第4章材料X射線衍射與電子顯微(周玉)

1、1第一篇 材料X射線衍射分析第一章 X射線物理學基礎第二章 X射線衍射方向第三章 X射線衍射強度第四章 多晶體分析方法第五章 物相分析及點陣參數精確測定第六章 宏觀殘余應力的測定第七章 多晶體織構的測定2第四章 多晶體分析方法本章主要內容本章主要內容第一節(jié)第一節(jié) 德拜德拜- -謝樂法謝樂法第二節(jié)第二節(jié) 其他照相法簡介其他照相法簡介第三節(jié)第三節(jié) X射線衍射儀射線衍射儀3一、德拜花樣的愛瓦爾德圖解一、德拜花樣的愛瓦爾德圖解 多晶體中晶粒取向混亂分布，倒易矢量長度不等的倒多晶體中晶粒取向混亂分布，倒易矢量長度不等的倒易陣點易陣點(面間距不等的晶面面間距不等的晶面) 將分別落在以倒易原點將分別落在以倒

2、易原點O*為球心、為球心、倒易矢量長度為半徑的一系列同心球面上，稱這些球為倒易倒易矢量長度為半徑的一系列同心球面上，稱這些球為倒易 球，見圖球，見圖4-1 凡與反射球相截的倒易點對應凡與反射球相截的倒易點對應 的晶面均能產生反射，反射球的晶面均能產生反射，反射球 與每個倒易球面的交線是一個與每個倒易球面的交線是一個 圓，圓，衍射線構成若干個以衍射線構成若干個以O 為為 頂點、以入射線為軸線的圓錐頂點、以入射線為軸線的圓錐 面面，德拜花樣德拜花樣為為一系列一系列同心衍同心衍 射環(huán)或射環(huán)或一系列衍射弧段一系列衍射弧段圖圖4-1 粉末法的厄瓦爾德圖解粉末法的厄瓦爾德圖解 反射球O*第一節(jié) 德拜-謝樂

3、法4二、德拜相的攝照二、德拜相的攝照(一一) 相機、底片安裝及試樣相機、底片安裝及試樣 德拜相機如圖德拜相機如圖4-2所示，所示，X射線從光欄的中心進入，照射射線從光欄的中心進入，照射圓柱試樣后再進入承光管圓柱試樣后再進入承光管 相機為圓筒形暗盒，直徑一般為相機為圓筒形暗盒，直徑一般為 57.3mm或或114.6mm； 試樣長約試樣長約 10mm、直徑為、直徑為0.21.0mm，在曝，在曝 光過程中，試樣以相機軸為軸轉光過程中，試樣以相機軸為軸轉 動，以增加參與衍射晶粒數動，以增加參與衍射晶粒數 1. 光闌光闌 2. 外殼外殼 3. 試樣試樣 4. 承光管承光管 5. 熒光屏熒光屏 6. 鉛玻

4、璃鉛玻璃第一節(jié) 德拜-謝樂法圖圖4-2 德拜相機示意圖德拜相機示意圖5二、德拜相的攝照二、德拜相的攝照(一一) 相機、底片安裝及試樣相機、底片安裝及試樣 底片圍裝在相機殼內腔，安裝方法有底片圍裝在相機殼內腔，安裝方法有3種，見圖種，見圖4-31) 正裝法正裝法 X 射線從底片接口射入射線從底片接口射入，從中心孔射出，幾何關系，從中心孔射出，幾何關系 及計算簡單，及計算簡單，用于一般物相分析用于一般物相分析 2) 反裝法反裝法 X 射線從底片射線從底片中心孔中心孔 射入射入，從，從接口接口射出，譜線記錄較射出，譜線記錄較 全，底片收縮誤差小，全，底片收縮誤差小，適用于點適用于點 陣參數測定陣參數

5、測定 3) 偏裝法偏裝法 X 射線從底片射線從底片的兩個的兩個 孔射入、射出，可直接計算相機孔射入、射出，可直接計算相機 周長，能消除底片收縮等誤差，周長，能消除底片收縮等誤差， 是較常用的方法是較常用的方法圖圖4-3 底片安裝法底片安裝法正裝法正裝法反裝法反裝法偏裝法偏裝法第一節(jié) 德拜-謝樂法6二、德拜相的攝照二、德拜相的攝照(二二) 攝照規(guī)程的選擇攝照規(guī)程的選擇1) X 射線管陽極靶材射線管陽極靶材 一般原則為一般原則為Z靶靶 Z樣樣 ；若不能滿足時，；若不能滿足時， 選擇極限為選擇極限為Z靶靶 =Z樣樣 + 1；Z極小的樣品，選用極小的樣品，選用Cu或或Mo靶靶2) 濾片濾片 Z靶靶 4

6、0 時，時，Z濾濾 = Z靶靶 1； Z靶靶 40 時，時，Z濾濾 = Z靶靶 - 2 3) 管電壓管電壓 管電壓為管電壓為陽極靶陽極靶K系譜臨界激發(fā)電壓的系譜臨界激發(fā)電壓的35倍倍4) 管電流管電流 管電流管電流不能超過許用的最大管電流不能超過許用的最大管電流5) 曝光時間曝光時間 通常通過試驗確定通常通過試驗確定，因為曝光時間與試樣、相機，因為曝光時間與試樣、相機 及上述攝照規(guī)程的選擇等諸多因素有關。如用及上述攝照規(guī)程的選擇等諸多因素有關。如用Cu靶、小直靶、小直 徑相機拍攝徑相機拍攝Cu試樣，曝光時間為試樣，曝光時間為30min，若用，若用Co靶拍攝靶拍攝Fe 樣品，則需樣品，則需2h第

7、一節(jié) 德拜-謝樂法7第一節(jié) 德拜-謝樂法二、德拜相的攝照二、德拜相的攝照(二二) 攝照規(guī)程的選擇攝照規(guī)程的選擇 表表4-1為拍攝粉末相的常用數據為拍攝粉末相的常用數據 表表4-1 拍攝粉末相的常用數據拍攝粉末相的常用數據陽極靶陽極靶CrFeCoNiCuMoUK，kVU，kV濾片濾片 K 1, nm K 2, nm K , nm K , nm K, nm5.982025V0.2289700.2293610.2291000.2084870.2070207.102530Mn0.1936040.1939980.1937360.1756610.1743467.7130Fe0.1788970.179285

8、0.1790260.1620790.1608158.293035Co0.1657910.1661750.1659190.1500140.1488078.863540Ni0.1540560.1544400.1541840.1392220.13805920.05055Zr0.0709300.0713590.0710730.0632290.0619788三、德拜相的誤差及修正三、德拜相的誤差及修正(一一) 試樣吸收誤差試樣吸收誤差 試樣對試樣對X射線的吸收將使衍射線偏離理論位置。射線的吸收將使衍射線偏離理論位置。 X射線照射線照射到半徑為射到半徑為 的試樣，產生頂角為的試樣，產生頂角為4 的衍射圓錐

9、，底片上衍射的衍射圓錐，底片上衍射弧對的平均理論間距為弧對的平均理論間距為2L0。但由于試樣吸收，使衍射線弧對。但由于試樣吸收，使衍射線弧對 間距增大，且衍射線有一定寬度間距增大，且衍射線有一定寬度 b，見圖，見圖4-4 弧對外緣距離為弧對外緣距離為2L外緣外緣，則有，則有 2L0 = 2L外緣外緣 - 2 (4-1) 上式可用于修正試樣吸收引起的衍上式可用于修正試樣吸收引起的衍 射線的位置誤差射線的位置誤差圖圖4-4 試樣吸收誤差試樣吸收誤差 第一節(jié) 德拜-謝樂法9第一節(jié) 德拜-謝樂法三、德拜相的誤差及修正三、德拜相的誤差及修正(二二) 底片伸縮誤差底片伸縮誤差 由圖由圖4-5，利用弧對間距

10、，利用弧對間距2L可求出可求出掠射角掠射角 = (2L/2 R)90 ，但因相機精，但因相機精度、底片安裝及底片伸縮等原因，而度、底片安裝及底片伸縮等原因，而使使 角的計算出現誤差角的計算出現誤差底片有效周長底片有效周長C0的測量如圖的測量如圖4-6所示，可得所示，可得 C0 = A + B (4-2) 用用2L0與與C0可得較準確可得較準確 值值 (4-3) 式中，式中，K 值對于某一底片值對于某一底片 是恒定的是恒定的圖圖4-6 有效周長的測量有效周長的測量 圖圖4-5 德拜相機幾何關系德拜相機幾何關系 0002290LKLC10四、立方系物質德拜相的計算四、立方系物質德拜相的計算 在測量

11、計算之前，要判定底片安裝方法，并區(qū)分高角區(qū)在測量計算之前，要判定底片安裝方法，并區(qū)分高角區(qū)和低角區(qū)，計算步驟如下和低角區(qū)，計算步驟如下(參見圖參見圖4-7)1) 弧對標號弧對標號 如圖如圖4-7所示，從低角區(qū)起按所示，從低角區(qū)起按 遞增順序標遞增順序標1-1 、 2-2 、3-3 等等 2) 測量測量C0 在高低角區(qū)分別選一個在高低角區(qū)分別選一個 弧對，測量弧對，測量A和和B，用式，用式(4-2)計計 算算C0 (精確到精確到0.1mm) 3) 測量并計算弧對間距測量并計算弧對間距L0 測量各測量各 弧對間距弧對間距2L1、2L2、2L3等。低等。低 角區(qū)可直接測量，高角區(qū)弧對，角區(qū)可直接測量

12、，高角區(qū)弧對， 如如5-5 可改測可改測2L5 ，2L5= C0 2L5 , 用式用式(4-1)進行修正計算進行修正計算2L0圖圖4-7 德拜相的測量德拜相的測量 第一節(jié) 德拜-謝樂法11第一節(jié) 德拜-謝樂法四、立方系物質德拜相的計算四、立方系物質德拜相的計算4) 計算計算 用式用式(4-3)計算計算2L0系列對應的系列對應的 值系列值系列5) 計算計算d 用布拉格方程計算用布拉格方程計算 值系列對應的值系列對應的d系列。若高角系列。若高角區(qū)區(qū)K 雙線能分開，雙線能分開， 取相應的數值；否則取雙線的權重平取相應的數值；否則取雙線的權重平均值均值6) 估計各衍射線的相對強度估計各衍射線的相對強度

13、I/I1 I1 是指最強線的強度，是指最強線的強度，I為為任一線的強度。目測將最強線強度定為任一線的強度。目測將最強線強度定為100(即即100%)，其，其余可定為余可定為90、80、50等等7) 查卡片查卡片 根據根據d系列和系列和I系列，對照物質標準卡片。如果這系列，對照物質標準卡片。如果這兩個系列均與卡片符合很好，則可確定物相。其中兩個系列均與卡片符合很好，則可確定物相。其中d 系列系列是物相鑒定的主要依據是物相鑒定的主要依據8) 標注衍射線條指數標注衍射線條指數 根據卡片中根據卡片中d 系列對應的晶面族指數系列對應的晶面族指數HKL標注在相應的衍射線上標注在相應的衍射線上9) 計算計算

14、a 由立方系晶面間距公式有，由立方系晶面間距公式有，222LKHda12一、對稱聚焦照相法一、對稱聚焦照相法 如圖如圖4-8所示，該法要求光源、試樣表面和聚焦點在同一所示，該法要求光源、試樣表面和聚焦點在同一聚焦圓上，此圓即為相機內腔。試樣由塊狀多晶磨制或在硬聚焦圓上，此圓即為相機內腔。試樣由塊狀多晶磨制或在硬 紙板上粘涂粉末而成。發(fā)散的紙板上粘涂粉末而成。發(fā)散的 X射線射線 照射到試樣照射到試樣(AB弧弧)，反射線必聚焦在，反射線必聚焦在 F 或或 F 點。點。 對稱聚焦法有利于攝取高對稱聚焦法有利于攝取高 角反射線，角反射線， 曝光時間短，分辨本領較高，曝光時間短，分辨本領較高，故常用故常

15、用 于點陣參數精確測定于點陣參數精確測定 1-光闌光闌 2-照相機壁照相機壁 3-底片底片 4-試樣試樣圖圖4-8 對稱聚焦照相法對稱聚焦照相法 第二節(jié) 其他照相法簡介13第二節(jié) 其他照相法簡介二、背射平板照相法二、背射平板照相法(針孔法針孔法) 平板照相法分為透射和背射兩種，圖平板照相法分為透射和背射兩種，圖4-9為背射平板照相為背射平板照相法示意圖，由于聚焦圓直徑很大，一般采用平面試樣。該法法示意圖，由于聚焦圓直徑很大，一般采用平面試樣。該法要求要求試樣、光闌和衍射環(huán)試樣、光闌和衍射環(huán)A與與B四點共圓，且試樣與圓相切四點共圓，且試樣與圓相切 其衍射花樣由同心衍射環(huán)組其衍射花樣由同心衍射環(huán)組

16、 成成，由于衍射環(huán)太少，不適由于衍射環(huán)太少，不適 用于物相分析，用于研究晶用于物相分析，用于研究晶 粒大小、擇優(yōu)取向、晶體完粒大小、擇優(yōu)取向、晶體完 整性，及點陣參數精確測定整性，及點陣參數精確測定 由圖由圖4-9由以下幾何關系由以下幾何關系 (4-4) (4-5)2tan( DL圖圖4-9 背射平板照相法背射平板照相法 )2(tan2 Db14三、晶體單色器三、晶體單色器 使單晶某個反射能力強的晶面平行于外表面，調整入射使單晶某個反射能力強的晶面平行于外表面，調整入射線方向而滿足布拉格條件，能反射出強的單色光，彎曲單色線方向而滿足布拉格條件，能反射出強的單色光，彎曲單色 晶體的反射效率較高，

17、原理見圖晶體的反射效率較高，原理見圖 4-10。從光源。從光源S發(fā)射的發(fā)射的X光，照射光，照射 照射到彎曲單色晶體照射到彎曲單色晶體ABC各點，各點， 反射線將會聚與焦點反射線將會聚與焦點F 目前目前 X射線衍射儀已普遍使用石射線衍射儀已普遍使用石 墨彎晶單色器，其反射效率高，墨彎晶單色器，其反射效率高， 可獲得背底極低的衍射圖可獲得背底極低的衍射圖圖圖4-10 彎曲晶體的衍射幾何彎曲晶體的衍射幾何 彎曲晶體彎曲晶體聚焦圓聚焦圓第二節(jié) 其他照相法簡介15l 20世紀世紀50年代以前，年代以前，X射線衍射分析基本上是利用底片記射線衍射分析基本上是利用底片記錄衍射花樣，即各種照相技術錄衍射花樣，即

18、各種照相技術l 目前，目前，X射線衍射儀已基本取代了照相法，廣泛應用于諸射線衍射儀已基本取代了照相法，廣泛應用于諸多研究領域多研究領域l 衍射儀測量具有方便、快速、準確等優(yōu)點，它與計算機結衍射儀測量具有方便、快速、準確等優(yōu)點，它與計算機結合，使其操作、數據測量和處理大體上實現了自動化合，使其操作、數據測量和處理大體上實現了自動化l X 射線衍射儀主要由射線衍射儀主要由 X射線發(fā)生器、測角儀、輻射探測器、射線發(fā)生器、測角儀、輻射探測器、記錄單元和自動控制單元等組成，其中測角儀是儀器的核記錄單元和自動控制單元等組成，其中測角儀是儀器的核心部件心部件第三節(jié) X射線衍射儀16一、一、 X射線測角儀射線

19、測角儀(一一) 概述概述 圖圖4-12是測角儀示意圖，平板試樣是測角儀示意圖，平板試樣D安裝在可繞軸安裝在可繞軸O旋轉旋轉的試樣臺的試樣臺H上，上，S處發(fā)射的一束發(fā)散處發(fā)射的一束發(fā)散X射線照射到試樣上時，射線照射到試樣上時， 滿足布拉格條件的晶面，其反射滿足布拉格條件的晶面，其反射 線形成一收斂光束，計數管線形成一收斂光束，計數管C 連連 同狹縫同狹縫F 隨支架隨支架E 繞繞O旋轉，在旋轉，在 適當位置接收反射線。測角儀保適當位置接收反射線。測角儀保 持試樣持試樣-計數管聯(lián)動，即計數管聯(lián)動，即樣品轉樣品轉 過過 ，計數管恒轉過，計數管恒轉過2 圖圖4-12 測角儀構造示意圖測角儀構造示意圖 G

20、-測角儀圓測角儀圓 S-X射線源射線源 D-試樣試樣H-試樣臺試樣臺 F-接受狹縫接受狹縫 C-計數管計數管E-支架支架 K-刻度尺刻度尺第三節(jié) X射線衍射儀17一、一、 X射線測角儀射線測角儀(一一) 概述概述 當試樣和計數管連續(xù)轉動時，衍射儀將自動繪出衍射強當試樣和計數管連續(xù)轉動時，衍射儀將自動繪出衍射強度隨度隨2 的變化曲線的變化曲線(稱衍射圖稱衍射圖)，見圖，見圖4-13圖圖4-13 鋁粉的衍射圖鋁粉的衍射圖(CuK 照射照射) 第三節(jié) X射線衍射儀18一、一、 X射線測角儀射線測角儀(二二) 試樣試樣 粉末試樣壓在樣品框內，其粉末試樣壓在樣品框內，其粒度約為微米至幾十微米粒度約為微米

21、至幾十微米，過粗時衍射強度不穩(wěn)定，過細時使衍射線寬化。也可采用塊過粗時衍射強度不穩(wěn)定，過細時使衍射線寬化。也可采用塊狀樣品，照射面需磨平浸蝕狀樣品，照射面需磨平浸蝕(三三) 光學布置光學布置 如圖如圖4-14，S為線焦點；為線焦點；K為發(fā)散狹縫，為發(fā)散狹縫，L為防散射狹縫，為防散射狹縫，F為接收狹縫，作用是為接收狹縫，作用是限制射線的水平發(fā)散度限制射線的水平發(fā)散度。S1、S2為為梭為為梭拉狹縫，用以拉狹縫，用以限制射線在豎直方向的發(fā)散度限制射線在豎直方向的發(fā)散度第三節(jié) X射線衍射儀圖圖4-14 臥式測角儀的光學布置臥式測角儀的光學布置19一、一、 X射線測角儀射線測角儀(四四) 衍射幾何衍射幾

22、何 發(fā)散的入射線和平板試樣的相對位置，使衍射線剛好在發(fā)散的入射線和平板試樣的相對位置，使衍射線剛好在測角儀圓周上收斂。如圖測角儀圓周上收斂。如圖4-15所示，為使聚焦良好的所示，為使聚焦良好的X射線射線進入計數管，進入計數管，要求要求X射線管焦斑射線管焦斑S、 試樣被照射表面試樣被照射表面MON、 衍射線會聚點衍射線會聚點F，必須位于同一聚焦，必須位于同一聚焦 圓上圓上 聚焦圓直徑隨聚焦圓直徑隨 改變而變化，改變而變化， 較小較小 時其直徑較大時其直徑較大 工作時工作時試樣和探測器保持試樣和探測器保持 -2 聯(lián)動聯(lián)動， 在在X射線照射的大量晶粒中，射線照射的大量晶粒中，只有平只有平 行于試樣表

23、面的晶面行于試樣表面的晶面(HKL)才可能發(fā)才可能發(fā) 生衍射生衍射圖圖4-15 測角儀的聚焦幾何測角儀的聚焦幾何 聚焦圓測角儀圓第三節(jié) X射線衍射儀20一、一、 X射線測角儀射線測角儀(五五) 彎晶單色器彎晶單色器 測角儀與晶體單色器聯(lián)用，能更好地消除測角儀與晶體單色器聯(lián)用，能更好地消除K 線，降低因線，降低因連續(xù)連續(xù)X射線及熒光輻射而產生的背底，現普遍使用反射本領射線及熒光輻射而產生的背底，現普遍使用反射本領很強的石墨彎晶單色器很強的石墨彎晶單色器 如圖如圖4-15，試樣產生的衍射線入，試樣產生的衍射線入 射到彎曲晶體上，調節(jié)單晶至合射到彎曲晶體上，調節(jié)單晶至合 適的方位即可產生二次衍射，衍

24、適的方位即可產生二次衍射，衍 射線在進入計數管中射線在進入計數管中 使用單色器時，偏振因數應改為使用單色器時，偏振因數應改為 ( 1 + cos22 cos22 )/2，其中，其中2 是是 單色晶體的衍射角單色晶體的衍射角1-測角儀圓測角儀圓 2-試樣試樣 3-一次聚焦圓一次聚焦圓 4-單色晶體單色晶體 5-二次聚焦圓二次聚焦圓 6-計數管計數管圖圖4-16 測角儀的聚焦幾何測角儀的聚焦幾何 第三節(jié) X射線衍射儀21二、探測與記錄系統(tǒng)二、探測與記錄系統(tǒng)(一一) 探測器探測器1) 正比計數器正比計數器(PC) 如圖如圖4-17，金屬圓筒陰極和金屬絲陽極，金屬圓筒陰極和金屬絲陽極 間加油間加油(6

25、00900V) 的電壓，玻璃外殼內充惰性氣體，窗口的電壓，玻璃外殼內充惰性氣體，窗口 由云母或鈹等低吸收系數材料制成由云母或鈹等低吸收系數材料制成 正比計數器輸出的脈沖峰正比計數器輸出的脈沖峰 值與所吸收的光子能量成值與所吸收的光子能量成 正比，強度測定較可靠正比，強度測定較可靠 反應快、能量分辨率高、反應快、能量分辨率高、 背底脈沖低、計數率高、背底脈沖低、計數率高、 性能穩(wěn)定；但對溫度比較性能穩(wěn)定；但對溫度比較 敏感，電壓穩(wěn)定度要求高敏感，電壓穩(wěn)定度要求高圖圖4-17 正比計數管及其基本電路正比計數管及其基本電路 第三節(jié) X射線衍射儀22二、探測與記錄系統(tǒng)二、探測與記錄系統(tǒng)(一一) 探測器

26、探測器2) 閃爍計數器閃爍計數器(SC) 如圖如圖4-18， 閃爍計數器主要由磷光體和閃爍計數器主要由磷光體和 光電倍增管組成。磷光體一般為加入約光電倍增管組成。磷光體一般為加入約0.5% 的鉈活化的碘的鉈活化的碘 化鈉單晶體；光電倍增管有光敏陰極和化鈉單晶體；光電倍增管有光敏陰極和10個聯(lián)極，每個聯(lián)個聯(lián)極，每個聯(lián) 極遞增極遞增100V正電壓，最后一個聯(lián)極與測量電路連接正電壓，最后一個聯(lián)極與測量電路連接 晶體吸收一個晶體吸收一個 X光子，便可在輸出端收集大量電子，從而光子，便可在輸出端收集大量電子，從而 產生電壓脈沖產生電壓脈沖 優(yōu)點是分辨時間短，計優(yōu)點是分辨時間短，計 數效率高；缺點是背底數

27、效率高；缺點是背底 脈沖脈沖(熱噪聲熱噪聲)較高，晶較高，晶 體易受潮而失效體易受潮而失效圖圖4-18 閃爍計數管構造示意圖閃爍計數管構造示意圖 第三節(jié) X射線衍射儀23二、探測與記錄系統(tǒng)二、探測與記錄系統(tǒng)(二二) 計數測量的主要電路計數測量的主要電路 計數器主要功能是將計數器主要功能是將X射線的能量轉換為電脈沖信號，射線的能量轉換為電脈沖信號，再將輸出的電脈沖信號轉變?yōu)椴僮髡吣苤苯幼x取或記錄的數再將輸出的電脈沖信號轉變?yōu)椴僮髡吣苤苯幼x取或記錄的數 據，計數測量電路框圖如圖據，計數測量電路框圖如圖4-18 所示所示 以下簡要介紹其主要部分以下簡要介紹其主要部分脈沖脈沖 高度分析器、定標器和計數

28、率計高度分析器、定標器和計數率計 的工作原理的工作原理 圖圖4-18 測量電路框圖測量電路框圖 第三節(jié) X射線衍射儀24二、探測與記錄系統(tǒng)二、探測與記錄系統(tǒng)(二二) 計數測量的主要電路計數測量的主要電路1) 脈沖高度分析器脈沖高度分析器 由線性放大器、下限甄別電路、上限甄由線性放大器、下限甄別電路、上限甄 別電路和反符合電路組成。用以消除衍射分析不需要的干別電路和反符合電路組成。用以消除衍射分析不需要的干 擾脈沖，從而降低背底及提高峰背比擾脈沖，從而降低背底及提高峰背比2) 定標器定標器 定標器是對設定時間內的輸入脈沖技術的電路。定標器是對設定時間內的輸入脈沖技術的電路。 有定時計數和定數計數

29、有定時計數和定數計數2種方式，測量脈沖的總數越大，測種方式，測量脈沖的總數越大，測 量誤差越小，故比較相對強度時采用定數計數較合理，但量誤差越小，故比較相對強度時采用定數計數較合理，但 為節(jié)省分析時間和使用方便，以使用定時計數為多為節(jié)省分析時間和使用方便，以使用定時計數為多3) 計數率計計數率計 由脈沖整形電路、由脈沖整形電路、RC積分電路和電壓測量電路積分電路和電壓測量電路 組成。其作用是把輸入的脈沖信號轉換為直流電壓輸出，組成。其作用是把輸入的脈沖信號轉換為直流電壓輸出， 再由記錄儀會出強度隨衍射角變化的曲線再由記錄儀會出強度隨衍射角變化的曲線(衍射圖衍射圖)。時間常。時間常 數要合理設定

30、，否則會使衍射峰形狀畸變和峰位滯后數要合理設定，否則會使衍射峰形狀畸變和峰位滯后第三節(jié) X射線衍射儀25三、三、X射線衍射儀的常規(guī)測量射線衍射儀的常規(guī)測量(一一) 衍射強度的測量衍射強度的測量1) 連續(xù)掃描連續(xù)掃描 計數器與計數率計連接計數器與計數率計連接，測角儀以測角儀以 -2 聯(lián)動聯(lián)動， 選定合適的角速度，從較低的選定合適的角速度，從較低的2 掃描至所需的角度，以較掃描至所需的角度，以較 快的速度獲得一幅玩真的衍射圖，結果見下圖所示快的速度獲得一幅玩真的衍射圖，結果見下圖所示 連續(xù)掃描的測量精度受掃描速度和時間常數的影響。連續(xù)掃描的測量精度受掃描速度和時間常數的影響。該法該法 常用于物相定

31、性分析或全譜測量常用于物相定性分析或全譜測量。第三節(jié) X射線衍射儀圖圖4-13 鋁粉的衍射圖鋁粉的衍射圖(CuK 照射照射) 26三、三、X射線衍射儀的常規(guī)測量射線衍射儀的常規(guī)測量(一一) 衍射強度的測量衍射強度的測量2) 步進掃描步進掃描 計數器與定標器連接計數器與定標器連接，按設定的步進寬度、步，按設定的步進寬度、步 進時間，測量各進時間，測量各2 角對應的衍射強度，測量結果見圖角對應的衍射強度，測量結果見圖4-21 步進掃描不使用計數率計，無滯后效應，測量精度較高，步進掃描不使用計數率計，無滯后效應，測量精度較高， 步進寬度和步進時間是決定測定精度的重要參數，步進寬度和步進時間是決定測定精度的重要參