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內(nèi)容PN結(jié)的形成及能帶圖像PN結(jié)的特性PN結(jié)的電流-電壓特性PN結(jié)的電容-電壓特性pn結(jié)電容簡(jiǎn)述突變結(jié)的電容電壓特性線性緩變結(jié)的勢(shì)壘電容擴(kuò)散電容pn結(jié)電容簡(jiǎn)述pn結(jié)的整流特性的頻率響應(yīng)電容:描述電子系統(tǒng)電荷存儲(chǔ)能力的物理量C=DQ/DV,C=dQ/dV,pn結(jié)電容效應(yīng)的來源:空間電荷耗盡區(qū)的電容CT;外加偏壓下擴(kuò)散區(qū)的非平衡載流子注入引起的電容CD;勢(shì)壘電容CT正偏壓:擴(kuò)散作用增強(qiáng),空間電荷區(qū)減??;負(fù)偏壓:漂移作用增強(qiáng),空間電荷區(qū)增大;勢(shì)壘區(qū)空間電荷的變化引起的電容稱為勢(shì)壘電容;p區(qū)n區(qū)
-+p區(qū)n區(qū)
-+p區(qū)n區(qū)
-+平衡正偏壓負(fù)偏壓外加偏壓作用下擴(kuò)散、漂移運(yùn)動(dòng)的競(jìng)爭(zhēng)作用導(dǎo)致空間電荷區(qū)的變化擴(kuò)散電容正向偏壓下,擴(kuò)散區(qū)非平衡載流子數(shù)目隨外加偏壓增強(qiáng)而增加;由擴(kuò)散區(qū)非平衡載流子電荷引起的電容稱為擴(kuò)散電容DpDnp區(qū)n區(qū)
V1V2V1>V2正向偏壓下擴(kuò)散區(qū)的非平衡載流子分布Dpn(x)Dnp(x)突變結(jié)的電容電壓特性突變結(jié)模型勢(shì)壘區(qū)的電荷密度:勢(shì)壘區(qū)寬度:----++++++勢(shì)壘區(qū)pnN(x)NDNAr(x)qNDqNA++++++----雜質(zhì)電荷密度xn-xp00電中性條件:例:
如pn結(jié)p區(qū)摻雜NA=1016cm-3;n區(qū)摻雜ND=1018cm-3;則:
xp=100xnxD=xp+xn≈xp勢(shì)壘區(qū)主要在雜質(zhì)濃度低的一端擴(kuò)展:勢(shì)壘區(qū)pn泊松方程:DV=-r/e;突變結(jié)勢(shì)壘區(qū)的泊松方程:V(x)為勢(shì)壘區(qū)內(nèi)電勢(shì);積分得:邊界條件:外加電勢(shì)只降落于勢(shì)壘區(qū)(耗盡層近似)因此:
ε(-xp)
ε(xn)
ε1(x)
ε2(x)----++++++pnεεmxn-xpεm=-qNAxp/ere0=qNDxn/ere0設(shè)p區(qū)中性區(qū)電勢(shì)為0,則所以:電勢(shì)分布:----++++++pnVxn-xpVDVDE突變結(jié)的勢(shì)壘寬度接觸電勢(shì)差:所以:?jiǎn)芜呁蛔兘Y(jié)如果pn結(jié)兩邊摻雜濃度相差較大,則VD,XD只由低摻雜一邊的雜質(zhì)濃度決定
例:p+n結(jié):NA>>ND,xn>>xp,XD≈xn
例:p+n結(jié):NA>>ND,xn>>xp,XD≈xn勢(shì)壘高度也可以表達(dá)為:VD=
-εmXD/2經(jīng)驗(yàn)公式(Si):NB(cm-3)1014101510161017XD(mm)3.11.00.310.1VD=0.75eV非平衡態(tài)的pn結(jié)(外加電壓)PN結(jié)的偏置電壓:正向偏壓:P區(qū)接正極;V>0;反向偏壓:N區(qū)接負(fù)極;V<0;不同偏置電壓下的pn結(jié)正向偏壓:勢(shì)壘減小勢(shì)壘寬度減小反向偏壓:勢(shì)壘增大勢(shì)壘寬度增大推廣:外加偏壓V勢(shì)壘區(qū)壓降:VD-V;則勢(shì)壘寬度:勢(shì)壘寬度隨正向偏壓增大而減??;隨反向偏壓增大而增大;p+n結(jié)pn+結(jié)突變結(jié)的勢(shì)壘電容勢(shì)壘區(qū)電荷:代入勢(shì)壘區(qū)寬度:?jiǎn)挝幻娣e微分電容:設(shè)pn結(jié)面積為A,則勢(shì)壘電容:對(duì)p+n或pn+結(jié):突變結(jié)勢(shì)壘電容影響因子:NB,A(控制電容);隨外加偏壓變化:正偏壓下勢(shì)壘電容的修正(結(jié)電流貢獻(xiàn)):勢(shì)壘電容和平行板電容的比較:XD隨所加偏壓變化;線性緩變結(jié)線性緩變結(jié)勢(shì)壘電容勢(shì)壘區(qū)電荷密度:aj:勢(shì)壘區(qū)雜質(zhì)濃度梯度;令xj=0,勢(shì)壘區(qū)邊界為:±XD/2求解泊松方程:一次積分ND-NAxxj線性緩變結(jié)++++++——————邊界條件:(耗盡層近似)勢(shì)壘區(qū)電場(chǎng):電場(chǎng)最大值:εx-XD/2XD/2εmε(x)繼續(xù)積分:設(shè)x=0;V(0)=0;B=0勢(shì)壘區(qū)電勢(shì):接觸電勢(shì)差:εx-XD/2XD/2εmVxVD/2EVD勢(shì)壘寬度:外加偏壓V:
接觸電勢(shì)差:
勢(shì)壘區(qū)寬度:勢(shì)壘區(qū)電量:電容:擴(kuò)散電容n,p擴(kuò)散區(qū)電量:DnDpp區(qū)n區(qū)
V1V2V1>V2擴(kuò)散電容n,p擴(kuò)散區(qū)電量:n,p擴(kuò)散區(qū)電容總電容:pn結(jié)微分電容:p+n結(jié)的擴(kuò)散電容:擴(kuò)散電容公式只適用于低頻情況;比較:CT,CD大正偏壓:CD>CT;反向偏壓:CT>CD;例:設(shè)Sipn結(jié)兩邊摻雜分別為Na=1016cm-3,Nd=1015cm-3,(ni=1.5×1010cm-3)1.求接觸電勢(shì)差VD。2.求勢(shì)壘區(qū)寬度。3.求勢(shì)壘區(qū)電場(chǎng)極大值。VD=0.635eV;XD=0.951mm;εm=-1.34×104V/cm例:一個(gè)pn結(jié)二極管在反向偏壓為2V時(shí)電容為200pF,試問需要多大的反向偏壓,才能使電容減小到100pF?(VD=0.85V)電容電壓特性的應(yīng)用單邊突變結(jié)電容:電容電壓曲線斜率:2/qesNB;截距:V=Vbi線性緩變結(jié):CV特性測(cè)量雜質(zhì)分布小電壓作用下:帶入:Cj=es/W得:變?nèi)萜鞣聪蜃儔旱膭?shì)壘電容:n:靈敏度超突變結(jié):n>1/2p+n結(jié):ND(x)=B(x/x0)mPn結(jié)n型區(qū)電導(dǎo)率遠(yuǎn)高于p型區(qū),則pn結(jié)電流主要是空穴電流還是電子電流?Pn結(jié)的接觸電勢(shì)差有無可能超過禁帶寬度?為什么?畫出pn結(jié)在均勻光照下的能帶圖
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