300衄口)的硅晶片已制造出來(lái).而互連線的寬度卻在減小。硅片制造商對(duì)靶材的要求是大尺寸、高純度、低偏析和細(xì)晶粒，這就要求所制造的靶材具有更好的微觀結(jié)構(gòu)。靶材的結(jié)晶粒子直徑和均勻性已被認(rèn)為是影響薄膜沉積率的關(guān)鍵因素。另外，薄膜的純度與靶材的純度關(guān)系極大，過(guò)去99.995%(4N5)純度的銅靶，或許能夠滿足半導(dǎo)體廠商0.35pm工藝的需求，但是卻無(wú)法滿足如今0.25um的工藝要求，而未米的0.18um藝甚至0.13m工藝，所需要的靶材純度將要求達(dá)到5甚至6N以上。平面顯示器(FPD)這些年來(lái)大幅沖擊以陰極射線管(CRT)為主的電腦顯示器及電視機(jī)市場(chǎng)，亦將帶動(dòng)ITO靶材的

50、技術(shù)與市場(chǎng)需求。如今的iTO靶材有兩種.一種是采用納米狀態(tài)的氧化銦和氧化錫粉混合后燒結(jié)，一種是采用銦錫合金靶材。銦錫合金靶材可以采用直流反應(yīng)濺射制造ITO薄膜，但是靶表面會(huì)氧化而影響濺射率，并且不易得到大尺寸的臺(tái)金靶材。如今一般采取第一種方法生產(chǎn)ITO靶材，利用LIRF反應(yīng)濺射鍍膜.靶材具有沉積速度快.且能精確控制膜厚，電導(dǎo)率高，薄膜的一致性好，與基板的附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)l。但是靶材制作困難，這是因?yàn)檠趸熀脱趸a不容易燒結(jié)在一起。一般采用ZrO2、Bi2O3、CeO等作為燒結(jié)添加劑，能夠獲得密度為理論值的93%98%的靶材，這種方式形成的ITO薄膜的性能與添加劑的關(guān)系極大。在儲(chǔ)存技術(shù)方面，高密度

51、、大容量硬盤(pán)的發(fā)展，需要大量的巨磁阻薄膜材料，CoFCu多層復(fù)合膜是如今應(yīng)用廣泛的巨磁阻薄膜結(jié)構(gòu)。磁光盤(pán)需要的TbFeCo合金靶材還在進(jìn)一步發(fā)展，用它制造的磁光盤(pán)具有存儲(chǔ)容量大，壽命長(zhǎng)，可反復(fù)無(wú)接觸擦寫(xiě)的特點(diǎn)。如今開(kāi)發(fā)出來(lái)的磁光盤(pán)，具有TbFeCo/Ta和TbFeCo/Al的層復(fù)合膜結(jié)構(gòu)，TbFeCo/AI結(jié)構(gòu)的Kerr旋轉(zhuǎn)角達(dá)到58，而TbFeCofFa則可以接近0.8。經(jīng)過(guò)研究發(fā)現(xiàn)，低磁導(dǎo)率的靶材高交流局部放電電壓l抗電強(qiáng)度?；阪N銻碲化物的相變存儲(chǔ)器(PCM)顯示出顯著的商業(yè)化潛力,是NOR型閃存和部分DRAM市場(chǎng)的一項(xiàng)替代性存儲(chǔ)器技術(shù)，不過(guò),在實(shí)現(xiàn)更快速地按比例縮小的道路上存在的挑戰(zhàn)之

52、一,便是缺乏能夠生產(chǎn)可進(jìn)一步調(diào)低復(fù)位電流的完全密閉單元。降低復(fù)位電流可降低存儲(chǔ)器的耗電量,延長(zhǎng)電池壽命和提高數(shù)據(jù)帶寬,這對(duì)于當(dāng)前以數(shù)據(jù)為中心的、高度便攜式的消費(fèi)設(shè)備來(lái)說(shuō)都是很重要的特征。二、靶材市場(chǎng)分析預(yù)測(cè)濺射靶材是利用物理氣相沉積技術(shù)制備電子薄膜材料的被轟擊材料，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體芯片、太陽(yáng)能電池、平板顯示、信息存儲(chǔ)等領(lǐng)域，其中半導(dǎo)芯片用濺射靶材技術(shù)要求最高，具有規(guī)?；a(chǎn)能力的企業(yè)數(shù)量也相對(duì)較少，主要分布在美國(guó)、日本等國(guó)家和地區(qū)。中國(guó)濺射靶材行業(yè)起步較晚，目前仍然屬于一個(gè)較新的行業(yè)，受益于國(guó)家戰(zhàn)略的支持，已經(jīng)開(kāi)始出現(xiàn)少量專業(yè)從事高純?yōu)R射靶材研發(fā)和生產(chǎn)的企業(yè)(如江豐電子，有研新材等)，并成功開(kāi)

53、發(fā)出一批高端應(yīng)用領(lǐng)域的濺射靶材，為高純?yōu)R射靶材大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化提供了良好的研發(fā)基礎(chǔ)和市場(chǎng)化條件。靶材全球市場(chǎng)預(yù)計(jì)16-19復(fù)合增速13%。2016年全球?yàn)R射靶材市場(chǎng)容量達(dá)113.6億美元，相比于2015年的94.8億美元增長(zhǎng)20%。預(yù)測(cè)2016-2019年均復(fù)合增長(zhǎng)率達(dá)13%，到2019年全球高純?yōu)R射靶材市場(chǎng)規(guī)模將超過(guò)163億美元。2016年全球靶材市場(chǎng)的下游結(jié)構(gòu)中，半導(dǎo)體占比10%、平板顯示占34%、太陽(yáng)能電池占21%、記錄媒體占29%，靶材性能要求依次降低。市場(chǎng)集中度高，日、美占據(jù)80%高端靶材市場(chǎng)。濺射靶材由于其高技術(shù)、高投資、高客戶壁壘，具有規(guī)?；a(chǎn)能力企業(yè)較少，以霍尼韋爾、日礦金屬、東

54、曹、普萊克斯等為代表的靶材龍頭企業(yè)2017年占據(jù)全球約80%靶材市場(chǎng)。美、日等跨國(guó)企業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈較為完整，囊括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應(yīng)用各個(gè)環(huán)節(jié)，主導(dǎo)高端的半導(dǎo)體靶材市場(chǎng)；韓國(guó)、新加坡及中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)擅長(zhǎng)磁記錄及光學(xué)薄膜領(lǐng)域，原料多從國(guó)外進(jìn)口；中國(guó)靶材產(chǎn)業(yè)正處于起步階段，逐步切入以原料以進(jìn)口為主的全球主流半導(dǎo)體、顯示、光伏等龍頭企業(yè)客戶。預(yù)計(jì)2018-2020年國(guó)內(nèi)顯示靶材需求增速維持20-25%增速。中國(guó)大陸從上世紀(jì)80年代開(kāi)始進(jìn)入液晶顯示領(lǐng)域，在政府政策導(dǎo)向和產(chǎn)業(yè)扶植下，我國(guó)大陸液晶顯示產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展，成為平板顯示行業(yè)發(fā)展速度最快的地區(qū)。2016年中國(guó)平板顯示器件產(chǎn)業(yè)整體規(guī)模達(dá)到150

55、0億元，同比增長(zhǎng)25.99%；2012-2016年國(guó)內(nèi)平板顯示增速基本保持在25%以上。此外考慮到國(guó)內(nèi)LCD國(guó)產(chǎn)替代進(jìn)程加速、再加上OLED滲透率有望快速提升，預(yù)計(jì)2018-2020年國(guó)內(nèi)平板顯示產(chǎn)業(yè)增速將至少維持在20-25%；對(duì)應(yīng)到國(guó)內(nèi)顯示靶材的需求也將相應(yīng)增加。靶材應(yīng)用的戰(zhàn)略高地17-20年全球半導(dǎo)體增速有望超預(yù)期，17年國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體增速24.81%。半導(dǎo)體靶材性能要求位居各類應(yīng)用之首。半導(dǎo)體行業(yè)所需濺射靶材主要用于晶圓制造材料和封裝測(cè)試材料。芯片制造對(duì)濺射靶材純度要求很高，通常需達(dá)99.9995%（5N5）甚至99.9999%（6N）以上。2017全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)超預(yù)期增速21.62%，從下游需求結(jié)構(gòu)看，17年增長(zhǎng)主要源于半導(dǎo)體的主要應(yīng)用是集成電路中的存儲(chǔ)器，增速達(dá)到61.49%，增量來(lái)源于人工智能、大數(shù)據(jù)、汽車電子等領(lǐng)域?qū)Ω咝阅苄酒枨罂焖偬嵘?。?5年開(kāi)始國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)維持20%左右增速，漸成常態(tài)。半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)從臺(tái)灣向國(guó)內(nèi)轉(zhuǎn)移的趨勢(shì)比較確定，國(guó)內(nèi)政策、資金、稅收等各方面也在扶持半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。國(guó)家集成電路產(chǎn)業(yè)基金第一期規(guī)模1,387億元。，至少帶動(dòng)省市地方基金共4,651億元，拉動(dòng)國(guó)內(nèi)企業(yè)內(nèi)生增長(zhǎng)和海外并購(gòu)。未來(lái)第二期基金計(jì)劃啟動(dòng)，也將持續(xù)拉動(dòng)國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體