X線頭影測(cè)量分析

1、LOGOX線頭影測(cè)量分析線頭影測(cè)量分析Cephalometrics Analysis Company Logo簡介簡介v 19341934年年Hofrath and Broadbent Hofrath and Broadbent 提出提出v 我國于我國于2020世紀(jì)世紀(jì)6060年代初運(yùn)用于臨床年代初運(yùn)用于臨床v 通過測(cè)量通過測(cè)量X X 線頭顱定位照相所得的影像線頭顱定位照相所得的影像, ,對(duì)牙頜、對(duì)牙頜、顱面各標(biāo)志點(diǎn)描繪出一定的線角進(jìn)行測(cè)量分析顱面各標(biāo)志點(diǎn)描繪出一定的線角進(jìn)行測(cè)量分析, ,從從而了解牙頜、顱面軟硬組織的結(jié)構(gòu)而了解牙頜、顱面軟硬組織的結(jié)構(gòu), ,使對(duì)牙頜、顱使對(duì)牙頜、顱面的檢查診斷

2、由表面形態(tài)深入到內(nèi)部的骨骼結(jié)構(gòu)面的檢查診斷由表面形態(tài)深入到內(nèi)部的骨骼結(jié)構(gòu)中去中去, ,它是正畸臨床診斷及治療設(shè)計(jì)的一種重要手它是正畸臨床診斷及治療設(shè)計(jì)的一種重要手段段. .Company LogoCompany Logo一、主要應(yīng)用一、主要應(yīng)用v研究顱面生長發(fā)育研究顱面生長發(fā)育v牙頜、顱面畸形的診斷分析牙頜、顱面畸形的診斷分析v確定錯(cuò)確定錯(cuò)牙合牙合畸形的矯治計(jì)劃畸形的矯治計(jì)劃v研究矯治中，矯治后的變化研究矯治中，矯治后的變化v外科正畸的診斷和矯治設(shè)計(jì)外科正畸的診斷和矯治設(shè)計(jì)v下頜功能分析下頜功能分析Company Logo1.研究顱面生長發(fā)育研究顱面生長發(fā)育v不同個(gè)體同一年齡段不同個(gè)體同一年齡

3、段橫向研究顱面發(fā)育橫向研究顱面發(fā)育v同一個(gè)體各年齡段同一個(gè)體各年齡段-縱向研究顱面發(fā)育縱向研究顱面發(fā)育 明確了顱面生長發(fā)育機(jī)制，快速生長期的年齡、明確了顱面生長發(fā)育機(jī)制，快速生長期的年齡、及對(duì)顱面生長發(fā)育的預(yù)測(cè)。及對(duì)顱面生長發(fā)育的預(yù)測(cè)。Company Logo通過通過X線對(duì)線對(duì)正常牙合正常牙合人人的顱面結(jié)構(gòu)進(jìn)行分析的顱面結(jié)構(gòu)進(jìn)行分析得出正常牙合的各得出正常牙合的各項(xiàng)測(cè)量參考標(biāo)準(zhǔn)項(xiàng)測(cè)量參考標(biāo)準(zhǔn)作為診斷分析作為診斷分析的基礎(chǔ)的基礎(chǔ)2.牙頜、顱面畸形的診斷分析牙頜、顱面畸形的診斷分析Company Logo3.確定錯(cuò)確定錯(cuò)牙合牙合畸形的矯治計(jì)劃畸形的矯治計(jì)劃對(duì)比對(duì)比分析出錯(cuò)牙合畸形的機(jī)制正常牙頜正常

4、牙頜顱面關(guān)系顱面關(guān)系個(gè)體牙頜個(gè)體牙頜顱面結(jié)構(gòu)顱面結(jié)構(gòu)確定牙和頜位的理想位置，制定可行的矯治方案Company Logo4.研究矯治中及矯治后牙頜、顱面的變化研究矯治中及矯治后牙頜、顱面的變化治療前治療前正畸治療正畸治療治療中治療中,矯治后矯治后對(duì)比對(duì)比Company Logo5.外科正畸的診斷和矯治設(shè)計(jì)外科正畸的診斷和矯治設(shè)計(jì)v通過通過X線對(duì)顱面畸形患者進(jìn)行分析線對(duì)顱面畸形患者進(jìn)行分析v得出畸形的機(jī)制得出畸形的機(jī)制v確定部位、方法及需要移動(dòng)或切除的部位確定部位、方法及需要移動(dòng)或切除的部位Company Logo10二、頭顱側(cè)面定位二、頭顱側(cè)面定位X片的拍照原理和方法片的拍照原理和方法v 定位原

5、理：定位原理：1 1、通過定位儀上的左右耳塞與眶點(diǎn)指針三者構(gòu)成的眼耳平面與、通過定位儀上的左右耳塞與眶點(diǎn)指針三者構(gòu)成的眼耳平面與地面平行。地面平行。2 2、自然頭位法自然頭位法Company Logov頭顱定位的關(guān)鍵在于：定位儀上左右耳塞與眶點(diǎn)頭顱定位的關(guān)鍵在于：定位儀上左右耳塞與眶點(diǎn)指針，三者構(gòu)成一與地面平行的恒定平面。指針，三者構(gòu)成一與地面平行的恒定平面。定位定位Company Logo 患者體位：自然放松患者體位：自然放松 Company Logo投照距離投照距離 X X線球管至患者正中矢狀面應(yīng)不小于線球管至患者正中矢狀面應(yīng)不小于150cm150cm患者正中矢狀面至膠片約患者正中矢狀面至

6、膠片約1 15cm5cmX X線中心線與頭顱定位儀左右耳塞成一直線線中心線與頭顱定位儀左右耳塞成一直線 X線照相線照相Company LogoCompany Logo2.頭影圖的描繪頭影圖的描繪v 傳統(tǒng)描圖工具：傳統(tǒng)描圖工具： 觀片燈、硫酸紙、毫米尺、半圓儀及硬質(zhì)尖觀片燈、硫酸紙、毫米尺、半圓儀及硬質(zhì)尖銳的鉛筆等銳的鉛筆等v X線頭影圖像上，因頭顱本身厚度或個(gè)體兩側(cè)結(jié)線頭影圖像上，因頭顱本身厚度或個(gè)體兩側(cè)結(jié)構(gòu)不完全對(duì)稱而出現(xiàn)的左右影像不完全重合構(gòu)不完全對(duì)稱而出現(xiàn)的左右影像不完全重合按其平均中點(diǎn)來作描繪Company LogoCompany Logo17頭影圖的描繪頭影圖的描繪Company L

7、ogo傳統(tǒng)傳統(tǒng)X線片線片數(shù)字化數(shù)字化X線片線片Company Logo 傳統(tǒng)手描圖傳統(tǒng)手描圖 數(shù)字化描圖數(shù)字化描圖Company Logo常用頭影測(cè)量標(biāo)志點(diǎn)常用頭影測(cè)量標(biāo)志點(diǎn)v標(biāo)志點(diǎn)：用來構(gòu)成一些平面及測(cè)量內(nèi)容的點(diǎn)標(biāo)志點(diǎn)：用來構(gòu)成一些平面及測(cè)量內(nèi)容的點(diǎn)1.解剖的，真正代表顱骨的解剖結(jié)構(gòu)解剖的，真正代表顱骨的解剖結(jié)構(gòu)2.引伸的，如兩測(cè)量平面相交的一個(gè)標(biāo)志點(diǎn)引伸的，如兩測(cè)量平面相交的一個(gè)標(biāo)志點(diǎn)定點(diǎn)準(zhǔn)確才能獲得相應(yīng)準(zhǔn)確的頭影測(cè)量分析結(jié)果！Company Logo標(biāo)志點(diǎn)標(biāo)志點(diǎn) 硬組織測(cè)量標(biāo)志點(diǎn) 軟組織測(cè)量標(biāo)志點(diǎn)Company Logo1、硬組織測(cè)量標(biāo)志點(diǎn)、硬組織測(cè)量標(biāo)志點(diǎn)1.1.顱部標(biāo)志點(diǎn)（顱部標(biāo)志點(diǎn)

8、（5 5個(gè)）個(gè)）蝶鞍點(diǎn)（蝶鞍點(diǎn)（S S）鼻根點(diǎn)（鼻根點(diǎn)（N N）機(jī)械耳點(diǎn)機(jī)械耳點(diǎn)(P)(P)顱底點(diǎn)（顱底點(diǎn)（BaBa）BoltonBolton點(diǎn)（點(diǎn)（BoBo）Company Logo顱部標(biāo)志點(diǎn)（5個(gè)）鼻根點(diǎn)（鼻根點(diǎn)（N N）：鼻額縫的最前點(diǎn)）：鼻額縫的最前點(diǎn)蝶鞍點(diǎn)（蝶鞍點(diǎn)（S S）：蝶鞍影像的中心）：蝶鞍影像的中心點(diǎn)點(diǎn)耳點(diǎn)（耳點(diǎn)（PoPo）：）： 機(jī)械耳點(diǎn)機(jī)械耳點(diǎn)-定位儀耳塞定位儀耳塞影像的最上點(diǎn)影像的最上點(diǎn) 解剖耳點(diǎn)解剖耳點(diǎn)-骨性外耳道骨性外耳道影像的最上點(diǎn)影像的最上點(diǎn)顱底點(diǎn)（顱底點(diǎn)（BaBa）：枕骨大孔前緣）：枕骨大孔前緣中點(diǎn)中點(diǎn)BoltonBolton點(diǎn)（點(diǎn)（BoBo）：枕骨髁突后）：

9、枕骨髁突后切跡之最凹點(diǎn)切跡之最凹點(diǎn)Company Logo定點(diǎn)S (Sella 蝶鞍中心點(diǎn)蝶鞍中心點(diǎn))Company Logo定點(diǎn)N (Nasion 鼻根點(diǎn)鼻根點(diǎn))：鼻額縫最前點(diǎn)：鼻額縫最前點(diǎn)Company Logo定點(diǎn)P( Porion耳點(diǎn)耳點(diǎn) ）：機(jī)械耳點(diǎn)）：機(jī)械耳點(diǎn)Company Logo定點(diǎn)顱底點(diǎn)顱底點(diǎn)( Ba,basion ）枕骨大孔前緣中點(diǎn)）枕骨大孔前緣中點(diǎn)Company Logo定點(diǎn)Bolton點(diǎn)：枕骨髁突后切跡最凹點(diǎn)點(diǎn)：枕骨髁突后切跡最凹點(diǎn)Company Logo硬組織測(cè)量標(biāo)志點(diǎn)硬組織測(cè)量標(biāo)志點(diǎn)2.2.上頜標(biāo)志點(diǎn)（上頜標(biāo)志點(diǎn)（7 7個(gè)）個(gè)）眶點(diǎn)（眶點(diǎn)（OrOr）：眶下緣最下點(diǎn)）

10、：眶下緣最下點(diǎn)翼上頜裂點(diǎn)（翼上頜裂點(diǎn)（PtmPtm）：翼上頜裂影像的最下點(diǎn)）：翼上頜裂影像的最下點(diǎn)前鼻棘點(diǎn)（前鼻棘點(diǎn)（ANSANS）：前鼻棘的尖端）：前鼻棘的尖端后鼻棘點(diǎn)（后鼻棘點(diǎn)（PNSPNS）：硬腭后部骨棘之尖）：硬腭后部骨棘之尖上齒槽上齒槽座點(diǎn)（座點(diǎn)（A A）：前鼻棘與上齒槽緣間的最凹點(diǎn)）：前鼻棘與上齒槽緣間的最凹點(diǎn)上齒槽上齒槽緣點(diǎn)（緣點(diǎn)（SprSpr）：上）：上牙槽突的最前下點(diǎn)牙槽突的最前下點(diǎn)上中切牙點(diǎn)（上中切牙點(diǎn)（U1U1）：上中切牙切緣之最前點(diǎn)）：上中切牙切緣之最前點(diǎn)Company Logo眶點(diǎn)（眶點(diǎn)（Or）：眶下緣最）：眶下緣最下點(diǎn)下點(diǎn)翼上頜裂點(diǎn)（翼上頜裂點(diǎn)（Ptm）：）：翼上頜

11、裂影像的最下翼上頜裂影像的最下點(diǎn)點(diǎn)前鼻棘點(diǎn)（前鼻棘點(diǎn)（ANS）：前）：前鼻棘的尖端鼻棘的尖端上頜標(biāo)志點(diǎn)（上頜標(biāo)志點(diǎn)（7 7個(gè)）個(gè)）Company Logo上頜標(biāo)志點(diǎn)（上頜標(biāo)志點(diǎn)（6 6個(gè)）個(gè)）后鼻棘點(diǎn)（后鼻棘點(diǎn)（PNS）：）：硬腭后部骨棘之尖硬腭后部骨棘之尖上齒槽座點(diǎn)（上齒槽座點(diǎn)（A）：）：前鼻棘與上齒槽緣前鼻棘與上齒槽緣間的最凹點(diǎn)間的最凹點(diǎn)上齒槽緣點(diǎn)（上齒槽緣點(diǎn)（Spr）上上牙槽突的最前下牙槽突的最前下點(diǎn)點(diǎn)上中切牙點(diǎn)（上中切牙點(diǎn)（U1）：）：上中切牙切緣之最上中切牙切緣之最前點(diǎn)前點(diǎn)Company LogoOr (orbitale Or (orbitale 眶點(diǎn)眶點(diǎn)) ) 眶下緣最下點(diǎn)眶下緣最

12、下點(diǎn)Company Logo翼上頜裂點(diǎn)（翼上頜裂點(diǎn)（Ptm）：翼上頜裂輪廓最下點(diǎn)）：翼上頜裂輪廓最下點(diǎn)Company Logo前鼻棘（前鼻棘（ANS）：前鼻棘之尖端）：前鼻棘之尖端Company Logo后鼻棘（后鼻棘（PNSPNS）：硬腭后部骨棘之尖）：硬腭后部骨棘之尖Company Logo上齒槽緣點(diǎn)（上齒槽緣點(diǎn)（SprSpr）：上牙槽突的最前下點(diǎn)：上牙槽突的最前下點(diǎn)Company Logo上齒槽座點(diǎn)上齒槽座點(diǎn)(A)(A)：前鼻棘與上齒槽緣間的最凹點(diǎn)：前鼻棘與上齒槽緣間的最凹點(diǎn)Company LogoUI (Upper incisorUI (Upper incisor上中切牙切端上中切牙切

13、端) ) Company Logo注意：由于骨密度較低，由于骨密度較低，ANS點(diǎn)和點(diǎn)和A點(diǎn)的定位較困難點(diǎn)的定位較困難Company Logo3.3.下頜標(biāo)志點(diǎn)下頜標(biāo)志點(diǎn)(10(10個(gè)）個(gè)）髁頂點(diǎn)（髁頂點(diǎn)（CoCo）：髁突影像最上點(diǎn)）：髁突影像最上點(diǎn)關(guān)節(jié)點(diǎn)（關(guān)節(jié)點(diǎn)（Ar):Ar):顱底下緣與下頜髁突頸后緣之交點(diǎn)顱底下緣與下頜髁突頸后緣之交點(diǎn)下頜角點(diǎn)（下頜角點(diǎn)（GoGo）：下頜角后下點(diǎn)）：下頜角后下點(diǎn)頦下點(diǎn)（頦下點(diǎn)（MeMe）：頦部之最下點(diǎn)）：頦部之最下點(diǎn)頦前點(diǎn)（頦前點(diǎn)（PogPog）：頦部之最前點(diǎn)）：頦部之最前點(diǎn)頦頂點(diǎn)（頦頂點(diǎn)（GnGn）：頦下點(diǎn)與頦前點(diǎn)之中點(diǎn)）：頦下點(diǎn)與頦前點(diǎn)之中點(diǎn)下齒槽座點(diǎn)（

14、下齒槽座點(diǎn)（B B）：頦前點(diǎn)與下齒槽緣之間的凹點(diǎn)）：頦前點(diǎn)與下齒槽緣之間的凹點(diǎn)下齒槽緣點(diǎn)（下齒槽緣點(diǎn)（IdId）：下牙槽突的最前上點(diǎn)）：下牙槽突的最前上點(diǎn)下中切牙點(diǎn)（下中切牙點(diǎn)（L1L1）：下中切牙切緣之最前點(diǎn)）：下中切牙切緣之最前點(diǎn) D D點(diǎn)點(diǎn) : :下頜體骨性聯(lián)合部之中心點(diǎn)下頜體骨性聯(lián)合部之中心點(diǎn)Company Logo髁頂點(diǎn)髁頂點(diǎn)(Co):髁突最上點(diǎn)髁突最上點(diǎn)Company Logo關(guān)節(jié)點(diǎn)（關(guān)節(jié)點(diǎn)（Ar):顱底下緣與下頜髁突頸后緣之交點(diǎn)顱底下緣與下頜髁突頸后緣之交點(diǎn)Company LogoGo (Go (下頜角點(diǎn)下頜角點(diǎn)) ) ：下頜角的后下點(diǎn)，下頜支平面與下：下頜角的后下點(diǎn)，下頜支平面

15、與下頜角平面交角之分角線與下頜角的交點(diǎn)頜角平面交角之分角線與下頜角的交點(diǎn)Company LogoPo (Po (頦前點(diǎn)頦前點(diǎn)) )：頦部最突點(diǎn)：頦部最突點(diǎn)Company Logo下齒槽緣點(diǎn)（下齒槽緣點(diǎn)（Id）：下牙槽突的最前上點(diǎn)）：下牙槽突的最前上點(diǎn)Company Logo下齒槽座點(diǎn)下齒槽座點(diǎn)(B)(B)頦前點(diǎn)與下齒槽緣之間的凹點(diǎn)頦前點(diǎn)與下齒槽緣之間的凹點(diǎn)Company Logo下中切牙切端下中切牙切端(LI)(LI)Company Logo頦下點(diǎn)（頦下點(diǎn)（MeMe）：頦部之最下點(diǎn)）：頦部之最下點(diǎn)Company Logo頦頂點(diǎn)頦頂點(diǎn)(Gn)(Gn) : :頦前點(diǎn)與頦下點(diǎn)之中點(diǎn)頦前點(diǎn)與頦下點(diǎn)之中

16、點(diǎn)Company LogoD D點(diǎn)點(diǎn) : :下頜體骨性聯(lián)合部之中心點(diǎn)下頜體骨性聯(lián)合部之中心點(diǎn)Company Logo軟組織測(cè)量標(biāo)志點(diǎn)（軟組織測(cè)量標(biāo)志點(diǎn)（1212個(gè)）個(gè)）v 額點(diǎn)（額點(diǎn)（G G）：額部之最前點(diǎn)）：額部之最前點(diǎn)v 眼點(diǎn)（眼點(diǎn)（E):E):瞼裂的皉點(diǎn)瞼裂的皉點(diǎn)v 軟組織鼻根點(diǎn)（軟組織鼻根點(diǎn)（NsNs）：軟組織側(cè)面上相應(yīng)之鼻根點(diǎn)）：軟組織側(cè)面上相應(yīng)之鼻根點(diǎn)v 鼻尖點(diǎn)（鼻尖點(diǎn)（PrnPrn）：鼻尖之最前突點(diǎn)）：鼻尖之最前突點(diǎn)v 鼻下點(diǎn)（鼻下點(diǎn)（SnSn）：鼻小柱與上唇之連接點(diǎn)）：鼻小柱與上唇之連接點(diǎn)v 上唇緣點(diǎn)（上唇緣點(diǎn)（UL):UL):上唇粘膜與皮膚的連接點(diǎn)上唇粘膜與皮膚的連接點(diǎn)v 上

17、唇緣點(diǎn)（上唇緣點(diǎn)（LL):LL):下唇粘膜與皮膚的連接點(diǎn)下唇粘膜與皮膚的連接點(diǎn)v 上唇突點(diǎn)（上唇突點(diǎn)（UL):UL):上唇的最突點(diǎn)上唇的最突點(diǎn)v 上唇突點(diǎn)（上唇突點(diǎn)（LL):LL):下唇的最突點(diǎn)下唇的最突點(diǎn)v 軟組織頦前點(diǎn)（軟組織頦前點(diǎn)（PosPos）：軟組織頦部之最前點(diǎn)）：軟組織頦部之最前點(diǎn)v 軟組織頦下點(diǎn)（軟組織頦下點(diǎn)（MesMes）：軟組織頦部之最下點(diǎn)）：軟組織頦部之最下點(diǎn)v 咽點(diǎn)（咽點(diǎn)（K):K):軟組織頸部與咽部的連接點(diǎn)軟組織頸部與咽部的連接點(diǎn)Company LogoCompany Logo1.1.基準(zhǔn)平面：頭影測(cè)量中相對(duì)穩(wěn)定的平面基準(zhǔn)平面：頭影測(cè)量中相對(duì)穩(wěn)定的平面vSN SN 平面

18、（前顱底平面）：由蝶鞍點(diǎn)與鼻根點(diǎn)的連平面（前顱底平面）：由蝶鞍點(diǎn)與鼻根點(diǎn)的連線組成線組成vFH FH 平面（眼耳平面）：由耳點(diǎn)與眶點(diǎn)的連線組成平面（眼耳平面）：由耳點(diǎn)與眶點(diǎn)的連線組成vBoltonBolton平面平面 Bolton Bolton點(diǎn)與鼻根點(diǎn)連線點(diǎn)與鼻根點(diǎn)連線常用頭影測(cè)量平面常用頭影測(cè)量平面Company Logo基準(zhǔn)平面基準(zhǔn)平面SN planeSN plane（前顱底平面）由蝶鞍點(diǎn)與鼻根點(diǎn)的連線組成（前顱底平面）由蝶鞍點(diǎn)與鼻根點(diǎn)的連線組成Company Logo基準(zhǔn)平面基準(zhǔn)平面FH planeFH plane（眼耳平面）由耳點(diǎn)與眶點(diǎn)的連線組成（眼耳平面）由耳點(diǎn)與眶點(diǎn)的連線組成Co

19、mpany Logo基準(zhǔn)平面基準(zhǔn)平面BoltonBolton平面平面- -由由BoltonBolton點(diǎn)與鼻根點(diǎn)的連線組成點(diǎn)與鼻根點(diǎn)的連線組成Company Logo基準(zhǔn)平面基準(zhǔn)平面Company Logo2 2、測(cè)量平面、測(cè)量平面腭平面（腭平面（PPPP）: :由前鼻棘點(diǎn)與后鼻棘點(diǎn)的連線組成由前鼻棘點(diǎn)與后鼻棘點(diǎn)的連線組成全顱底平面全顱底平面(Ba-N)(Ba-N)：顱底點(diǎn)與鼻根點(diǎn)的連線：顱底點(diǎn)與鼻根點(diǎn)的連線合平面（合平面（OPOP）: : 解剖合平面解剖合平面 ：第一磨牙咬合中點(diǎn)于上下切牙間中點(diǎn)連線。：第一磨牙咬合中點(diǎn)于上下切牙間中點(diǎn)連線。 功能合平面：功能合平面：6 6及乳及乳4 4或或4

20、 4的合接觸點(diǎn)的合接觸點(diǎn)下頜平面（下頜平面（MPMP）：）： 頦下點(diǎn)與下頜角下緣的切線頦下點(diǎn)與下頜角下緣的切線 通過下頜骨下緣最低點(diǎn)的切線通過下頜骨下緣最低點(diǎn)的切線 下頜角點(diǎn)與頦頂點(diǎn)的連線（下頜角點(diǎn)與頦頂點(diǎn)的連線（Go-GnGo-Gn）下頜枝平面下頜枝平面面平面（面平面（N-PogN-Pog）：由鼻根點(diǎn)與頦前點(diǎn)的連線組成）：由鼻根點(diǎn)與頦前點(diǎn)的連線組成Y Y軸（軸（S-GnS-Gn）：蝶鞍點(diǎn)與頦頂點(diǎn)的連線組成）：蝶鞍點(diǎn)與頦頂點(diǎn)的連線組成Company Logo測(cè)量平面測(cè)量平面腭平面腭平面(PP)(PP)由前鼻棘點(diǎn)與后鼻棘點(diǎn)的連線組成由前鼻棘點(diǎn)與后鼻棘點(diǎn)的連線組成Company Logo測(cè)量平面測(cè)

21、量平面全顱底平面（全顱底平面（Ba-N):Ba-N):顱底點(diǎn)與鼻根點(diǎn)連線顱底點(diǎn)與鼻根點(diǎn)連線Company Logo全顱底平面Company Logo合平面合平面(OP)(OP)1:1:第一磨牙咬合中點(diǎn)與上下切牙間中點(diǎn)連線。第一磨牙咬合中點(diǎn)與上下切牙間中點(diǎn)連線。2:2:功能牙合平面：第一恒磨牙及第一乳磨牙或第一前磨牙的牙合接觸點(diǎn)功能牙合平面：第一恒磨牙及第一乳磨牙或第一前磨牙的牙合接觸點(diǎn)Company Logo測(cè)量平面測(cè)量平面下頜平面（下頜平面（MPMP）1:通過頦下點(diǎn)于下頜角下緣相切的線通過頦下點(diǎn)于下頜角下緣相切的線Company Logo測(cè)量平面測(cè)量平面下頜平面（下頜平面（MPMP）2:2:

22、下頜下緣最低點(diǎn)的切線下頜下緣最低點(diǎn)的切線Company Logo測(cè)量平面測(cè)量平面下頜平面（下頜平面（MPMP）3:3:下頜角點(diǎn)與下頜頦頂點(diǎn)間連線下頜角點(diǎn)與下頜頦頂點(diǎn)間連線Company Logo下頜平面（下頜平面（MPMP）：）： 1 1、頦下點(diǎn)與下頜、頦下點(diǎn)與下頜角下緣的切線角下緣的切線 2 2、通過下頜骨下、通過下頜骨下緣最低點(diǎn)的切線緣最低點(diǎn)的切線 3 3、下頜角點(diǎn)與頦、下頜角點(diǎn)與頦頂點(diǎn)的連線（頂點(diǎn)的連線（Go-GnGo-Gn）Company Logo測(cè)量平面測(cè)量平面下頜支平面下頜支平面(RP):(RP):下頜升支及髁突后緣的切線下頜升支及髁突后緣的切線Company Logo測(cè)量平面測(cè)量

23、平面面平面（面平面（NP)：鼻根點(diǎn)與頦前點(diǎn)連線：鼻根點(diǎn)與頦前點(diǎn)連線Company Logo測(cè)量平面測(cè)量平面Y軸：蝶鞍中心與頦頂點(diǎn)連線軸：蝶鞍中心與頦頂點(diǎn)連線Company Logo2、軟組織測(cè)量平面、軟組織測(cè)量平面v審美平面（審美平面（E E線）線）: :通過鼻尖與頦部最凸點(diǎn)的切線通過鼻尖與頦部最凸點(diǎn)的切線Company Logo通過通過X線對(duì)線對(duì)正常牙合正常牙合人人的顱面結(jié)構(gòu)進(jìn)行分析的顱面結(jié)構(gòu)進(jìn)行分析得出正常牙合的各得出正常牙合的各項(xiàng)測(cè)量參考標(biāo)準(zhǔn)項(xiàng)測(cè)量參考標(biāo)準(zhǔn)作為診斷分析作為診斷分析的基礎(chǔ)的基礎(chǔ)常用硬組織測(cè)量項(xiàng)目常用硬組織測(cè)量項(xiàng)目正常值的確定v前提：前提：Company Logo頭影測(cè)量分析

24、目的頭影測(cè)量分析目的:對(duì)比對(duì)比分析出錯(cuò)牙合畸形的機(jī)制正常牙頜正常牙頜顱面關(guān)系顱面關(guān)系個(gè)體牙頜個(gè)體牙頜顱面結(jié)構(gòu)顱面結(jié)構(gòu)確定牙和頜位的理想位置，制定可行的矯治方案Company Logo每一個(gè)項(xiàng)目有特定意義說明相應(yīng)結(jié)構(gòu)的特征或生長變化趨勢(shì)！每一個(gè)項(xiàng)目有特定意義說明相應(yīng)結(jié)構(gòu)的特征或生長變化趨勢(shì)！v必須必須綜合的評(píng)價(jià)綜合的評(píng)價(jià)各項(xiàng)測(cè)量指標(biāo)，才能明確畸形機(jī)制，各項(xiàng)測(cè)量指標(biāo)，才能明確畸形機(jī)制，作出正確診斷作出正確診斷!顱面顱面牙齒、牙弓牙齒、牙弓頜骨頜骨 相互不調(diào)，相互不調(diào)，產(chǎn)生牙頜畸形產(chǎn)生牙頜畸形互相補(bǔ)償產(chǎn)生互相補(bǔ)償產(chǎn)生正常顱面形態(tài)正常顱面形態(tài)Company Logo上下頜骨的常用測(cè)量項(xiàng)目上下頜骨的常用

25、測(cè)量項(xiàng)目v上齒槽座角（上齒槽座角（SNASNA）：前顱底平面與鼻根點(diǎn)和上齒）：前顱底平面與鼻根點(diǎn)和上齒槽座點(diǎn)連線所形成的后下交角槽座點(diǎn)連線所形成的后下交角v下齒槽座角（下齒槽座角（SNBSNB）：前顱底平面與鼻根點(diǎn)和下齒）：前顱底平面與鼻根點(diǎn)和下齒槽座點(diǎn)連線所形成的后下交角槽座點(diǎn)連線所形成的后下交角v上下齒槽座角（上下齒槽座角（ANBANB）：）：SNASNA與與SNBSNB之差之差Company Logov下頜平面角（下頜平面角（MP-FHMP-FH）: :下頜平面與下頜平面與FHFH平面的交角平面的交角vY Y軸角：蝶鞍中心點(diǎn)與頦頂點(diǎn)連線與眶耳平面之前軸角：蝶鞍中心點(diǎn)與頦頂點(diǎn)連線與眶耳平面

26、之前下交角下交角v面角（面角（NPog-FHNPog-FH）：面平面與眶耳平面相交的后下）：面平面與眶耳平面相交的后下交角交角Company Logov上中切牙前顱底平面角（上中切牙前顱底平面角（U1-SNU1-SN）：上中切牙長）：上中切牙長軸與前顱底平面的前下交角軸與前顱底平面的前下交角v下中切牙下頜平面角（下中切牙下頜平面角（L1-MPL1-MP）：下中切牙長軸）：下中切牙長軸與下頜平面的后上交角與下頜平面的后上交角v上下中切牙角（上下中切牙角（U1-L1U1-L1）：上下中切牙長軸的交角）：上下中切牙長軸的交角上前面高（上前面高（N-ANSN-ANS）：以）：以FHFH為參照，為參照，

27、N N點(diǎn)和點(diǎn)和ANSANS點(diǎn)兩點(diǎn)兩點(diǎn)間的垂直距離點(diǎn)間的垂直距離Company Logo測(cè)量內(nèi)容測(cè)量內(nèi)容SNA angleSNA angle：反映上頜相對(duì)顱骨的前后位置：反映上頜相對(duì)顱骨的前后位置Company Logo測(cè)量內(nèi)容測(cè)量內(nèi)容SNB angleSNB angle：反映下頜相對(duì)顱骨的前后位置：反映下頜相對(duì)顱骨的前后位置Company Logo測(cè)量內(nèi)容測(cè)量內(nèi)容ANB angleANB angle：反映上下頜骨相對(duì)顱骨的相互位置：反映上下頜骨相對(duì)顱骨的相互位置Company Logo基準(zhǔn)平面基準(zhǔn)平面NP（面平面）（面平面） FH（面角）（面角）:反映下頜的突縮程度。反映下頜的突縮程度。此角越

28、大則下頜？相對(duì)突度越大Company Logo測(cè)量內(nèi)容測(cè)量內(nèi)容NAPA (頜凸角)：反映上頜相對(duì)整個(gè)側(cè)面的關(guān)系此角越大則上頜？相對(duì)突度越大Company Logo測(cè)量內(nèi)容測(cè)量內(nèi)容Y軸角:反映頦部的突縮，也代表面部生長發(fā)育方向此角越大則頦部？此角越大則頦部？頦部后縮頦部后縮Company Logo測(cè)量內(nèi)容測(cè)量內(nèi)容MPFH 下頜平面角：反映1.下頜體陡度2.下頜角大小 3.面高度：短面型/長面型Company Logo 測(cè)量內(nèi)容測(cè)量內(nèi)容ANS-Ptm ANS-Ptm （上頜長）：翼上頜裂點(diǎn)與前鼻棘點(diǎn)（上頜長）：翼上頜裂點(diǎn)與前鼻棘點(diǎn)Company Logo 測(cè)量內(nèi)容測(cè)量內(nèi)容S-Ptm S-Ptm （

29、上頜位置）：（上頜位置）：上頜后界與上頜后界與S S的位置關(guān)系的位置關(guān)系Company Logo 測(cè)量內(nèi)容測(cè)量內(nèi)容Co-PogCo-Pog（下頜長）髁突后緣切線與頦（下頜長）髁突后緣切線與頦前點(diǎn)切線在下頜平面上垂足間的距離前點(diǎn)切線在下頜平面上垂足間的距離Company Logo 測(cè)量內(nèi)容測(cè)量內(nèi)容S-Co（下頜位置）Company Logo測(cè)量內(nèi)容測(cè)量內(nèi)容上下前牙常用測(cè)量項(xiàng)目上下前牙常用測(cè)量項(xiàng)目 UIUISN angleSN angleCompany Logo測(cè)量內(nèi)容測(cè)量內(nèi)容LI MP angle此角越大則下前牙？唇傾度大Company Logo測(cè)量內(nèi)容測(cè)量內(nèi)容U1NA:上切牙對(duì)于前顱底的相對(duì)傾

30、斜度Company Logo測(cè)量內(nèi)容測(cè)量內(nèi)容U1NA distance (U1-NA距)Company Logo測(cè)量內(nèi)容測(cè)量內(nèi)容L1NB angleCompany Logo測(cè)量內(nèi)容測(cè)量內(nèi)容L1NB 距Company Logo測(cè)量內(nèi)容測(cè)量內(nèi)容U1L1 angle：反映上下前部牙弓的突度。Company Logo測(cè)量內(nèi)容測(cè)量內(nèi)容MPSN angle：與下頜平面角類似Company Logo面部高度測(cè)量項(xiàng)目面部高度測(cè)量項(xiàng)目v 全面高（全面高（N-MEN-ME） ：從：從前鼻棘至頦下點(diǎn)的距前鼻棘至頦下點(diǎn)的距離離v 上面高（上面高（N-ANSN-ANS）：以）：以FHFH為參照，為參照，ANSANS點(diǎn)和

31、點(diǎn)和MEME點(diǎn)兩點(diǎn)間的垂直距離點(diǎn)兩點(diǎn)間的垂直距離v 下面高（下面高（ANS-MEANS-ME）：）：以以FHFH為參照，為參照，ANSANS點(diǎn)和點(diǎn)和MEME點(diǎn)兩點(diǎn)間的垂直距點(diǎn)兩點(diǎn)間的垂直距離離Company Logo常用的頭影測(cè)量分析法常用的頭影測(cè)量分析法Company LogoTweedTweed分析法：分析法： 測(cè)量由眶耳平測(cè)量由眶耳平面（面（FHFH）、下頜）、下頜平面（平面（MPMP）、下）、下中切牙長軸延長中切牙長軸延長線所組成的代表線所組成的代表面部形態(tài)結(jié)構(gòu)的面部形態(tài)結(jié)構(gòu)的頜面三角形頜面三角形Company Logo 正常值正常值 成都成都 白人白人眶耳平面下頜平面角（眶耳平面下頜

32、平面角（FMAFMA） 2828 2525下中切牙眶耳平面角（下中切牙眶耳平面角（FMIAFMIA） 5454 6565下中切牙下頜平面角（下中切牙下頜平面角（IMPAIMPA） 9898 9090Company Logo意義：意義：vFMIAFMIA為為6565是建立良好面形的重要條件是建立良好面形的重要條件v正畸治療主要依靠改變下中切牙的位置正畸治療主要依靠改變下中切牙的位置和傾斜度來完成和傾斜度來完成v以下頜分析為依據(jù)以下頜分析為依據(jù)Company LogoWits分析法BOAOBOAOCompany LogoCompany Logo 測(cè)量內(nèi)容測(cè)量內(nèi)容PPFH Company Logo測(cè)量內(nèi)容測(cè)量內(nèi)容Y軸角:反映頦部的突縮，也代表面部生長發(fā)育方向Company Logo 測(cè)量內(nèi)容測(cè)量內(nèi)容Npg-FH(面角)Company Logo測(cè)量內(nèi)容測(cè)量內(nèi)容U1SN angleCompany Logo測(cè)量內(nèi)容測(cè)量內(nèi)容L1 MP angleCompany Logo測(cè)量內(nèi)容測(cè)量內(nèi)容U1L1 angle：反映上下前部牙弓的突度。Company Logo 測(cè)量內(nèi)容測(cè)量內(nèi)容Ptm-A （上頜長）Company Logo 測(cè)量內(nèi)容測(cè)量內(nèi)容Ptm-S（上頜位置）Company Logo 測(cè)量內(nèi)容測(cè)量內(nèi)容S-Go后面高Company Logo 測(cè)量內(nèi)容測(cè)量內(nèi)容Go-