德國C.P型高整平酸銅添加劑

1、 德國C.P型高整平酸銅添加劑一、特點(diǎn)1鍍液容易控制，鍍層填平度極佳。2鍍層不易產(chǎn)生針孔，內(nèi)應(yīng)力低，富延展性。3電流密度范圍寬闊，沉積速度快，在4.5安培/平方分米的電流密度下，每分鐘可鍍出1微米的銅層，電鍍時間因而縮短。4可用于各種不同類型的基體金屬，鐵件、鋅合金、塑料等同樣適用。5雜質(zhì)容忍量高，并在較短時內(nèi)獲得高光亮鍍層。二、鍍液組成及操作條件原料及操作條件范 圍標(biāo)  準(zhǔn)硫酸銅（CuSO45H2O）           180-240克/升  

2、0;           225克/升純硫酸密度（1.84g/ml）           25-50毫升/升              30毫升/升氯離子(CL-)  80-100毫克/升(ppm)  

3、0;          80毫克/升(ppm)開缸劑德國 C.P-Mu           4-6毫升/升               5毫升/升填平劑德國 C.P-A       

4、;    毫升/升              0.5毫升/升光亮劑德國 C.P-B           毫升/升              0.2毫升/升溫度 

5、          15-40              24-28陰極電流密度        1-6安培/平方分米         3-5安培/平方分米陽極電流密度安培/平方分米陽極  &

6、#160;    磷銅角(0.03-0.06%磷)攪拌方法        空氣攪拌三、配制鍍液1注入二分之一的水于備用槽，加熱至40-50。所用水氯離子含量應(yīng)低于70毫克/升(ppm)。2加入所需的硫酸銅，攪拌至完全溶解。3加入2克/升的活性炭，攪拌至少1小時。4用過濾泵，將溶液抽到清潔的電鍍槽中，加水至接近水位。5慢慢加入所需的純硫酸，此時會產(chǎn)生大量熱，故需強(qiáng)力攪拌，慢慢添加，以使溫度不超過60(注意:添加硫酸時要特別小心，應(yīng)穿上防護(hù)衣服及戴上手套、眼罩，確保安全)。6將鍍

7、液冷卻到25。7通過分析，得出鍍液氯離子含量，如不足應(yīng)加入適量的鹽酸或氯化鈉，使氯離子含量達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)。8按上表加入適量的德國C.P添加劑并攪拌均勻，在正常操作條件下，把鍍液電解3-5安培小時/升，便可正式生產(chǎn)。四、設(shè)備1鍍槽：柔鋼(Mild steel)缸襯上聚氯乙烯或其它認(rèn)可材料。2溫度控制：加溫及冷卻管可用石墨、鈦、聚四氟乙烯、聚氯乙烯或聚乙烯等材料。3空氣攪拌：鍍液需要均勻而強(qiáng)力的空氣攪拌，所需的空氣由設(shè)有過濾器的低壓無油氣泵供應(yīng)，所需氣量約為12-20立方米/小時/平方米液面。打氣管最好離槽底30-80毫米，與陰極銅棒同一方向，氣管需鉆有兩排直徑為3毫米的小孔，45度角向槽底，兩排氣孔應(yīng)

8、相對交錯，每邊間距80-100毫米，(小孔交錯間距40-50毫米)。鍍槽最好同時有兩支或以上的打氣管，氣管用聚氯乙烯或聚乙烯材料，內(nèi)徑20-40毫米，兩管距離150-250毫米。4陰極搖擺：鍍液攪拌以空氣攪拌為主，同時附設(shè)陰極搖擺有利工件接觸新鮮鍍液，在橫向移動時，沖程幅度為100毫米，每分鐘來回擺動20-25次。上下移動時，沖程幅度為60毫米，每分鐘上下擺動20-30次。5循環(huán)過濾：鍍液需時常保持清潔，浮游物質(zhì)如塵埃、污穢、碳粉或油脂都會引起鍍層粗糙，產(chǎn)生針孔或缺乏光澤。鍍液最好采用連續(xù)性循環(huán)過濾，過濾泵要能在1小時內(nèi)將整槽鍍液過濾6次或以上，過濾泵內(nèi)不可藏有空氣，否則會使鍍液產(chǎn)生極細(xì)小的氣

9、泡，而引致針孔問題。過濾泵的入水喉亦不可接近打氣管，以免吸入空氣。五、組成原料的功用1硫酸銅：硫酸銅提供銅離子，以使在工件表面上還原成銅鍍層，鍍液中銅含量過低，容易在高電位區(qū)造成燒焦現(xiàn)象。相反，銅含量過高時，硫酸銅可能結(jié)晶析出，導(dǎo)致陽極極化。2硫酸：能提高鍍液的導(dǎo)電率，硫酸含量不足時，鍍槽電壓升高，鍍層較易燒焦，硫酸過高時，陽極可能會被鈍化。3氯離子：以鹽酸或氯化鈉的形式加入。氯離子作為催化劑，幫助添加劑鍍出平滑，光亮，致密的鍍層。氯離子過低時，鍍層容易在高、中電流區(qū)產(chǎn)生凸凹起伏的條紋，在低電流區(qū)有霧狀沉積。氯離子過高時，鍍層光亮度及填平度被削弱，而陽極表面就會成氯化銅，形成一層灰白色薄膜，導(dǎo)致陽極鈍化。六、添加劑的作用和補(bǔ)充開缸劑德國C.P Mu：開缸劑不足時，會導(dǎo)致鍍層的高、中電流區(qū)產(chǎn)生凸凹起伏的條紋，開缸劑過多時，鍍層容易起霧。填平劑德國C.P A：A含量過低時，整個電流密度區(qū)的填平度會下降，含量過高時，低電流區(qū)沒有填平，與其它位置的鍍層有明顯分界，但仍有光亮。光亮劑德國C.P B：B含量不足時，鍍層極