Agilent8900串聯(lián)四極桿ICPMS技術(shù)參數(shù)

1、安捷倫電感耦合等離子體串聯(lián)質(zhì)譜儀（ICP-MS/MS）g®1 .電感耦合等離子體串聯(lián)質(zhì)譜QCP-MS/MS）的£義及應(yīng)用要求1.1. 電感耦合等離子體串聯(lián)質(zhì)譜（以下簡(jiǎn)稱ICP-MS/MS）是指液態(tài)樣品經(jīng)霧化器霧 化、霧室篩選后進(jìn)入等離子體，在高溫下樣品電離，離子經(jīng)過(guò)接口錐進(jìn)入真空 系統(tǒng)，濾除中性未電離成分后的離子束經(jīng)第一級(jí)四級(jí)桿（Q1）選擇單一質(zhì)量數(shù)的 離子（母離子）進(jìn)入碰撞反應(yīng)池，母離子在池中經(jīng)碰撞/反應(yīng)后產(chǎn)生子離子，再經(jīng) 過(guò)第二級(jí)四級(jí)桿（Q2）篩選，選定質(zhì)量數(shù)的子離子最終進(jìn)入檢測(cè)器。1.2. ICP-MS/MS不但能替代傳統(tǒng)的ICP-MS適用于食品、環(huán)境、半導(dǎo)體、醫(yī)藥、

2、 核工業(yè)等廣泛領(lǐng)域的各種樣品的元素分析和同位素分析任務(wù)，更以其卓越的抗 干擾能力可達(dá)到無(wú)視基體的分析能力，可成功解決傳統(tǒng)ICP-MS未能解決的質(zhì) 譜干擾，在眾多領(lǐng)域可替代昂貴的高分辨率雙聚焦等離子體質(zhì)譜（HR-ICP- MS），甚至在某些特定領(lǐng)域可完成HR-ICP-MS所無(wú)法完成的工作。1.3. ICP-MS/MS具有以下分析能力：1）通過(guò)離子的荷質(zhì)比以及同位素比指紋進(jìn)行 定性分析的能力；2）可選擇特定母離子進(jìn)入碰撞反應(yīng)池，再進(jìn)行子離子掃描， 杜絕副反應(yīng)對(duì)分析結(jié)果的影響，無(wú)視基體的多元素準(zhǔn)確定量分析能力；3）不需 要標(biāo)準(zhǔn)工作曲線，通過(guò)全譜掃描對(duì)所有元素進(jìn)行較準(zhǔn)確的半定量分析的能力， 可能的未知

3、的多種干擾可采用碰撞/反應(yīng)池技術(shù)直接排除；4）同位素比測(cè)定能力 以及同位素稀釋法精確定量能力；5）可以與色譜技術(shù)聯(lián)機(jī)進(jìn)行形態(tài)分析。1.4. 投標(biāo)所用的ICP-MS/MS型號(hào)需具有廣泛的用戶基礎(chǔ)及應(yīng)用前景，投標(biāo)商須 提供不少于20篇2014年至2017年發(fā)表的使用該型號(hào)進(jìn)行應(yīng)用研究的外文應(yīng) 用文獻(xiàn)。2 .儀器主機(jī)：2.1. 霧化器:高精度、高效同心霧化器。2.2. 霧化室:雙通道設(shè)計(jì)，石英材質(zhì)，高效半導(dǎo)體控溫裝置。2.3. 高鹽進(jìn)樣系統(tǒng)：儀器配置全自動(dòng)在線稀釋裝置，稀釋方式為氣體自動(dòng)稀釋， 避免使用溶劑稀釋引入污染，最高可連續(xù)測(cè)定含鹽量高達(dá)25%的樣品；2.4. ICP發(fā)生器:數(shù)字式驅(qū)動(dòng)的固態(tài)I

4、CP發(fā)生器，27 MHz，最大功率1.6 kW。2.5. 二次放電消除技術(shù)：需具備屏蔽矩物理接地技術(shù)或其他虛擬接地技術(shù)，如非采 用屏蔽矩物理接地技術(shù)，需額外多配10套工作線圈，以預(yù)防意外放電造成的工 作線圈擊穿；2.6. 接口:銀采樣錐與截取錐；具有4 0.4mm的截取錐孔，減少高基體樣品進(jìn)入儀 器真空腔，保證質(zhì)譜系統(tǒng)得長(zhǎng)期穩(wěn)定性，減少真空腔內(nèi)的維護(hù)。2.7. 離子透鏡組：包括提取透鏡和偏轉(zhuǎn)透鏡，離子經(jīng)過(guò)提取透鏡聚焦后，經(jīng)過(guò)偏轉(zhuǎn) 透鏡所施加電場(chǎng)發(fā)生多次偏轉(zhuǎn)，徹底與光子及其他中性粒子分離。2.7.1. 提取透鏡：必須配置不少于2個(gè)離子提取透鏡，可通過(guò)分別施加不同電 壓來(lái)實(shí)現(xiàn)多種離子提取效果；2.

5、7.2. 偏轉(zhuǎn)透鏡：使用多次偏轉(zhuǎn)設(shè)計(jì)的透鏡技術(shù)，在有效去除中性離子的同時(shí) 減少各質(zhì)量段的靈敏度的差異，避免使用單次偏轉(zhuǎn)等落后設(shè)計(jì)的透鏡技 術(shù)；2.8. 工作氣體控制：儀器配置由可由儀器軟件控制的高精度氣體質(zhì)量流量控制器 MFC控制各個(gè)工作氣體，可計(jì)算機(jī)控制的質(zhì)量流量控制氣體流路9個(gè)。2.8.1. 進(jìn)樣系統(tǒng)氣體控制：配置不少于5個(gè)MFC ,用于精確控制等離子體氣、 輔助氣、載氣、稀釋氣、補(bǔ)償氣等；2.8.2. 碰撞反應(yīng)池氣體控制：配置不少于4個(gè)MFC ,用于精確控制He、H2、NH3/He、O2等池氣體;2.9. 一級(jí)四極桿Q1 :必須是與主四極桿長(zhǎng)度規(guī)格一致的雙曲面四極桿，可以進(jìn)行單質(zhì)量數(shù)過(guò)濾

6、，使非選定質(zhì)量的離子無(wú)法進(jìn)入碰撞反應(yīng)池。1.1.1. 驅(qū)動(dòng)頻率：不大于3MHz ；1.1.2. 質(zhì)量范圍：至少包含2-255amu ；2.10. 碰撞反應(yīng)池：離子束進(jìn)入池之前已由第一級(jí)四級(jí)桿Q1濾除了選定質(zhì)量數(shù)之外的全部離子，具有卓越的抗干擾能力，池可同時(shí)使用四路不同的碰撞/反應(yīng)氣 體。2.10.1. 池氣體性能：除常規(guī)使用的池氣體外，還具備使用N2O、ch3f、ch4、n2等氣體進(jìn)行研究的能力；須提供使用n2o、ch3f氣體 的公開發(fā)表文獻(xiàn)各兩篇證明儀器具有該能力；2.10.2. 池工作模式：擁有不少于4種工作模式，標(biāo)準(zhǔn)模式（No Gas）氨氣碰撞模式（KED）、高能干擾消除模式、反應(yīng)模式，

7、不同模式切換 時(shí)間小于3秒；2.11. 二級(jí)四極桿（主四極桿）Q2 ：雙曲面四極桿，可以進(jìn)行單質(zhì)量數(shù)過(guò)濾，使非 目標(biāo)質(zhì)量元素?zé)o法進(jìn)入檢測(cè)器。2.11.1. 驅(qū)動(dòng)頻率：不小于2.5MHz ；2.11.2. 質(zhì)量范圍：至少包含2-255amu ；2.12. 檢測(cè)器：同時(shí)雙通道模式的高速檢測(cè)器;離子動(dòng)態(tài)計(jì)數(shù)范圍不小于18x1010cps ；2.13. 真空系統(tǒng)：具有4級(jí)真空，采用性能泵系統(tǒng)，包括一個(gè)叉分式渦輪泵、第二個(gè)渦輪泵和一個(gè)外置機(jī)械泵；2.14. 自動(dòng)進(jìn)樣器：需配置原廠高速自動(dòng)進(jìn)樣器，樣品位大于200位并可根據(jù)樣品量 升到350位以上。3. ICP-MS/MS操作軟件及應(yīng)用雌：3.1. 操作系

8、統(tǒng):Windows 7或以上操作系統(tǒng)3.2. 全自動(dòng)調(diào)諧及打印所有儀器工作參數(shù)報(bào)告功能3.3. 與色譜技術(shù)聯(lián)用的控制軟件以及數(shù)據(jù)處理軟件3.4. 用戶自定義報(bào)告格式功能3.5. 計(jì)算機(jī)硬件配置(最低配置)：3.6. Intel Xeon 至強(qiáng)四核 3.1GHz 內(nèi)存:4GB 硬盤:250G DVDRW windows7 32 位22''LCD惠普高速雙面打印機(jī).性能指標(biāo)1.1. 靈敏度：1.1.1. 低質(zhì)量數(shù):Li > 150 Mcps/ppm1.1.2. 中質(zhì)量數(shù):Y(89) > 500 Mcps/ppm1.1.3. 高質(zhì)量數(shù):Tl(205) > 300 M

9、cps/ppm 或 U(238) > 450 Mcps/ppm1.2. 檢測(cè)限：1.2.1. Be(9):<0.1 ppt1.2.2. In(115):<0.05 ppt1.2.3. U(238):<0.05 ppt1.3. 氧化物(CeO+/Ce+):<1.5 %1.4. 雙電荷離子(Ce2+/Ce+):< 3.0 %1.5. 豐度靈敏度：1.5.1. 低質(zhì)量端：< 1 x 10-9 (即 v 0.001ppm )1.5.2. 高質(zhì)量端：< 1 x 10-9 (即 v 0.001ppm )1.6. 短期穩(wěn)定性(RSD): < 2 % (2

10、0 min)1.7. 長(zhǎng)期穩(wěn)定性(RSD): < 3 % (2 hrs)1.8. 同位素比精度:< 0.2% ( io7Ag/io9 Ag )1.9. 抗干擾能力1.9.1. S(SO+)檢出限<0.05ppb1.9.2. P(PO+)檢出限<0.05ppb1.10. 背景噪音 Be9<0.3cps5 . MS/MS模式性能指標(biāo)：兩個(gè)四極桿可獨(dú)立設(shè)置不同的質(zhì)量數(shù)或質(zhì)量掃描范圍，以實(shí)現(xiàn)母離子掃描與子 離子掃描功能，用于深入研究碰撞反應(yīng)池內(nèi)的化學(xué)反應(yīng)的反應(yīng)過(guò)程及反應(yīng)動(dòng)力 學(xué)，需提供相應(yīng)的軟件截圖截圖證明；6 . HPLC-ICP-MS/MS拓展性能指標(biāo)：6.1. 軟硬

11、件指標(biāo)：要求可以用同一臺(tái)電腦和同一套軟件同時(shí)控制現(xiàn)有HPLC和ICP- MS/MS，實(shí)現(xiàn)聯(lián)機(jī)全自動(dòng)同步分析的系統(tǒng)，包括實(shí)時(shí)顯示，實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)分析，譜 圖疊加、保留時(shí)間、峰積分、工作曲線，自動(dòng)進(jìn)樣分析等功能；6.2. 聯(lián)機(jī)指標(biāo)(選配)：甲基Hg,乙基Hg，無(wú)機(jī)Hg2+ (以Hg計(jì)各100ppt)的混 合形態(tài)標(biāo)準(zhǔn)溶液用HPLC-ICP-MS/MS系統(tǒng)在10分鐘內(nèi)可以達(dá)到完全分離，并 得出積分峰面積和保留時(shí)間等信息，各個(gè)Hg形態(tài)峰的信噪比S/N > 3 ,可提供 公開發(fā)表的文獻(xiàn);6.3. 聯(lián)機(jī)指標(biāo)（選配）：1.0ppbAsB、MMA、DMA、As（III）、As（V）等 5 種 As 形態(tài) 的混合

12、標(biāo)準(zhǔn)溶液可以用HPLC-ICP-MS在5分鐘內(nèi)全分離并得出積分峰面積和 保留時(shí)間等信息，各個(gè)As形態(tài)峰的信噪比S/N > 3 ,并提供公開發(fā)表文獻(xiàn)證 明。7 .配置要求7.1. ICP-MS/MS主機(jī)（包括進(jìn)樣系統(tǒng)，接口，9路質(zhì)量流量計(jì)，數(shù)字控制固態(tài)射頻 發(fā)生器，離軸離子透鏡，兩個(gè)完整的雙曲面四極桿，碰撞反應(yīng)池，同時(shí)雙通道 模式檢測(cè)器，機(jī)械泵和渦輪泵及其他必備工具和備件）；7.2. ICP-MS/MS工作站（包括電腦及激光打印機(jī)）；7.3. ICP-MS/MS儀器安裝及驗(yàn)收的必備附件（包括驗(yàn)收溶液包；儀器專用的工具 等）；7.4. 半導(dǎo)體制冷裝置（用于冷卻霧化室）；7.5. 進(jìn)口 20種

13、元素混合標(biāo)準(zhǔn)溶液；7.6. 進(jìn)口多元素內(nèi)標(biāo)混合溶液；7.7. 多元素調(diào)諧溶液；7.8. 進(jìn)口循環(huán)冷卻水系統(tǒng)；7.9. 自動(dòng)在線稀釋裝置；7.10. 高靈敏度屏蔽炬系統(tǒng)；7.11. 消耗品配件包（包含2年左右消耗品：含蠕動(dòng)泵進(jìn)樣管、內(nèi)標(biāo)管、廢液管各1 包、泵油、錐和透鏡清洗劑以及其它必須的消耗品）7.12. 除主機(jī)標(biāo)準(zhǔn)配置外需包含以下配件：備用鎂采樣錐及截取錐1套；備用霧化器 1套；泵油4 L；7.13. 自動(dòng)進(jìn)樣器；8 .技術(shù)服務(wù)8.1. 供應(yīng)商提供儀器的現(xiàn)場(chǎng)安裝調(diào)試并達(dá)到投標(biāo)書指標(biāo)要求的技術(shù)性能，并同時(shí)在 現(xiàn)場(chǎng)對(duì)用戶進(jìn)行操作培訓(xùn)。如果由于儀器本身原因而在六十天內(nèi)調(diào)試沒(méi)有通 過(guò)，供應(yīng)商必須更換一套新的相同型號(hào)或符