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Confidential注入機進階報告注入機進階報告Confidential射頻離子源氣體面板加速器氬氣面板：氬氣面板： 提供氬氣射頻離子源點火的介質(zhì)，并在在紅磷加熱升華前，維持射頻等離子體。紅磷加熱器硅片 射頻離子源：射頻離子源： 將介質(zhì)離子化，提供工藝需要的等離子體。加速器：加速器： 引出離子并使其加速，使離子獲得一定的能量。硅片：硅片： 離子注入的靶材。Confidential1.1.點火：點火：使用氬氣點火，氣壓要在-3次方下。手動調(diào)節(jié)手動調(diào)節(jié)Confidential2.2.加速加速Source chamberIon beam currentConfidential （1 1）在加速場中，較寬的電場對等離子體進行束流，通過前后左右的電場將離子左右的動量抵消，使離子垂直向下從縫隙中進入第二電場。 在第二電場中，通過反向電場，剔除等離子體中多余的電子，減少干擾。Confidential（2 2）影響加速場的因素：）影響加速場的因素： 1.第一電場中兩板之間的距離d 2.兩個電場的場強E 3.縫隙的寬度 4.電場中的壓強Confidential電源的使用：電源的使用： RF 380V suppression 220V10kV Extaction 330V40kV 泵 20kV水：水： 各種泵、離子源、加速器、皮帶軸、電磁鐵CDA:CDA: 閥門、水冷系統(tǒng)

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