標準解讀

《GB/T 14143-1993 300～900μm硅片間隙氧含量紅外吸收測量方法》這一標準詳細規(guī)定了如何利用紅外吸收技術來測定厚度在300至900微米范圍內的硅片中的間隙氧含量。然而，您未提供另一個具體的標準或版本以進行直接的變更對比。沒有指定比較對象的情況下，無法直接列出相對于某個特定前任或后續(xù)標準的具體變化。

不過，通常來說，當一個標準被更新或者替代時，變更可能涉及以下幾個方面：

  1. 技術方法的改進：新標準可能會采用更先進的測量技術或儀器，提高測試精度和效率。
  2. 參數(shù)范圍調整：可能會擴展或縮小測試對象的適用范圍，比如測試硅片的厚度范圍、氧含量的測量極限等。
  3. 測試程序的優(yōu)化：更新標準可能會簡化測試步驟，明確操作流程，以增強可執(zhí)行性。
  4. 精度與誤差要求的修訂：根據(jù)技術進步和實踐經驗，對測量結果的精度要求和允許誤差范圍進行調整。
  5. 術語與定義的統(tǒng)一：為保持與國際標準的一致性，可能會更新或新增專業(yè)術語定義。
  6. 質量控制與校準要求：加強對檢測設備的校準要求，確保測量結果的可比性和重復性。
  7. 合規(guī)性與認證：增加或修改與國際標準、法規(guī)的符合性要求，以及產品認證的相關規(guī)定。


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  • 被代替
  • 已被新標準代替，建議下載現(xiàn)行標準GB/T 1557-2006
  • 1993-02-06 頒布
  • 1993-10-01 實施
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文檔簡介

9DC.669.782百26中華人民共和國國家標準GB/T：14143—93300～900㎡m硅片間隙氧含量紅外吸收測量方法300~900：mSiliconsliccs-MeasuringofinterstitialloxygencontentInfraredabsorptionmethod1993-02-06發(fā)布1993-10-01實施國家技術監(jiān)督局發(fā)布

中華人民共和國國家標準300~900um硅片間隙氧含量紅外吸收測量方法GB/T14143-93300~900umSiliconslices-Measuringorinterstitialoxygencontent-Infraredabsorptionmethod主題內客與適用范田本標準規(guī)定了用紅外吸收法測定厚度為300～900m的硅片間隙氧含量的方法。本標準適用于室溫電阻率大于0.10·cm的硅片間隙氧含量的測量。測量范圍為3×10"·cm-至間隙氧在硅中的最大固溶度。2引用標準GB1557硅晶體中間隙氧含量的紅外吸收測量方法。方法原理本方法借助于硅單品中氧含量與硅-氧鍵在1107cm~9.033m)處吸收系數(shù)間的關系，用紅外光譜儀測定1107cm-處吸收系數(shù)來確定300～900m硅片中間隙氧含量。4測量儀器4.1付里葉變換紅外光譜儀或雙光束紅外分光光度計,儀器在1107cm-"處的分辨率小于5cm2。4.2樣品架。具有調整功能，通光孔徑為6～10mm.4.3厚度測量儀，精度小于2rm.5試樣要求5.1試樣5.1.1試樣測試部位厚度偏差應小于0.5%。5.1.2元武樣在1300～1000m范圍的透射特性應符合附錄A的規(guī)定5.1.3對于仲裁測量，試樣在1300～1000cm～范圍基線透過率不低于30%。5.2參比樣品5.2.1參比樣品氧含量應小于5×10"at·cm-",可以從高真空多次區(qū)熔制得的硅單品中選取，5.2.2參比樣品與試樣應具有相同的透射特性，厚度差小于0.5%。6測量步驃6.1l選取通光孔徑為6～lomm的樣品架。6.2對雙光束紅外分光光度計.測量程序參照GB1557中的5.2

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