標(biāo)準(zhǔn)解讀

《GB/T 14849.5-2014 工業(yè)硅化學(xué)分析方法 第5部分:雜質(zhì)元素含量的測(cè)定 X射線熒光光譜法》與《GB/T 14849.5-2010 工業(yè)硅化學(xué)分析方法 第5部分:元素含量的測(cè)定 X射線熒光光譜法》相比,主要存在以下差異:

  1. 標(biāo)題調(diào)整:2014版標(biāo)準(zhǔn)明確將內(nèi)容限定于“雜質(zhì)元素含量的測(cè)定”,而2010版標(biāo)題則為“元素含量的測(cè)定”。這一變化強(qiáng)調(diào)了標(biāo)準(zhǔn)關(guān)注的重點(diǎn)在于工業(yè)硅中的雜質(zhì)元素檢測(cè)。

  2. 適用范圍細(xì)化:2014版可能對(duì)適用樣品的種類、狀態(tài)或純度范圍進(jìn)行了更具體的規(guī)定,以更好地適應(yīng)實(shí)際檢測(cè)需求,盡管具體變動(dòng)內(nèi)容需查閱標(biāo)準(zhǔn)原文確定。

  3. 測(cè)試方法優(yōu)化:考慮到技術(shù)進(jìn)步,2014版標(biāo)準(zhǔn)很可能會(huì)引入新的分析技術(shù)細(xì)節(jié)、校正方法或儀器參數(shù)設(shè)定,以提高測(cè)試精度和效率。這些更新可能涉及樣品前處理步驟、測(cè)量條件、背景扣除技術(shù)或數(shù)據(jù)處理算法等方面。

  4. 雜質(zhì)元素列表更新:新版本可能根據(jù)行業(yè)需求或科學(xué)研究進(jìn)展,增減了需測(cè)定的雜質(zhì)元素種類,或者調(diào)整了某些元素的限量要求,確保分析結(jié)果更加符合當(dāng)前工業(yè)硅品質(zhì)控制的實(shí)際需要。

  5. 精密度和準(zhǔn)確度要求提升:為了滿足更高標(biāo)準(zhǔn)的質(zhì)量控制要求,2014版可能對(duì)測(cè)試結(jié)果的精密度和/或準(zhǔn)確度提出了更嚴(yán)格的標(biāo)準(zhǔn),包括但不限于重復(fù)性限、再現(xiàn)性限的修訂。

  6. 術(shù)語和定義修訂:隨著學(xué)科發(fā)展,標(biāo)準(zhǔn)中可能對(duì)相關(guān)專業(yè)術(shù)語給出了更精確或更新的定義,以消除歧義,增強(qiáng)標(biāo)準(zhǔn)的可操作性。

  7. 標(biāo)準(zhǔn)引用更新:鑒于技術(shù)文獻(xiàn)和相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)的不斷更新,2014版可能引用了新的或修訂過的參考標(biāo)準(zhǔn),以保證測(cè)試方法的科學(xué)性和先進(jìn)性。

注意,上述差異基于標(biāo)準(zhǔn)修訂的一般規(guī)律推測(cè),具體改動(dòng)內(nèi)容和細(xì)節(jié)應(yīng)直接查閱標(biāo)準(zhǔn)文本以獲取最準(zhǔn)確信息。


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....

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  • 2014-12-05 頒布
  • 2015-05-01 實(shí)施
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GB/T 14849.5-2014工業(yè)硅化學(xué)分析方法第5部分:雜質(zhì)元素含量的測(cè)定X射線熒光光譜法_第1頁
GB/T 14849.5-2014工業(yè)硅化學(xué)分析方法第5部分:雜質(zhì)元素含量的測(cè)定X射線熒光光譜法_第2頁
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GB/T 14849.5-2014工業(yè)硅化學(xué)分析方法第5部分:雜質(zhì)元素含量的測(cè)定X射線熒光光譜法-免費(fèi)下載試讀頁

文檔簡介

ICS7712010

H12..

中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)

GB/T148495—2014

代替.

GB/T14849.5—2010

工業(yè)硅化學(xué)分析方法

第5部分雜質(zhì)元素含量的測(cè)定

:

X射線熒光光譜法

Methodsforchemicalanalysisofsiliconmetal—

Part5Determinationofimuritcontents—

:py

X-rayfluorescencemethod

2014-12-05發(fā)布2015-05-01實(shí)施

中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局發(fā)布

中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

GB/T148495—2014

.

前言

工業(yè)硅化學(xué)分析方法分為個(gè)部分

GB/T14849《》9:

第部分鐵含量的測(cè)定二氮雜菲分光光度法

———1:1,10-;

第部分鋁含量的測(cè)定鉻天青分光光度法

———2:-S;

第部分鈣含量的測(cè)定火焰原子吸收光譜法偶氮氯膦分光光度法

———3:、Ⅰ;

第部分雜質(zhì)元素含量的測(cè)定電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜

———4:;

第部分雜質(zhì)元素含量的測(cè)定射線熒光光譜法

———5:X;

第部分碳含量的測(cè)定紅外吸收法

———6:;

第部分磷含量的測(cè)定鉬藍(lán)分光光度法

———7:;

第部分銅含量的測(cè)定分光光度法

———8:PADAP;

第部分鈦含量的測(cè)定二安替比林甲烷分光光度法

———9:。

本部分為的第部分

GB/T148495。

本部分按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

本部分代替工業(yè)硅化學(xué)分析方法第部分元素含量的測(cè)定射線熒

GB/T14849.5—2010《5:X

光光譜法

》。

本部分與相比主要有如下變動(dòng)

GB/T14849.5—2010,:

增加了規(guī)范性引用文件

———;

增加了錳鎳鈦銅磷鎂鉻釩鈷的檢測(cè)

———、、、、、、、、;

樣品應(yīng)破碎通過篩改為應(yīng)能通過標(biāo)準(zhǔn)篩

———0.074mm,0.149mm;

將粘結(jié)劑硼酸改為淀粉或硼酸

———;

將試料中壓片壓力保壓時(shí)間改為壓力下保壓

———20kN,20s,30t30s;

補(bǔ)充了重復(fù)性限及再現(xiàn)性限增加了試驗(yàn)報(bào)告

———,。

本部分由全國有色金屬標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)歸口

(SAC/TC243)。

本部分負(fù)責(zé)起草單位昆明冶金研究院中國鋁業(yè)股份有限公司山東分公司云南永昌硅業(yè)股份有

:、、

限公司

本部分參加起草單位中國鋁業(yè)股份有限公司鄭州研究院通標(biāo)標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)服務(wù)有限公司包頭鋁業(yè)

:、、

有限公司藍(lán)星硅材料有限公司昆明冶研新材料股份有限公司云南出入境檢驗(yàn)檢疫局

、、、。

本部分主要起草人劉英波趙德平楊海岸周杰楊毅張愛玲胡智弢張曉平劉漢士劉維理

:、、、、、、、、、、

馬啟坤唐飛白萬里王宏磊常智杰聶恒聲金波王云舟

、、、、、、、。

本部分所代替標(biāo)準(zhǔn)的歷次版本發(fā)布情況為

:

———GB/T14849.5—2010。

GB/T148495—2014

.

工業(yè)硅化學(xué)分析方法

第5部分雜質(zhì)元素含量的測(cè)定

:

X射線熒光光譜法

1范圍

的本部分規(guī)定了工業(yè)硅中鐵鋁鈣錳鎳鈦銅磷鎂鉻釩鈷含量的測(cè)定方法

GB/T14849、、、、、、、、、、、。

本部分適用于工業(yè)硅中鐵鋁鈣錳鎳鈦銅磷鎂鉻釩鈷含量的測(cè)定測(cè)定范圍見表

、、、、、、、、、、、,1。

表1

元素質(zhì)量分?jǐn)?shù)元素質(zhì)量分?jǐn)?shù)

/%/%

鐵銅

0.020~1.5000.001~0.050

鋁磷

0.050~1.0000.001~0.050

鈣鎂

0.010~1.0000.001~0.050

錳鉻

0.0050~0.10000.001~0.050

鎳釩

0.0010~0.10000.0005~0.0500

鈦鈷

0.0050~0.10000.0005~0.0500

2規(guī)范性引用文件

下列文件對(duì)于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件

。,()。

數(shù)字修約規(guī)則與極限數(shù)值的表示和判定

GB/T8170

3方法提要

射線熒光光譜法是通過化學(xué)元素二次激發(fā)所發(fā)射的射線譜線的波長和強(qiáng)度測(cè)量來進(jìn)行定性

XX

和定量分析由光管發(fā)生的初級(jí)射線束照射在試樣上試樣內(nèi)各化學(xué)元素被激發(fā)出各自的二次特征

。X,

輻射這種二次射線通過準(zhǔn)直器到達(dá)分光晶體只有滿足衍射條件的某個(gè)特定波長的輻射在出射晶體

,。

時(shí)得到加強(qiáng)而其他波長的輻射被削弱

,。

該方法根據(jù)定

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