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文檔簡(jiǎn)介
第二篇X射線衍射
第三章多晶體分析方法◆粉末照相法(德拜-謝樂(lè)法)
◆X射線衍射儀
§3-1德拜-謝樂(lè)法
◆德拜花樣的愛(ài)瓦爾德圖解◆德拜相的攝照德拜法及愛(ài)瓦爾德圖解
入射線倒易球反射球O’O111200在粉末試樣中,各晶粒的(HKL)面的間距相等,故其倒易矢量gHKL=(1/dHKL)相等。且晶體的取向均勻,所以倒易結(jié)點(diǎn)分布在半徑gHKL球面上,此球被稱為倒易球?!舻掳菹嗟呐臄z---相機(jī)構(gòu)造光闌外殼試樣承光管熒光屏鉛玻璃相機(jī)的構(gòu)造示意圖
德拜相機(jī)為圓筒形暗盒,直徑一般為57.3mm或114.6mm。下圖為相機(jī)的構(gòu)造示意圖。入射線從光闌中心線進(jìn)入,照射到試樣后的透射線進(jìn)入承光管。從承光管底部可以看到X射線光點(diǎn)和試樣的暗影。Debye照相法德拜相的拍攝---底片安裝底片安裝方法由上而下正裝法、倒裝法、偏裝法德拜相的拍攝---試樣制備
1)
試樣:粉末圓柱體0.8mm×10mm,粉末顆粒10-5---10-3cm.2)試樣制備:材料→研磨成粉→過(guò)篩→退火去應(yīng)力;用涂膠水的玻璃絲在粉末上均勻滾動(dòng)或?qū)⒎勰┏涮钣?.5mm的非晶毛細(xì)石英管中.
德拜相的拍攝--規(guī)程的選擇
1)X射線管陽(yáng)極元素:Z靶=Z試樣+1
2)濾波片:濾波片原子序數(shù)低于靶元素原序數(shù)1(Z靶<40),或低2(Z靶≥40)的元素
3)管電壓:臨界電壓的3~5倍
3)管電流:額定功率的除以管電壓
4)曝光時(shí)間:依材料而定?!?-2X射線衍射儀
◆X射線儀的基本組成◆X射線測(cè)角儀◆探測(cè)與記錄系統(tǒng)
◆X射線衍射的常規(guī)測(cè)量
◆實(shí)驗(yàn)參數(shù)的選擇
X射線衍射儀已廣泛應(yīng)用于科研、生產(chǎn)部門(mén),并在主要的的測(cè)試領(lǐng)域取代了照相法。本節(jié)介紹我們使用較多的廣角衍射(3-160°)。對(duì)于小角衍射(用于大分子晶體和微觀尺寸)和單晶四圓衍射不多做介紹。
X射線衍射儀一般由X射線發(fā)生器、測(cè)角儀、輻射探測(cè)器、記錄單元或自動(dòng)控制單元。測(cè)角儀是其核心部分。
◆
X射線儀的基本組成
X射線發(fā)生器;衍射測(cè)角儀;輻射探測(cè)器;測(cè)量電路;控制操作和運(yùn)行軟件的電子計(jì)算機(jī)系統(tǒng)。高分辨衍射儀(D8-Discovre型,Bruker公司1999年產(chǎn)品)◆
X射線測(cè)角儀
●測(cè)角儀是X射線的核心組成部分●
試樣臺(tái)位于測(cè)角儀中心,試樣臺(tái)的中心軸ON與測(cè)角儀的中心軸垂直或平行?!?/p>
試樣臺(tái)既可以繞測(cè)角儀中心軸轉(zhuǎn)動(dòng),又可以繞自身中心軸轉(zhuǎn)動(dòng)?!?/p>
X射線測(cè)角儀----構(gòu)造測(cè)角儀圓X射線源試樣試樣臺(tái)支架計(jì)數(shù)管刻度尺接收狹縫◆
X射線測(cè)角儀----衍射幾何
滿足布拉格方程:試樣置于測(cè)角儀中心,繞中心軸連續(xù)轉(zhuǎn)動(dòng),使瞬時(shí)dHKL、λ、θ三者滿足布拉格關(guān)系的(HKL)產(chǎn)生衍射線.試樣由低角度到高角度轉(zhuǎn)動(dòng),使所有能參與衍射的晶面衍射
連動(dòng):試樣表面處在入射線和衍射線的反射位置上,確保狹縫光闌、探測(cè)器處于衍射方向,接收相應(yīng)晶面的衍射線.聚集圓:入射線管焦斑S、被照射的試樣表面MON、反射線的會(huì)聚點(diǎn)F(狹縫光闌)位于同一聚集圓上,確保反射線在F點(diǎn)聚焦接收
測(cè)角儀的聚集幾何
注:多晶體中晶粒取向混亂,在入射線照射到試樣表面的大量晶粒時(shí),只有那些平行于試樣表面、滿足布拉格方程的晶面產(chǎn)生衍射線,而且反射是瞬時(shí)的.而其它晶面雖滿足布拉格方程,但與試樣表面不平行,產(chǎn)生的衍射線不能會(huì)聚于狹縫光闌而接收.可見(jiàn)衍射儀接收的衍射線強(qiáng)度小于德拜法.◆
X射線測(cè)角儀----試樣
根據(jù)聚集圓原理,試樣應(yīng)為與圓相吻的弧面,實(shí)際上為制造方便,采用平板試樣.將粉末試樣放在20mm×15mm×2mm的樣品框中,填平、壓緊、刮平.粉末顆粒大小適中,過(guò)粗難壓緊成型,且照射的顆粒少,衍射強(qiáng)度不穩(wěn)定.過(guò)細(xì)使衍射線寬化,并妨礙弱線的出現(xiàn).
◆
X射線測(cè)角儀----光學(xué)布置
發(fā)散狹縫防散射狹縫接收狹縫索拉狹縫限制入射線的水平發(fā)散
限制衍射線的水平發(fā)散限制衍射線的水平發(fā)散。狹縫增大可以獲得較強(qiáng)射線,索拉狹縫由一系列金屬片組成,限制豎直方向的射線發(fā)散?!籼綔y(cè)與記錄系統(tǒng)-----探測(cè)器
正比計(jì)數(shù)管(PC)閃爍計(jì)數(shù)管(SC)固體檢測(cè)器(SSD)位敏正比計(jì)數(shù)管■正比(氣體電離)計(jì)數(shù)管(PC)入射光子與惰性氣體碰撞,使氣體電離成電子和正離子,電子在電場(chǎng)的作用下向陽(yáng)極加速運(yùn)動(dòng),高速運(yùn)動(dòng)電子又使氣體電離,再產(chǎn)生電子向陽(yáng)極運(yùn)動(dòng),如此循環(huán)下去,每個(gè)光子產(chǎn)生大量的電子涌向陽(yáng)極----雪崩效應(yīng)---可探測(cè)的脈沖電流----電壓脈沖信號(hào)輸出.■閃爍計(jì)數(shù)管(SC)X射線激發(fā)磷光體發(fā)射可見(jiàn)光.一個(gè)光子照射到鉈活化的碘化鈉單晶體,產(chǎn)生一閃光,閃光碰撞光敏陰極材料,產(chǎn)生很多電子,其中每一電子經(jīng)光電倍增管的10聯(lián)極(每個(gè)聯(lián)極遞增100V正電壓),產(chǎn)生106—107個(gè)電子,結(jié)果在聯(lián)極的末端產(chǎn)生一脈沖電流,經(jīng)外電路轉(zhuǎn)化為電壓脈沖
◆探測(cè)與記錄系統(tǒng)---計(jì)數(shù)測(cè)量
計(jì)數(shù)測(cè)量中的主要電路◆探測(cè)與記錄系統(tǒng)---計(jì)數(shù)器1.定標(biāo)器(間歇式):①定時(shí)計(jì)數(shù)法:設(shè)定時(shí)間內(nèi),接收電壓脈沖數(shù),求出單位時(shí)間光子數(shù)(CPS)②定數(shù)計(jì)時(shí)法:設(shè)定脈沖數(shù),測(cè)定計(jì)數(shù)時(shí)間,求出單位時(shí)間光子數(shù)(CPS)
2.計(jì)數(shù)率儀(連續(xù)式)
經(jīng)RC電路計(jì)數(shù)計(jì)時(shí)同時(shí)進(jìn)行測(cè)量單位時(shí)間的脈沖數(shù),并轉(zhuǎn)化為平均直流電壓值(與平均脈沖速率成正比)輸出,再由電子電位差計(jì)繪出平均直流電壓值與衍射角變化曲線,即衍射圖.
◆X射線衍射的常規(guī)測(cè)量--連續(xù)掃描該法效率高,精度差,用于物相定性分析.采用計(jì)數(shù)率儀計(jì)數(shù),試樣與計(jì)數(shù)管以1:2角速轉(zhuǎn)動(dòng),計(jì)數(shù)管以一定的掃描速度,從起始角向終止角掃描.記錄每一瞬時(shí)衍射角的衍射強(qiáng)度,繪制衍射圖.
主要參數(shù):
①掃描起始角、終止角.
②掃描速度
:…
X-射線衍射譜
Zr41.3Ti14.2Cu12.8Ni10.3Be21.4大塊非晶原始態(tài)(a)、脈沖電流處理態(tài)(b)、330℃1h等溫預(yù)退火態(tài)XRD分析結(jié)果◆X射線衍射的常規(guī)測(cè)量—階梯掃描
該法采用定標(biāo)器計(jì)數(shù),速度慢、精度高,常用于精確測(cè)定衍射峰的積分強(qiáng)度、衍射角.計(jì)數(shù)器在較小角度范圍內(nèi),按預(yù)先設(shè)定的步進(jìn)寬度(如此0.020)、步進(jìn)時(shí)間(如5s),從起始角到終止角,測(cè)量各角的衍射強(qiáng)度.主要參數(shù):
①步進(jìn)寬度:計(jì)數(shù)器計(jì)數(shù)測(cè)量的衍射角間隔.②步進(jìn)時(shí)間:
計(jì)數(shù)器在每一衍射角的計(jì)數(shù)測(cè)量時(shí)間.
步進(jìn)掃描衍射圖
◆實(shí)驗(yàn)參數(shù)的選擇狹縫光闌寬度
入射狹縫K寬度,10
防散射光闌:
0.05mm、0.1mm、0.2mm、0.4mm,常用0.2mm、0.4mm掃描速度:掃描速度高,測(cè)試時(shí)間短,但導(dǎo)致衍射強(qiáng)度和分辨率下降,產(chǎn)生衍射峰畸變。常用20---40/min時(shí)間常數(shù)(RC):RC選擇過(guò)
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