國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)《電子工廠潔凈廠房設(shè)計(jì)規(guī)范》中強(qiáng)制性條文講解

1、國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)電子工廠潔凈廠房設(shè)計(jì)規(guī)范中強(qiáng)制性條文講解GB 50472-20081、電子工廠潔凈廠房特點(diǎn)2、章節(jié)內(nèi)容簡(jiǎn)介3、強(qiáng)制性條文等介紹4、結(jié)語(yǔ)1、電子工廠潔凈廠房特點(diǎn)電子產(chǎn)品生產(chǎn)發(fā)展迅猛 IC特征尺寸m,1216 ，64G TFT第六代產(chǎn)品對(duì)化學(xué)污染物的嚴(yán)格要求大面積、大體量、組合式、多層潔凈廠房投資大、能量消耗大1、電子工廠潔凈廠房特點(diǎn)集成電路對(duì)化學(xué)污染物的控制指標(biāo) 電子工廠潔凈廠房的特點(diǎn)：微?？刂剖謬?yán)格、要求控制m甚至更小粒徑 ISO1級(jí)或更嚴(yán)格。高純物質(zhì)，包括高純水、高純氣體高純化學(xué)品的供應(yīng)、輸 送。對(duì)微振控制十分嚴(yán)格、需制定切實(shí)可行的規(guī)定對(duì)防靜電、電磁兼容等大體量、多層單向流潔凈室，

2、二層/三層布置數(shù)萬(wàn)m2。1、電子工廠潔凈廠房特點(diǎn)1、電子工廠潔凈廠房特點(diǎn)項(xiàng)目位置狀況規(guī)格（）潔凈生產(chǎn)區(qū)面積（）建筑高度芯片廠1大陸生產(chǎn)運(yùn)行200（8）870020.0芯片廠2臺(tái)灣生產(chǎn)運(yùn)行300/200（12/8）1400026.8芯片廠3臺(tái)灣生產(chǎn)運(yùn)行300（12）900029.4芯片廠4臺(tái)灣生產(chǎn)運(yùn)行300（12）900026.8芯片廠5韓國(guó)生產(chǎn)運(yùn)行200（8）1000031.0芯片廠6韓國(guó)生產(chǎn)運(yùn)行200（8）1000031.0芯片廠7韓國(guó)生產(chǎn)運(yùn)行200（8）1000037.0芯片廠8韓國(guó)生產(chǎn)運(yùn)行200（8）1000037.0芯片廠9愛(ài)爾蘭生產(chǎn)運(yùn)行200（8）889225.4芯片廠10美國(guó)生產(chǎn)運(yùn)

3、行200（8）1581022.00芯片廠11美國(guó)生產(chǎn)運(yùn)行200（8）1581022.00芯片廠12美國(guó)生產(chǎn)運(yùn)行300（12）1385717.00芯片廠13愛(ài)爾蘭生產(chǎn)運(yùn)行300（12）1218317.00芯片廠14磁力生產(chǎn)運(yùn)行300（12）874020.40芯片廠15臺(tái)灣生產(chǎn)運(yùn)行200（8）790050.30芯片廠16法國(guó)生產(chǎn)運(yùn)行200（8）650021.00芯片廠17新加坡生產(chǎn)運(yùn)行200（8）800025.00表1 國(guó)內(nèi)外一些微電子潔凈廠房的高度和潔凈生產(chǎn)區(qū)面積1、電子工廠潔凈廠房特點(diǎn)項(xiàng)目位置狀況規(guī)格（）潔凈生產(chǎn)區(qū)面積（）建筑高度芯片廠18上海生產(chǎn)運(yùn)行300（12）1200029.00芯片廠1

4、9上海生產(chǎn)運(yùn)行300（12）940030.00芯片廠20成都生產(chǎn)運(yùn)行200（8）7408.821芯片廠21上海生產(chǎn)運(yùn)行200（8）1032128.55芯片廠22蘇州生產(chǎn)運(yùn)行200（8）1200024.4芯片廠23重慶建設(shè)中200（8）150028芯片廠24浙江生產(chǎn)運(yùn)行150（6）516019TFT-LCD/1北京生產(chǎn)運(yùn)行5代，110013002800023.00TFT-LCD/2上海生產(chǎn)運(yùn)行5代，11001300220001400020.30TFT-LCD/3昆山試生產(chǎn)5代，11001300300026.50TFT-LCD/4深圳正在建設(shè)5代，110013003300026.50TFT-LCD

5、/5臺(tái)灣生產(chǎn)運(yùn)行6代，150018003600027TFT-LCD/6上海正籌建6代，150018003400027TFT-LCD/7北京正籌建6代，150018003600027TFT-LCD/8日本生產(chǎn)運(yùn)行8代，216024609000030.00表1 國(guó)內(nèi)外一些微電子潔凈廠房的高度和潔凈生產(chǎn)區(qū)面積1、電子工廠潔凈廠房特點(diǎn)表22 幾類電子產(chǎn)品所需氣體品種1、電子工廠潔凈廠房特點(diǎn)表 25 集成電路芯片（64M）生產(chǎn)過(guò)程部分化學(xué)品的質(zhì)量要求微粒（PC/CC）化學(xué)品種類0.1m0.2m金屬離子H3PO4HClH2SO4H2O2NH4OH403020202020201010101.0X10-91.0X10-91.0X10-91.0X10-91.0X10-9HNO349%HF5%HF1%HF30303030202020201.0X10-91.0X10-91.0X10-9122424見(jiàn)D.3.3見(jiàn)D.3.5見(jiàn)D.3.6見(jiàn)D.3.6見(jiàn)D.3.8 見(jiàn)D.3.7見(jiàn)D.3.10見(jiàn)D.3.113、強(qiáng)制性條文等介紹1、GB50472是依據(jù)電子工廠潔凈廠房特點(diǎn)，參照國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)，經(jīng)過(guò)國(guó)內(nèi)調(diào)研后制定。2、強(qiáng)制性標(biāo)準(zhǔn)中的“強(qiáng)條”