材料研究方法課件期中復(fù)習(xí)

1.材料分析的 1.材料分析的大晶粒、顆粒0.2-多晶10-微晶1.橫波與縱3900-7700自然自然光、偏振 、光性非均全消光、四次消雙折射現(xiàn)2. ——光性 (各向同性介質(zhì) ——光性非 ——光性 (各向同性介質(zhì)——光性非 (各異性介質(zhì)光波在非均播時(shí)，其速度隨4光率 中中級(jí)晶族（、四方、六方晶系）a=b≠c，α=β=γ=90°（四方晶系）三軸橢球體Ng>Nm>Np主軸Ng、Nm、主軸Ng、Nm、光軸面（鈍角等分線(xiàn)正光性：Ng-Nm>Nm-負(fù)光性：Ng-Nm<Nm-晶體形態(tài)、大小、含量、顏色、多色性、解 平行消光斜消光對(duì)稱(chēng)消光正延性負(fù)延性——選——選擇更短的波長(zhǎng)——采用折射率很高的材料——增大顯微鏡的孔徑角第三章X射線(xiàn)衍射分X 3.1.1XX3.1.1XX-Ray3.1.23.1.2X射線(xiàn)的產(chǎn)X-X-5-50Mg(12)-W(74)(dependsondesired鈹（Be）tominimize3.1.3X射線(xiàn)ContinuousandcharacteristicradiationforX射X射線(xiàn)連X射線(xiàn)連續(xù)譜的短波長(zhǎng)極限hc 3.1.4X射線(xiàn)特征譜Theatomicelectronmayberemoved俄歇效應(yīng)（Auger 俄歇效應(yīng)（AugerX射X射線(xiàn)波長(zhǎng)與吸收系數(shù)的布拉格 定律KZ4Kisanempiricalconstantthatisdifferentoneachsideofeachoftheabsorptionedges.吸收限的形成源數(shù)有X射X射線(xiàn)吸收限的X射線(xiàn)濾例Cu靶+Ni濾波3.2.2.2布拉格方粉末衍射儀的工和2θ粉末衍射儀的工和2θ5.單2dsinθ=3.43.4X最基本的衍射實(shí)驗(yàn)方法有：粉末法 法、轉(zhuǎn)晶表3-4 輻射法連續(xù)輻 單晶 樣品固固相3.4.2X粉末衍射儀的構(gòu)3.5X 哈那瓦爾特（Hanawalt）3.5X哈那瓦爾特（Hanawalt）3.63.6X射線(xiàn)物相分析方定量分析基礎(chǔ)理IGGC1外標(biāo)法、內(nèi)標(biāo)法、基復(fù)形選區(qū)電子衍二次電子、背散射電子、吸收提高顯微分析分辨率的光學(xué)顯微分析的分辨本領(lǐng)提高RP0610N nsin 加速電壓 SEM的SEM的結(jié)信號(hào)收集系電源系入樣與樣品與樣品的不同激發(fā)信息都有其不同的作用深度SEM的主要性放大倍分辨本領(lǐng)景特征X 構(gòu)構(gòu)Energy-DispersiveEnergy-DispersiveX-RaySpectroscopy能量色散譜儀（能譜儀,EDS分析的種Therearethreemodes ysiscommonly定點(diǎn)元素全面掃描分析線(xiàn)掃描分析波長(zhǎng)波長(zhǎng)分散譜儀(波譜儀或光譜儀波譜能譜射特性進(jìn)行成分較較分析范Z>4(無(wú)窗口分辨本~5eV（較高 ~130eV（5.9KeV）（較差幾十分幾分特 -CondenserlensesObjectivelens,Projectorlenses--特-CondenserlensesObjectivelens,Projectorlenses--TEM的TEM的分析模圖像模選區(qū)電Thecondenserlensandaperturewillcontrolelectronbeamtohitthespecimen,thetransmittedbeamwillbeTEM的分析模圖像模選區(qū)電子衍射模多晶玻璃（非晶態(tài)）：同心環(huán)選區(qū)選區(qū)電子衍射布拉格方程=2d電子衍射圖像完全取決于晶體結(jié)構(gòu)及其d值圖像模withdifferentTEM圖像可以通過(guò)以下機(jī)制獲得對(duì)比度（襯度bystructural（Rutherford) （Rutherford)應(yīng)來(lái)產(chǎn)生晶體樣品像襯度的法。透射透射電鏡像襯形成原理3---位相襯TEM的圖像模在TEM分析時(shí)可采用三種基本圖像模式modesdifferinthewayopticssystem.明場(chǎng)明場(chǎng)圖像模暗場(chǎng)圖像利用特殊的布拉格衍射電子成像，可提供特殊局域的衍射信息。 IAIIAII-B晶粒像襯度：I)IAIBA明場(chǎng)明場(chǎng)Vs暗場(chǎng)襯度對(duì)暗場(chǎng)圖IA(I)IAAVsII，(I)IBIhkl(I)IAIBrightfieldDarkfieldTEM圖TEM圖象的