標(biāo)準(zhǔn)解讀
《GB/T 13539.4-2005 低壓熔斷器 第4部分:半導(dǎo)體設(shè)備保護用熔斷體的補充要求》相比于《GB 13539.4-1992 低壓熔斷器 半導(dǎo)體器件保護用熔斷體的補充要求》,主要在以下幾個方面進行了更新和調(diào)整:
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標(biāo)準(zhǔn)性質(zhì)變化:從標(biāo)準(zhǔn)編號可見,從GB變?yōu)镚B/T,意味著該標(biāo)準(zhǔn)從強制性國家標(biāo)準(zhǔn)轉(zhuǎn)變?yōu)橥扑]性國家標(biāo)準(zhǔn),為執(zhí)行提供了更多靈活性。
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技術(shù)內(nèi)容更新:新標(biāo)準(zhǔn)根據(jù)近十年來半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,對熔斷體的性能指標(biāo)、測試方法及安全要求等方面進行了修訂,以更好地適應(yīng)現(xiàn)代半導(dǎo)體設(shè)備的保護需求。具體包括但不限于熔斷時間、分?jǐn)嗄芰Α岱€(wěn)定性和電壽命等方面的更嚴(yán)格規(guī)定。
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適用范圍擴展:隨著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷進步,新標(biāo)準(zhǔn)可能擴展了適用的半導(dǎo)體設(shè)備類型,包括更廣泛的集成電路、功率半導(dǎo)體器件等,確保了標(biāo)準(zhǔn)的廣泛適用性和前瞻性。
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試驗方法改進:為了更準(zhǔn)確地評估熔斷體在實際應(yīng)用中的表現(xiàn),新標(biāo)準(zhǔn)可能引入了新的試驗方法或?qū)υ性囼灧椒ㄟM行了優(yōu)化,如增加模擬實際工作條件的動態(tài)試驗、提高環(huán)境適應(yīng)性測試的標(biāo)準(zhǔn)等。
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安全與環(huán)保要求提升:隨著對產(chǎn)品安全和環(huán)境保護要求的日益提高,新標(biāo)準(zhǔn)可能加入了更多關(guān)于材料安全、有害物質(zhì)限制(如RoHS合規(guī))、以及廢棄處理等方面的規(guī)定。
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術(shù)語與定義調(diào)整:為了與國際標(biāo)準(zhǔn)接軌并反映行業(yè)最新發(fā)展,新標(biāo)準(zhǔn)對一些專業(yè)術(shù)語和定義進行了修訂或增補,提高了標(biāo)準(zhǔn)的清晰度和一致性。
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標(biāo)準(zhǔn)化引用文件更新:考慮到基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)和技術(shù)規(guī)范的更新?lián)Q代,新標(biāo)準(zhǔn)引用了一系列最新的國家標(biāo)準(zhǔn)和國際標(biāo)準(zhǔn),確保了技術(shù)要求的先進性和兼容性。
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- 被代替
- 已被新標(biāo)準(zhǔn)代替,建議下載現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)GB/T 13539.4-2009
- 2005-08-03 頒布
- 2006-04-01 實施
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文檔簡介
ICS29.120.50K31中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)GB/T13539.4-2005/IEC60269-4:1986代替GB13539.4-1992低壓熔斷器第4部分:半導(dǎo)體設(shè)備保護用熔斷體的補充要求Low-voltagefuses-Part4:Supplementaryrequirementsforfuse-linksfortheprotectionofsemiconductordevices(IEC60269-4:1986,IDT)2005-08-03發(fā)布2006-04-01實施中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局愛布中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會
GB/T13539.4-2005/IEC60269-4:1986次前言1總則2定義3;正常工作條件5培斷體特性6標(biāo)志………7設(shè)計的標(biāo)準(zhǔn)條件8試驗··……………·……··附錄A(規(guī)范性附錄)婚斷體和半導(dǎo)體設(shè)備的配合導(dǎo)則16附錄B(資料性附錄)制造廠應(yīng)在產(chǎn)品使用說明書中列出的半導(dǎo)體設(shè)備保護用熔斷體的資料·····20
GB/T13539.4-2005/IEC60269-4:1986《低壓熔斷器》是系列標(biāo)準(zhǔn),目前包括以下7個部分GB13539.1—2002《低壓熔斷器第1部分:基本要求》idtIEC60269-1:1998)GB/T13539.2—2002《低壓熔斷器第2部分:專職人員使用的熔斷器的補充要求(主要用于工業(yè)的熔斷器)》idtIEC60269-2:1986)GB13539.3—1999《低壓熔斷器第3部分:非熟練人員使用的熔斷器的補充要求(主要用于家用和類似用途的熔斷器)》(idtIEC6O269-3:1987)GB/T13539.4—2005《低壓熔斷器第4部分:半導(dǎo)體設(shè)備保護用熔斷體的補充要求》(IEC60269-4:1986.IDT)GB/T13539.5—1999《低壓熔斷器第3部分:非熟練人員使用的熔斷器的補充要求(主要用于家用和類似用途的熔斷器)標(biāo)準(zhǔn)化熔斷器示例》idtIEC60269-3-1:1994)GB/T13539.6—2002《低壓熔斷器第2部分:專職人員使用的熔斷器的補充要求(主要用于工業(yè)的熔斷器)第1至5篇:標(biāo)準(zhǔn)化熔斷器示例》(idtIEC60269-2-1:2000)GB/T13539.7—2005《低壓熔斷器第4部分:半導(dǎo)體設(shè)備保護用熔斷體的補充要求:第1至3篇標(biāo)準(zhǔn)化熔斷體示例》IEC60269-4-1:2002.IDT)本部分為《低壓熔斷器》系列標(biāo)準(zhǔn)的第4部分,系等同采用IEC60269-4:1986《低壓熔斷器第4部分:半導(dǎo)體設(shè)備保護用熔斷體的補充要求》及1EC60269-4的修正件No.1(1995)、修正件No.2(2002)和修正件No.2勒誤表(2003)。本部分是對國家標(biāo)準(zhǔn)GB13539.4-1992《低壓熔斷器半半導(dǎo)體器件保護用熔斷體的補充要求》的修訂。本部分是對用于半導(dǎo)體設(shè)備保護的熔斷體的補充要求,同時對于具體型式的熔斷體的要求在GB/T13539.7-2005中規(guī)定,在使用時應(yīng)和GB13539.1-2002和GB/T13539.7-2005配合使用。本部分與GB13539.4—1992的主要差別為增加對半導(dǎo)體設(shè)備保護用熔斷體的分類要求;規(guī)定不同類型的熔斷體的試驗方法、標(biāo)志等內(nèi)容。本部分5.8.1引用的圖3.在IEC原文中為圖2,疑有誤.應(yīng)為圖3。IEC原文中5.8和5.9的時間常數(shù)(15~20ms)與經(jīng)修正的表12B不符,本部分此處按表12B規(guī)定。本部分8.4.3.2和8.4.3.4引用的表2,IEC原文為IEC60269-1表2,疑有誤,應(yīng)為本部分表2.本部分批準(zhǔn)實施后.代替GB13539,4—1992《低壓熔斷器半導(dǎo)體器件保護用熔斷體的補充要求》本部分的附錄A為規(guī)范性附錄,附錄B為資料性附錄本部分由中國電器工業(yè)協(xié)會提出。本部分由全國低壓電器標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會歸口本部分負責(zé)起草單位:上海電器科學(xué)研究所。本部分參加起草單位:西安西整焙斷器廠、西安熔斷器廠、上海電器陶瓷廠本部分主要起草人:季慧玉、吳慶云。本部分參加起草人:章永孚、伍麗華、劉雙庫、劉羅曼、林海鷗。本部分所代替標(biāo)準(zhǔn)的歷次版本發(fā)布情況為:GB/T13539.4-1992。
GB/T13539.4-2005/IEC60269-4:1986低壓熔斷器第4部分半導(dǎo)體設(shè)備保護用熔斷體的補充要求本部分與國家標(biāo)準(zhǔn)GB13539.1《低壓熔斷器第1部分:基本要求》共同使用.因此本部分的條款、分條款和表的編號與它們的編號相對應(yīng)。1總則半導(dǎo)體設(shè)備保護用的熔斷體(以下簡稱為熔斷體)應(yīng)符合GB13539.1的所有要求.下文中沒有另外指明的.也應(yīng)符合本部分規(guī)定的補充要求。1.1范圍本部分的補充要求適用于安裝在具有半導(dǎo)體裝置的設(shè)備上的熔斷體,熔斷體的額定電壓不超過交流1000V或標(biāo)稱電壓不超過直流1500V。如果適用.還可以用于更高的標(biāo)稱電壓的電路住1:這種熔斷體通常稱為“半導(dǎo)體熔斷體”。在2:在多數(shù)情況下,組合設(shè)備的一部分可用作熔斷器底座。由于設(shè)備的多樣性,難以作出一般的規(guī)定:組合設(shè)備是否適合作婚斷器底座.應(yīng)由用戶與制造廠協(xié)商。但是,如果采用獨立的墻斷器底座或培斷器支持件,它們應(yīng)符合GB13539.1的相關(guān)要求。12目的本部分的目的是確定半導(dǎo)體熔斷體的特性,從而在相同尺寸的前提下,可以用具有相同特性的其他型式的焙斷體替換半導(dǎo)體焙斷體。因此·本部分中特別規(guī)定了:1.2.1熔斷體的特性:預(yù)定值:正常工作時的溫升;耗散功率;時間-電流特性:分?jǐn)嗄芰?;截斷電流特性和廠/特性;g)電弧電壓極限值1.2.2用于驗證熔斷體特性的型式試驗。1.2.3婚晰體標(biāo)志。1.2.4應(yīng)提供的技術(shù)數(shù)據(jù)(見附錄B)2定義2.2一般術(shù)語2.2.14半導(dǎo)體設(shè)備sem
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