無(wú)塵室等級(jí)標(biāo)準(zhǔn)_第1頁(yè)
無(wú)塵室等級(jí)標(biāo)準(zhǔn)_第2頁(yè)
無(wú)塵室等級(jí)標(biāo)準(zhǔn)_第3頁(yè)
無(wú)塵室等級(jí)標(biāo)準(zhǔn)_第4頁(yè)
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1、v1.0可編輯可修改 Surnrndry of U.S. Federal Standard 209EClean Room C依31Particles Size Number Of ParticlePressureTemp erert ureHumidityAir VelocityLiahtiy Iriensty公喇英制0.1 他 m0.2/ilh0.3 jttmQ5ME5 jtirhmmAjciRange 叱RecomMended X/ahJ&Dis-tmuficrn歸瓠Min %Distribution七M(jìn)/s Recycle NumberLus*力1品1哨5方(附1號(hào)(R1)建M1

2、35Q9,9175.72d 4為3110.00,353-一Not *thanl .25194弱22.2± 231 0 14in specialcase4530士 10± 5in special caseLaurier fl(W 0.35rrVs -0.55Turbulent flew ?Ocyiclesti1聲CM曲M1 31124035 JO2657 501063 0035.31 jOO-一M2350099.175721 43093.751002£3-M2 5101240035C物口750106030.035310.0-M33500099175702143090

3、875100028.3-MI3j5100-235007501DA0D3003530100-一M4-7570021 4030900875100(0283三三M4j51000-3530010002477.00M5-*=-100000283061617.5M5.51000C-3530C0100002m70.0M6410003002630C6100175M6.5100000-353000010000024700700M7-1000000026 其I0061B001750In cast of 10 pcs/ft3 p antic le den sty the reliabil ity is low ex

4、cept the long time sampling.半導(dǎo)體工業(yè)是極精密的工業(yè),當(dāng)我們把計(jì)算機(jī)拆開(kāi)之后,在電路板上一顆顆小小的IC都有數(shù)百萬(wàn)顆甚至數(shù)千萬(wàn)顆的晶體管。為了讓這些極小的晶體管妥善的工作,制造的過(guò)程必須在無(wú)塵室內(nèi)進(jìn)行,集成電路制造的工廠動(dòng)輒需要數(shù)十億、數(shù)百億的投資,多因?yàn)樾枰粋€(gè)無(wú)塵室。所謂的無(wú)塵室是一個(gè)人造的環(huán)境,里面含有的粒子遠(yuǎn)低于一般的環(huán)境,隨著集成電路技術(shù)的快速成長(zhǎng),也增加了對(duì)制造環(huán)境(無(wú)塵室)潔靜度的需求,在工業(yè)上即使粒子之尺寸小于1微米,也可能阻礙產(chǎn)品的運(yùn)作或降低其壽命。由于奈米技術(shù)的興起,造成半導(dǎo)體關(guān)鍵尺寸持續(xù)縮小,集成電路積集度不斷的增加,塵粒更容易使芯片失效或可靠

5、度惡化。例如當(dāng)金屬塵粒地落到金屬導(dǎo)線時(shí),就可能會(huì)使金屬導(dǎo)線形成短路。又如果有酸性的離子化合物塵粒掉在金屬導(dǎo)線上,可能將其腐蝕,所以無(wú)塵室為集成電路制造不可或缺的 要素。依據(jù)美國(guó)聯(lián)邦政府頒布的標(biāo)準(zhǔn)【 Federal Standard (FS) 209E, 1992 】,可將無(wú)塵室分為六級(jí)。分別是 1級(jí)、10級(jí)、100級(jí)、1000級(jí)、10000級(jí)、100000級(jí),如果無(wú)塵室 的等級(jí)只用塵粒數(shù)目來(lái)敘述,則可假設(shè)塵粒的尺寸為“m,例如,1級(jí)、10級(jí)、100級(jí)無(wú)塵室最大塵粒數(shù)目分別小于或等于 1顆、10顆、100顆,如果塵粒尺寸不是 vnq無(wú)塵室等級(jí)應(yīng)以在一特定塵粒尺寸的級(jí)數(shù)來(lái)表示。例如:10級(jí)在“m(

6、塵粒尺寸在 “m或更大下,密度不大于 75顆/立方英),1級(jí)在從m(塵粒尺寸在 從m或更大下,密度不大于 35顆/立方英)。而集成電路制造所需的無(wú)塵室之潔凈度必須優(yōu)于1000級(jí)。為保持無(wú)塵室的潔凈度,進(jìn)出的人員有一定的穿著規(guī)定;10000與100000級(jí),必須穿著長(zhǎng)袍無(wú)塵衣、無(wú)塵鞋、帶帽子與面罩;1000級(jí)(含)以上,需穿著特殊的潔凈連身衣、無(wú)塵鞋將全身裹住,并帶上手套和面罩,下表為無(wú)塵室清潔度的定義:塵粒數(shù)/立方英級(jí)數(shù) fl m ii m g m g m g m1 35 3 1 N/A10 350 75 30 10 N/A100 N/A 750 300 100 N/A1000 N/A N/A

7、 N/A 1000 710000 N/A N/A N/A 10000 70100000 N/A N/A N/A 100000 700璟境介貂及溫湮度修件:4.1.1 瓢鹿室是以美H耳希邦檄型做卷分級(jí)的燒靶,外唇瓢鹿室,內(nèi)唇瓢鹿室,防焊瓢鹿室,CAM瓢魔室等級(jí)卷10K級(jí).屋合瓢鹿室的微粒卷10K級(jí),5um微粒工100K然4.1.2 瓢鹿室溫度規(guī)定22±2C,渥度規(guī)定55±5%由溫渥度言己金正羲言己金景,各現(xiàn)埸罩位更換言己金繇氏和保存資料.其精碓度由品保部定期校瞬.4.1.3 瓢鹿室內(nèi)部保持正屋,出閩口凰速-0.5ms,防止外面空氟迤入瓢鹿室.10K級(jí)輾魔室的微粒不大於 100

8、00 ®/ ft3,5um 微粒不大於70 ®/ ft100K級(jí)輾魔室的微粒不大於 100000 ®/ ft3,5um微粒不大於 7001g/ft璟境介貂及溫湮度修件:4.1.1 瓢鹿室是以美H耳希邦檄型做卷分級(jí)的燒靶,外唇瓢鹿室,內(nèi)唇瓢鹿室,防焊瓢鹿室,CAM瓢魔室等級(jí)卷10K級(jí).屋合瓢鹿室的微粒卷10K級(jí),5um微粒到100K然.其精碓度由品保部定期校瞬4.1.2 瓢鹿室溫度規(guī)定22±2C,渥度規(guī)定55±5%由溫渥度言己金/羲言己金景,各現(xiàn)埸罩位更換言己金繇氏和保存資料4.1.3 瓢鹿室內(nèi)部保持正屋,出閩口凰速-0.5ms,防止外面空氟迤入

9、瓢鹿室.10K級(jí)輾魔室的微粒不大於10000 ®/ ft3,5um 微粒不大於70 ®/ ft100K級(jí)輾魔室的微粒不大於100000 ®/ ft3,5um微粒不大於 7001g/ft操作注意事4.3.1 人具迤入瓢鹿室,一律穿著建身式瓢鹿衣,旋換瓢鹿鞋。4.3.2 瓢鹿衣穿著一律在更衣室迤行。4.3.3 殿禁操作人11戴戒指、手等手.。4.3.4 在瓢鹿室內(nèi)禁脫掉瓢鹿衣,或搭起衣袖,脫帽。4.3.6 瓢鹿室作ft人11接斶 pcbBf一律佩帶手套,每遇一、四更換,作H謾程中如有損壤或污染立即更換。迤出物的管制及要求:4.4.1 殿禁播帶食物、歆料及私入紙I®

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