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第三章半導(dǎo)體中載流子的統(tǒng)計(jì)分布§3.1狀態(tài)密度假設(shè)在能帶中能量E與E+dE之間的能量間隔dE內(nèi)有dZ個(gè)量子態(tài),則定義狀態(tài)密度g(E)為:計(jì)算狀態(tài)密度的步驟:
1.單位K空間中的量子態(tài)數(shù)(即K空間的狀態(tài)密度)2.dE所對(duì)應(yīng)的K空間體積
3.dE間的量子態(tài)數(shù)dZ
(1、2項(xiàng)相乘)
4.根據(jù)上式求出狀態(tài)密度g(E)
nx,ny,nz為整數(shù)每個(gè)允許的能量狀態(tài)在k空間中與由整數(shù)組(nx,ny,nz)決定的一個(gè)代表點(diǎn)(kx,ky,kZ
)相對(duì)應(yīng)體積為1/V的一個(gè)立方體中有一個(gè)代表點(diǎn),點(diǎn)密度為v相對(duì)應(yīng)在k空間中,如果計(jì)入電子的自旋,電子的允許量子態(tài)密度是2×V每個(gè)量子態(tài)最多容納一個(gè)電子kZkykx晶體體積一、球形等能面情況
假設(shè)導(dǎo)帶底在k=0處,且則導(dǎo)帶底狀態(tài)密度:同理,可推得價(jià)帶頂狀態(tài)密度:二、旋轉(zhuǎn)橢球等能面情況:導(dǎo)帶底狀態(tài)密度價(jià)帶頂狀態(tài)密度:由此可知:狀態(tài)密度gC(E)和gV(E)與能量E有拋物線關(guān)系,還與有效質(zhì)量有關(guān),有效質(zhì)量大的能帶中的狀態(tài)密度大?!?.2費(fèi)米能級(jí)和載流子統(tǒng)計(jì)分布1、費(fèi)米分布函數(shù)電子遵循費(fèi)米-狄拉克(Fermi-Dirac)統(tǒng)計(jì)分布規(guī)律。能量為E的一個(gè)獨(dú)立的量子態(tài)被一個(gè)電子占據(jù)的幾率為
f(E)電子的費(fèi)米分布函數(shù)k0為波爾茲曼常數(shù)EF為費(fèi)米能級(jí),它與溫度、半導(dǎo)體材料的導(dǎo)電類型、雜質(zhì)的含量以及能量零點(diǎn)的選取有關(guān)2、費(fèi)米能級(jí)EF的意義T=0:
fF(E)=1,
當(dāng)E<EF時(shí)
fF(E)=0,當(dāng)E>EF時(shí)T>0:
fF(E)>1/2,當(dāng)E<EF時(shí)
fF(E)=1/2,當(dāng)E=EF時(shí)
fF(E)<1/2,當(dāng)E>EF時(shí)EF01EF的意義EF的位置比較直觀地反映了電子占據(jù)量子態(tài)的情況。即標(biāo)志了電子填充能級(jí)的水平。EF越高,說(shuō)明有較多的能量較高的量子態(tài)上有電子占據(jù)。隨著溫度的升高,電子占據(jù)能量小于費(fèi)米能級(jí)的量子態(tài)的幾率下降,而占據(jù)能量大于費(fèi)米能級(jí)的量子態(tài)的幾率增大二、波爾茲曼(Boltzmann)分布函數(shù)費(fèi)米統(tǒng)計(jì)律與波爾茲曼統(tǒng)計(jì)律的主要差別在于:
費(fèi)米統(tǒng)計(jì)受泡利不相容原理的限制在E-EF》k0T
時(shí)泡利原理失去作用,兩者趨于一致當(dāng)E-EF》k0T時(shí),由于
三、空穴的分布函數(shù)f(E)表示能量為E的量子態(tài)被電子占據(jù)的幾率,因而1-f(E)就是能量為E的量子態(tài)不被電子占據(jù)的幾率,也就是被空穴占據(jù)的幾率,故EF-E》k0T時(shí)為空穴的波爾茲曼分布函數(shù),它表明當(dāng)E遠(yuǎn)低于EF時(shí),空穴占據(jù)能量為E的量子態(tài)的幾率很小。即這些量子態(tài)都被電子占據(jù)了。通常,EF位于禁帶內(nèi),與導(dǎo)帶底或價(jià)帶頂?shù)木嚯x遠(yuǎn)大于k0T
對(duì)導(dǎo)帶導(dǎo)帶中的電子分布服從波爾茲曼函數(shù)。隨著能量E的增大,f(E)迅速減小,所以導(dǎo)帶中絕大多數(shù)電子分布在導(dǎo)帶底附近。對(duì)價(jià)帶價(jià)帶中的空穴分布服從波爾茲曼函數(shù)。隨著能量E的增大,1-f(E)迅速增大,所以價(jià)帶中絕大多數(shù)空穴分布在價(jià)帶頂附近。
服從波爾茲曼分布的電子系統(tǒng)
非簡(jiǎn)并系統(tǒng)
相應(yīng)的半導(dǎo)體
非簡(jiǎn)并半導(dǎo)體服從費(fèi)米分布的電子系統(tǒng)簡(jiǎn)并系統(tǒng)
相應(yīng)的半導(dǎo)體簡(jiǎn)并半導(dǎo)體四、導(dǎo)帶中的電子濃度和價(jià)帶中的空穴濃度本征載流子的產(chǎn)生和復(fù)合:在一定溫度T下,產(chǎn)生過(guò)程與復(fù)合過(guò)程之間處于動(dòng)態(tài)的平衡,這種狀態(tài)就叫熱平衡狀態(tài)。處于熱平衡狀態(tài)的載流子n0和p0稱為熱平衡載流子。它們保持著一定的數(shù)值。
導(dǎo)帶中電子濃度的計(jì)算步驟:將導(dǎo)帶分為無(wú)限多的無(wú)限小的能量間隔dE間有dz=gc(E)dE個(gè)量子態(tài)電子占據(jù)能量為E的量子態(tài)的幾率是f(E)在dE間有f(E)gc(E)dE個(gè)被電子占據(jù)的量子態(tài)每個(gè)被占據(jù)的量子態(tài)上有一個(gè)電子在dE間有f(E)gc(E)dE
個(gè)電子把所有的能量區(qū)間中的電子數(shù)相加就得到了能帶中的電子總數(shù)除以半導(dǎo)體的體積,就得到了導(dǎo)帶中的電子濃度單位體積的電子數(shù)n0和空穴數(shù)p0:則上面的推導(dǎo)中利用了積分公式NC為導(dǎo)帶的有效狀態(tài)密度NV為價(jià)帶的有效狀態(tài)密度容易看出:Nc∝和Nv∝
由式:(1)當(dāng)材料一定時(shí),n0、p0隨EF和T而變化
EF與T及雜質(zhì)有關(guān)(2)當(dāng)溫度T一定時(shí),n0×p0僅僅與本征材料有關(guān)。與EF及雜質(zhì)無(wú)關(guān)可得:熱平衡狀態(tài)下的非簡(jiǎn)并半導(dǎo)體均適用
§3.3本征半導(dǎo)體的載流子濃度在熱平衡態(tài)下,半導(dǎo)體是電中性的,即:
n0=p0(1)容易得到本征半導(dǎo)體費(fèi)米能級(jí)上式中第二項(xiàng)小得多,故Ef
Ei
在禁帶中線處
一般溫度下,Si、Ge、GaAs等本征半導(dǎo)體的EF近似在禁帶中央Ei,只有溫度較高時(shí),EF才會(huì)偏離Ei。
磷化銦是個(gè)例外由(5)式
可以看到:1、對(duì)不同材料,溫度一定時(shí),Eg大的材料,ni?。?、對(duì)同種材料,ni隨溫度T增加按指數(shù)關(guān)系上升。一般半導(dǎo)體器件,載流子主要來(lái)源于雜質(zhì)電離,而將本征激發(fā)忽略不計(jì)。當(dāng)溫度足夠高時(shí),本征激發(fā)占主要地位,器件將不能正常工作,因此,每種器件都有一定的極限工作溫度?!?.4雜質(zhì)半導(dǎo)體的載流子濃度一、雜質(zhì)能級(jí)上的電子和空穴雜質(zhì)能級(jí)最多只能容納某個(gè)自旋方向的電子。電子占據(jù)施主能級(jí)ED的幾率
空穴占據(jù)受主能級(jí)EA的幾率施主濃度:ND
受主濃度:NA:
(1)雜質(zhì)能級(jí)上未離化的載流子濃度nD和pA
:(2)電離雜質(zhì)的濃度nd+和pA-雜質(zhì)能級(jí)與費(fèi)米能級(jí)的相對(duì)位置反映了電子和空穴占據(jù)雜質(zhì)能級(jí)的情況EF遠(yuǎn)在ED之下時(shí),施主雜質(zhì)幾乎全部電離EF遠(yuǎn)在ED之上時(shí),施主雜質(zhì)基本沒(méi)有電離當(dāng)ED
與EF重合時(shí),施主雜質(zhì)有1/3電離,2/3沒(méi)電離同理EF遠(yuǎn)在EA之上時(shí),受主雜質(zhì)幾乎全部電離EF遠(yuǎn)在EA之下時(shí),受主雜質(zhì)基本沒(méi)有電離當(dāng)EA
與EF重合時(shí),受主雜質(zhì)有1/3電離,2/3沒(méi)電離二、n型半導(dǎo)體的載流子濃度
假設(shè)只含一種n型雜質(zhì)。在熱平衡條件下,半導(dǎo)體是電中性的,電中性條件為:
則
當(dāng)溫度從低到高變化時(shí),對(duì)不同溫度還可將此式進(jìn)一步簡(jiǎn)化
n型Si中電子濃度n與溫度T的關(guān)系:本征激發(fā)區(qū)雜質(zhì)離化區(qū)過(guò)渡區(qū)1、雜質(zhì)離化區(qū)特征:本征激發(fā)可以忽略,p0≌0
導(dǎo)帶電子主要由電離雜質(zhì)提供。電中性條件n0=p0+nD+
可近似為
n0=nD+(1)低溫弱電離區(qū):
特征:nD+《NDp0=0弱電離極低溫時(shí)T→0Klim(TlnT)=0故NC與T有關(guān),雜質(zhì)含量越高,EF達(dá)到極值的溫度也越高
費(fèi)米能級(jí)位于導(dǎo)帶底和施主能級(jí)間的中線處(2)中間電離區(qū)溫度繼續(xù)升高,當(dāng)2NC>ND后,ln(ND
/2NC)<0
費(fèi)米能級(jí)降到(EC+ED)/2以下當(dāng)溫度升高到EF=ED時(shí),則
施主雜質(zhì)有1/3電離
(3)強(qiáng)電離區(qū):
特征:雜質(zhì)基本全電離nD+≌ND
電中性條件簡(jiǎn)化為n0=ND一般代入上式可得室溫時(shí)硅中施主雜質(zhì)達(dá)到全部電離時(shí)的雜質(zhì)濃度上限令則D-未電離施主占施主雜質(zhì)數(shù)的百分比通常施主雜質(zhì)全部電離的標(biāo)準(zhǔn)是90%,則D-約為10%D-與溫度、雜質(zhì)濃度、和雜質(zhì)電離能有關(guān)雜質(zhì)濃度越高,達(dá)到全部電離的溫度就越高。所謂的室溫下雜質(zhì)全部電離是忽略了雜質(zhì)濃度的限制例:摻磷的n型硅,室溫時(shí)雜質(zhì)全部電離的濃度上限室溫時(shí),硅的本征載流子濃度約為1010,則室溫時(shí)磷濃度在1011~1017范圍內(nèi),可以認(rèn)為是以雜質(zhì)電離為主,而且處于雜質(zhì)全部電離的飽和區(qū)由D-還可確定、ND
一定時(shí),雜質(zhì)全部電離所需的溫度決定雜質(zhì)全電離
(nD+≧90%ND)的因素:1、雜質(zhì)電離能;
2、雜質(zhì)濃度。在室溫(RT)時(shí),當(dāng)雜質(zhì)濃度≧10ni時(shí),
nD+≌ND施主雜質(zhì)全部電離時(shí)n0=ND載流子濃度與溫度無(wú)關(guān)飽和區(qū):載流子濃度保持等于雜質(zhì)濃度的溫度范圍2、過(guò)渡區(qū):半導(dǎo)體處于飽和區(qū)和完全本征激發(fā)之間
電中性條件:n0=ND+p0則顯然:n0》p0,這時(shí)的過(guò)渡區(qū)接近于強(qiáng)電離區(qū)。多數(shù)載流子(多子)n0少數(shù)載流子(少子)p03.高溫本征激發(fā)區(qū)
n0》ND電中性條件:n0=p0費(fèi)米能級(jí)接近禁帶中線載流子濃度隨溫度升高而迅速增加,雜質(zhì)濃度越高,達(dá)到本征激發(fā)起主要作用的溫度也越高摻雜半導(dǎo)體的載流子濃度和費(fèi)米能級(jí)由溫度和雜質(zhì)濃度所決定雜質(zhì)濃度一定時(shí)
隨溫度的升高,載流子從以雜質(zhì)電離為主過(guò)渡到以本征激發(fā)為主,相應(yīng)地費(fèi)米能級(jí)則從雜質(zhì)能級(jí)附近逐漸移近禁帶中線處溫度一定時(shí),費(fèi)米能級(jí)的位置由雜質(zhì)濃度決定在雜質(zhì)半導(dǎo)體中,費(fèi)米能級(jí)的位置不但反映了半導(dǎo)體的導(dǎo)電類型,而且還反映了半導(dǎo)體的摻雜水平對(duì)n型,EF位于禁帶中線以上,ND越大,EF越高對(duì)p型,EF位于禁帶中線以下,NA越大,EF越低EF強(qiáng)p型弱p型本征型弱n型強(qiáng)n型EiEcEv4.少數(shù)載流子濃度n型半導(dǎo)體p型半導(dǎo)體少子濃度與成正比,與多子濃度成反比隨T增加,少子濃度增加飽和區(qū)不變§3.5一般情況下(即雜質(zhì)補(bǔ)償情況)的載流子統(tǒng)計(jì)分布電中性條件:如果半導(dǎo)體中存在若干種施主雜質(zhì)和受主雜質(zhì),則電中性條件為上式中的變數(shù)僅有EF和T,由此可求出EF考慮n型半導(dǎo)體即ND>NA時(shí)(1)溫度很低時(shí)p0=0pA
=0電中性條件為ND=n0+NA+nD極低溫時(shí),很小,而NA很大,《NA則得低溫下NA<<<<ND當(dāng)ND<2NC時(shí)EF位于ED與EC之間的中線以下當(dāng)ND>2NC時(shí)EF位于ED與EC之間的中線以上(2)溫度升高施主電離增加,如果ND>>NA,此時(shí),受主雜質(zhì)已不產(chǎn)生顯著作用,情況與單一摻雜相同(3)當(dāng)溫度升高到使EF降到ED之下,且滿足
ED-EF》k0T時(shí)施主雜質(zhì)全部電離,則電中性條件為(4)ND-NA
與ni相近,則電中性條件為n0+NA=p0+ND與聯(lián)立求解可得§3.6簡(jiǎn)并(重?fù)诫s)
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