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1、太陽(yáng)能電池工藝過(guò)程1. 清洗腐蝕制絨面。 2. 清洗。 3. 淡磷擴(kuò)散。 4. 熱氧化鈍化。 5. 開(kāi)槽。 6. 開(kāi)槽區(qū)腐蝕。 7. 清洗。 8. 槽區(qū)濃琳擴(kuò)散。 9. 背面蒸鋁。 10. 燒制背場(chǎng)。 11. 化學(xué)鍍埋柵。 12. 制作背面電極。 13. 蒸鍍減反射膜。 14. 去邊燒結(jié)。 15. 測(cè)試。太陽(yáng)能是人類取之不盡用之不竭的可再生能源。也是清潔能源,不產(chǎn)生任何的環(huán)境污染。在太陽(yáng)能的有效利用當(dāng)中;大陽(yáng)能光電利用是近些年來(lái)發(fā)展最快,最具活力的研究領(lǐng)域,是其中最受矚目的項(xiàng)目之一。制作太陽(yáng)能電池主要是以半導(dǎo)體材料為基礎(chǔ),其工作原理是利用光電材料吸收光能后發(fā)生光電于轉(zhuǎn)換反應(yīng),根據(jù)所用材料的不同

2、,太陽(yáng)能電池可分為:1、硅太陽(yáng)能電池;2、以無(wú)機(jī)鹽如砷化鎵III-V化合物、硫化鎘、銅銦硒等多元化合物為材料的電池;3、功能高分子材料制備的大陽(yáng)能電池;4、納米晶太陽(yáng)能電池等。一、硅太陽(yáng)能電池1硅太陽(yáng)能電池工作原理與結(jié)構(gòu)太陽(yáng)能電池發(fā)電的原理主要是半導(dǎo)體的光電效應(yīng),一般的半導(dǎo)體主要結(jié)構(gòu)如下:圖中,正電荷表示硅原子,負(fù)電荷表示圍繞在硅原子旁邊的四個(gè)電子。當(dāng)硅晶體中摻入其他的雜質(zhì),如硼、磷等,當(dāng)摻入硼時(shí),硅晶體中就會(huì)存在著一個(gè)空穴,它的形成可以參照下圖: 圖中,正電荷表示硅原子,負(fù)電荷表示圍繞在硅原子旁邊的四個(gè)電子。而黃色的表示摻入的硼原子,因?yàn)榕鹪又車挥?個(gè)電子,所以就會(huì)產(chǎn)生入圖所示的藍(lán)色的空

3、穴,這個(gè)空穴因?yàn)闆](méi)有電子而變得很不穩(wěn)定,容易吸收電子而中和,形成P(positive)型半導(dǎo)體。 同樣,摻入磷原子以后,因?yàn)榱自佑形鍌€(gè)電子,所以就會(huì)有一個(gè)電子變得非常活躍,形成N(negative)型半導(dǎo)體。黃色的為磷原子核,紅色的為多余的電子。如下圖。 N型半導(dǎo)體中含有較多的空穴,而P型半導(dǎo)體中含有較多的電子,這樣,當(dāng)P型和N型半導(dǎo)體結(jié)合在一起時(shí),就會(huì)在接觸面形成電勢(shì)差,這就是PN結(jié)。 當(dāng)P型和N型半導(dǎo)體結(jié)合在一起時(shí),在兩種半導(dǎo)體的交界面區(qū)域里會(huì)形成一個(gè)特殊的薄層),界面的P型一側(cè)帶負(fù)電,N型一側(cè)帶正電。這是由于P型半導(dǎo)體多空穴,N型半導(dǎo)體多自由電子,出現(xiàn)了濃度差。N區(qū)的電子會(huì)擴(kuò)散到P區(qū),

4、P區(qū)的空穴會(huì)擴(kuò)散到N區(qū),一旦擴(kuò)散就形成了一個(gè)由N指向P的“內(nèi)電場(chǎng)”,從而阻止擴(kuò)散進(jìn)行。達(dá)到平衡后,就形成了這樣一個(gè)特殊的薄層形成電勢(shì)差,這就是PN結(jié)。當(dāng)晶片受光后,PN結(jié)中,N型半導(dǎo)體的空穴往P型區(qū)移動(dòng),而P型區(qū)中的電子往N型區(qū)移動(dòng),從而形成從N型區(qū)到P型區(qū)的電流。然后在PN結(jié)中形成電勢(shì)差,這就形成了電源。(如下圖所示) 由于半導(dǎo)體不是電的良導(dǎo)體,電子在通過(guò)pn結(jié)后如果在半導(dǎo)體中流動(dòng),電阻非常大,損耗也就非常大。但如果在上層全部涂上金屬,陽(yáng)光就不能通過(guò),電流就不能產(chǎn)生,因此一般用金屬網(wǎng)格覆蓋pn結(jié)(如圖 梳狀電極),以增加入射光的面積。另外硅表面非常光亮,會(huì)反射掉大量的太陽(yáng)光,不能被電池利用。

5、為此,科學(xué)家們給它涂上了一層反射系數(shù)非常小的保護(hù)膜(如圖),將反射損失減小到5甚至更小。一個(gè)電池所能提供的電流和電壓畢竟有限,于是人們又將很多電池(通常是36個(gè))并聯(lián)或串聯(lián)起來(lái)使用,形成太陽(yáng)能光電板。2硅太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)流程 通常的晶體硅太陽(yáng)能電池是在厚度350450m的高質(zhì)量硅片上制成的,這種硅片從提拉或澆鑄的硅錠上鋸割而成。 上述方法實(shí)際消耗的硅材料更多。為了節(jié)省材料,目前制備多晶硅薄膜電池多采用化學(xué)氣相沉積法,包括低壓化學(xué)氣相沉積(LPCVD)和等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)工藝。此外,液相外延法(LPPE)和濺射沉積法也可用來(lái)制備多晶硅薄膜電池。 化學(xué)氣相沉積主要是以SiH2Cl

6、2、SiHCl3、SiCl4或SiH4,為反應(yīng)氣體,在一定的保護(hù)氣氛下反應(yīng)生成硅原子并沉積在加熱的襯底上,襯底材料一般選用Si、SiO2、Si3N4等。但研究發(fā)現(xiàn),在非硅襯底上很難形成較大的晶粒,并且容易在晶粒間形成空隙。解決這一問(wèn)題辦法是先用 LPCVD在襯底上沉積一層較薄的非晶硅層,再將這層非晶硅層退火,得到較大的晶粒,然后再在這層籽晶上沉積厚的多晶硅薄膜,因此,再結(jié)晶技術(shù)無(wú)疑是很重要的一個(gè)環(huán)節(jié),目前采用的技術(shù)主要有固相結(jié)晶法和中區(qū)熔再結(jié)晶法。多晶硅薄膜電池除采用了再結(jié)晶工藝外,另外采用了幾乎所有制備單晶硅太陽(yáng)能電池的技術(shù),這樣制得的太陽(yáng)能電池轉(zhuǎn)換效率明顯提高。三、納米晶化學(xué)太陽(yáng)能電池 在

7、太陽(yáng)能電池中硅系太陽(yáng)能電池?zé)o疑是發(fā)展最成熟的,但由于成本居高不下,遠(yuǎn)不能滿足大規(guī)模推廣應(yīng)用的要求。為此,人們一直不斷在工藝、新材料、電池薄膜化等方面進(jìn)行探索,而這當(dāng)中新近發(fā)展的納米TiO2晶體化學(xué)能太陽(yáng)能電池受到國(guó)內(nèi)外科學(xué)家的重視。 以染料敏化納米晶體太陽(yáng)能電池(DSSCs)為例,這種電池主要包括鍍有透明導(dǎo)電膜的玻璃基底,染料敏化的半導(dǎo)體材料、對(duì)電極以及電解質(zhì)等幾部分。 陽(yáng)極:染料敏化半導(dǎo)體薄膜(TiO2膜) 陰極:鍍鉑的導(dǎo)電玻璃 電解質(zhì):I3-/I- 如圖所示,白色小球表示TiO 2,紅色小球表示染料分子。染料分子吸收太陽(yáng)光能躍遷到激發(fā)態(tài),激發(fā)態(tài)不穩(wěn)定,電子快速注入到緊鄰的TiO 2導(dǎo)帶,染料中失去的電子則很快從電解質(zhì)中得到補(bǔ)償,進(jìn)入TiO 2導(dǎo)帶中的電于最終進(jìn)入導(dǎo)電膜,然后通過(guò)外回路產(chǎn)生光電流。 納

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