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1、第六章 半導(dǎo)體陶瓷一、教學(xué)基本要求了解半導(dǎo)體瓷的種類,掌握BaTiO3陶瓷的半導(dǎo)化機(jī)理,PTC效應(yīng)機(jī)理,了解半導(dǎo)體陶瓷電容器的分類及其性能,理解表面層、晶界層電容效應(yīng)。掌握金屬與半導(dǎo)體的接觸形式及原因。二、基本內(nèi)容概述6.1 半導(dǎo)體陶瓷的基本概念1、裝置瓷、電容器瓷、鐵電壓電瓷:V1012cm ,防止半導(dǎo)化,保證高絕緣電阻率;半導(dǎo)體瓷:V106cm2、半導(dǎo)體瓷:傳感器用,作為敏感材料,電阻型敏感材料為主: V或S對(duì)熱、光、電壓、氣氛、濕度敏感,故可作各種熱敏、光敏、壓敏、氣敏、濕敏材料。3、非半導(dǎo)體瓷體效應(yīng)(晶粒本身)半導(dǎo)體瓷晶界效應(yīng)及表面效應(yīng)6.2 BaT
2、iO3瓷的半導(dǎo)化機(jī)理1、原子價(jià)控制法(施主摻雜法) 在高純()BaTiO3中摻入微量(mol)的離子半徑與Ba2+相近,電價(jià)比Ba2+離子高的離子或離子半徑與Ti4+相近而電價(jià)比Ti4+高的離子,它們將取代Ba2+或Ti4+位形成置換固溶體,在室溫下,上述離子電離而成為施主,向BaTiO3提供導(dǎo)帶電子(使部分Ti4+eTi3+),從而V下降(102cm),成為半導(dǎo)瓷。2、強(qiáng)制還原法在還原氣氛中燒結(jié)或熱處理,將生成氧空位而使部分Ti4+Ti3+,從而實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)化。3、AST法當(dāng)材料中含有Fe、K等受主雜質(zhì)時(shí),不利
3、于晶粒半導(dǎo)化。加入SiO2或AST玻璃(Al2O3·SiO2·TiO2)可以使上述有害半導(dǎo)的雜質(zhì)從晶粒進(jìn)入晶界,富集于晶界,從而有利于陶瓷的半導(dǎo)化。6.3 PTC熱敏電阻 1、PTC效應(yīng):半導(dǎo)體BaTiO3陶瓷,當(dāng)溫度超過居里溫度時(shí),在幾十度的范圍內(nèi),電阻率會(huì)增大410個(gè)數(shù)量級(jí),即PTC效應(yīng)。2、電阻-溫度特性、電壓-電流特性,電流-時(shí)間特性。3、PTC機(jī)理:l 海旺模型l 丹尼爾斯模
4、型6.4 半導(dǎo)體陶瓷電容器1、分類及性能半導(dǎo)體陶瓷電容器按其結(jié)構(gòu)、工藝可分為三類:l 表面阻擋層型l 表面還原再氧化型l 晶界層型。2、表面型半導(dǎo)體陶瓷電容器3、晶界型半導(dǎo)體陶瓷電容器三、重點(diǎn)、難點(diǎn)分析1、BaTiO3陶瓷的半導(dǎo)化機(jī)理 純BaTiO3陶瓷的禁帶寬度,因而室溫電
5、阻率很高(>1010cm),然而在特殊情況下,BaTiO3瓷可形成n型半導(dǎo)體,使BaTiO3成為半導(dǎo)體陶瓷的方法及過程,稱為BaTiO3瓷的半導(dǎo)化。 BaTiO3陶瓷的半導(dǎo)化方法主要包括原子價(jià)控制法和強(qiáng)制還原法。l 原子價(jià)控制法在高純()BaTiO3中摻入微量(mol)的離子半徑與Ba2+相近,電價(jià)比Ba2+離子高的離子或離子半徑與Ti4+相近而電價(jià)比Ti4+高的離子,它們將取代Ba2+或Ti4+位形成置換固溶體,在室溫下
6、,上述離子電離而成為施主,向BaTiO3提供導(dǎo)帶電子(使部分Ti4+eTi3+),從而V下降(102cm),成為半導(dǎo)瓷。l 強(qiáng)制還原法在還原氣氛中燒結(jié)或熱處理時(shí),氧以分子狀態(tài)逸出,將生成氧空位,氧空位帶正電,為維持電中性氧空位可束縛電子。這些多余的電子被Ti4+捕獲,而使部分Ti4+Ti3+,從而實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)化。2、PTC效應(yīng)機(jī)理實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn),摻雜BaTiO3半導(dǎo)體陶瓷在居里點(diǎn)以下無PTC效應(yīng),電阻率很低,在Tc以上v隨T升高呈指數(shù)的增加。這與BaTiO3鐵電體的在Tc以下很高,Tc以上迅速降低相對(duì)應(yīng)。因此
7、,PTC效應(yīng)必然與鐵電性有關(guān)。實(shí)驗(yàn)還發(fā)現(xiàn):?jiǎn)尉aTiO3無PTC特性,強(qiáng)制還原法所得半導(dǎo)體BaTiO3的PTC特性很小或沒有PTC特性。因此,PTC效應(yīng)與晶界有關(guān)。 根據(jù)以上的實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象,海旺提出了PTC效應(yīng)模型:BaTiO3半導(dǎo)體陶瓷晶粒內(nèi)部為n型半導(dǎo)體,在晶界處,由于吸附氧或受主雜質(zhì)偏析,在晶界上形成“電子陷阱”,因此從導(dǎo)帶或施主能級(jí)上來的電子,首先填充在表面態(tài)中,從而在晶界形成受主電荷,并在晶粒內(nèi)距晶界一定寬度形成相反電荷的空間電荷層(阻擋層),從而出現(xiàn)晶界勢(shì)壘。晶界勢(shì)壘與存在以下關(guān)系:因此,當(dāng)TTc時(shí),T,0,即勢(shì)壘高度0隨溫度T而迅速升高。隨T呈指數(shù)式迅速升高,顯示出PTC特性。 然而,海旺模型本身存在一定的局限性,有一些實(shí)驗(yàn)
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