標(biāo)準(zhǔn)解讀

《GB/T 30116-2013 半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)施電磁兼容性要求》是一項(xiàng)國家標(biāo)準(zhǔn),旨在規(guī)范半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備及其環(huán)境在設(shè)計(jì)、安裝、運(yùn)行過程中對于電磁干擾的控制措施。該標(biāo)準(zhǔn)適用于半導(dǎo)體材料、器件及集成電路等產(chǎn)品的制造過程中的相關(guān)設(shè)備與系統(tǒng)。

根據(jù)文檔內(nèi)容,主要涉及以下幾個(gè)方面:

  • 術(shù)語和定義:明確了與電磁兼容(EMC)相關(guān)的專業(yè)詞匯及其含義。
  • 一般要求:規(guī)定了所有半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備必須滿足的基本電磁兼容性能要求,包括但不限于發(fā)射限值、抗擾度水平等。
  • 試驗(yàn)方法:詳細(xì)描述了如何通過特定測試來驗(yàn)證設(shè)備是否符合上述的一般要求。這些測試可能包括輻射發(fā)射測量、傳導(dǎo)發(fā)射測量以及不同類型的抗擾度測試。
  • 設(shè)備分類:依據(jù)其使用場景或功能特性將半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備分為幾類,并針對每一類提出了更加具體的技術(shù)指標(biāo)。
  • 實(shí)施指南:為制造商提供了一些實(shí)用建議和技術(shù)手段,幫助他們在產(chǎn)品開發(fā)階段就考慮到電磁兼容問題,從而提高最終產(chǎn)品的質(zhì)量。
  • 標(biāo)志與文件:強(qiáng)調(diào)了合格產(chǎn)品應(yīng)當(dāng)具備的相關(guān)標(biāo)識(shí)信息及隨附技術(shù)資料的要求,確保用戶能夠獲取到必要的EMC相關(guān)信息。


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....

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  • 現(xiàn)行
  • 正在執(zhí)行有效
  • 2013-12-17 頒布
  • 2014-04-15 實(shí)施
?正版授權(quán)
GB/T 30116-2013半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)施電磁兼容性要求_第1頁
GB/T 30116-2013半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)施電磁兼容性要求_第2頁
GB/T 30116-2013半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)施電磁兼容性要求_第3頁
GB/T 30116-2013半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)施電磁兼容性要求_第4頁
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文檔簡介

ICS31550

L95.

中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)

GB/T30116—2013

半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)施電磁兼容性要求

Requirementsforsemiconductormanufacturingfacilityelectromagnetic

compatibility

2013-12-17發(fā)布2014-04-15實(shí)施

中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局發(fā)布

中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

中華人民共和國

國家標(biāo)準(zhǔn)

半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)施電磁兼容性要求

GB/T30116—2013

*

中國標(biāo)準(zhǔn)出版社出版發(fā)行

北京市朝陽區(qū)和平里西街甲號(hào)

2(100013)

北京市西城區(qū)三里河北街號(hào)

16(100045)

網(wǎng)址

:

服務(wù)熱線

:400-168-0010

年月第一版

20142

*

書號(hào)

:155066·1-48178

版權(quán)專有侵權(quán)必究

GB/T30116—2013

前言

本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

請注意本文件的某些內(nèi)容可能涉及專利本文件的發(fā)布機(jī)構(gòu)不承擔(dān)識(shí)別這些專利的責(zé)任

。。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國半導(dǎo)體設(shè)備與材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)提出并歸口

(SAC/TC203)。

本標(biāo)準(zhǔn)起草單位工業(yè)和信息化部電子工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化研究院安徽鑫陽電子有限公司

:、。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人黃英華譚建國劉軍周歷群鐘華馮亞彬

:、、、、、。

GB/T30116—2013

半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)施電磁兼容性要求

1范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了為保證半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)施與用于生產(chǎn)半導(dǎo)體器件的設(shè)備能一起可靠運(yùn)行的電磁兼容性

要求

(EMC)。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于生產(chǎn)半導(dǎo)體器件的設(shè)施和設(shè)備這些設(shè)施和設(shè)備涵蓋所有的設(shè)施警報(bào)安全通信與

,、、

控制系統(tǒng)工藝設(shè)備測量設(shè)備自動(dòng)化設(shè)備以及信息技術(shù)設(shè)備

、、、。

本標(biāo)準(zhǔn)不適用于集成電路的封裝與功能測試所采用的設(shè)備和設(shè)施也不適用于可能在半導(dǎo)體生產(chǎn)

,

過程中產(chǎn)生的靜電

。

2規(guī)范性引用文件

下列文件對于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件

。,()。

信息技術(shù)設(shè)備的無線電騷擾限值和測量方法

GB9254

電磁兼容試驗(yàn)和測量技術(shù)靜電放電抗擾度試驗(yàn)

GB/T17626.2—2006

電磁兼容試驗(yàn)和測量技術(shù)射頻電磁場輻射抗擾度試驗(yàn)

GB/T17626.3—2006

電磁兼容試驗(yàn)和測量技術(shù)電快速瞬變脈沖群抗擾度試驗(yàn)

GB/T17626.4—2008

電磁兼容試驗(yàn)和測量技術(shù)浪涌沖擊抗擾度試驗(yàn)

GB/T17626.5—2008()

電磁兼容試驗(yàn)和測量技術(shù)共模傳導(dǎo)騷擾抗擾度試驗(yàn)

GB/T17626.16—20070Hz~150kHz

3術(shù)語和定義

下列術(shù)語和定義適用于本文件

31

.

電磁兼容性electromagneticcompatibilityEMC

;

電子設(shè)備在電磁干擾和靜電放電環(huán)境中正常工作且不對該環(huán)境中的任何事物構(gòu)成不

(EMI)(ESD)

能承受的電磁干擾的能力

。

32

.

電磁干擾electromagneticinterferenceEMI

;

電磁波譜的非離子化亞光學(xué)部分中任何可能會(huì)引起電子設(shè)備中不希望有的反應(yīng)的電磁信號(hào)

()。

33

.

靜電放電electrostaticdischargeESD

;

具有不同靜電電位的物體相互靠近或直接接觸引起的電荷轉(zhuǎn)移

。

34

.

超低頻磁場extremelylowfrequencymagneticELF

;

設(shè)備和設(shè)施內(nèi)電流產(chǎn)生的超低頻約為磁場

(1Hz~1kHz)

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