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文檔簡介

磁控濺射技術和透明導電薄膜薄膜的種類及應用磁控濺射技術原理及應用透明導電薄膜性能及應用薄膜：在固體表面上鍍上一層于基體材料不同的薄層材料。厚度通常在幾微米以下。電學薄膜光學薄膜機械薄膜薄膜的制備手段氣相法：化學氣相沉積（CVD）物理氣相沉積（PVD）——熱蒸發(fā)

濺射

離子鍍分子束外延液相法：化學鍍、電鍍、浸漬鍍等。其他方法：噴涂、涂敷等。濺射原理濺射示意圖薄膜的生長電子在正交電磁場中的運動磁控濺射靶材結構圖磁控濺射儀器外觀

大型多弧離子/磁控濺射鍍膜機?？稍谳^大體積的工件表面鍍制厚度均勻的金屬、合金、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物等防腐、耐磨、導電透明等多種功能薄膜。磁控濺射技術的優(yōu)點薄膜與基底的結合力強。鍍膜均勻，可鍍大面積薄膜。鍍膜種類豐富：各種金屬(合金)薄膜各種金屬氧化物、碳化物、氮化物、硼化物等薄膜其它(如類金剛石薄膜等)

基底種類豐富：金屬、玻璃、陶瓷、有機玻璃(薄膜)等透明導電薄膜種類氧化銦錫（ITO）摻鋁氧化鋅（ZAO）多層結構：ITO/Ag/ITO、TiO2/Ag/TiO2、ITO/ZnO、SiO2/ITOITO薄膜電學性能電阻率7×10-5~10-4Ω?cm與金屬鉛導電能力接近。ITO薄膜光學性能透明導電薄膜的應用液晶顯示器（LCD）觸摸屏太陽能電池保溫、隔熱電磁屏蔽軍事領域：雷達隱身透明導電薄膜

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