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1.楊氏雙縫實驗干涉相長(明紋極大)dsin6=+k2S=d.=±2k(k=0,1,2,3干涉相消〔暗紋極小)δ=d·=±(2k-1)(k=1,2,3.D明紋(或暗紋)間距△x=22d2.薄膜干涉光程差=2e√m2-m2sin2i+21等傾干涉入射角相同的光束構成一條等傾干涉條紋22等厚干涉平行光垂直入射時光程差6=2n2e+海膜厚度相等的點構成一條等厚干涉條紋海膜厚度變化不同,形成不同的干涉圖樣。相鄰條紋處薄膜厚度差△e等厚干涉之一:劈尖△e=lsin牛頓環(huán)e2R-e2R明(暗)紋半徑rk=√kR(k=0,1,2.)暗(2k-1)RTk(k=1,2,3.)明例1在楊氏雙縫實驗裝置中,試描述在下列情況下干涉條紋將如何變化?1)當兩縫的間距增大時2)當雙縫的競度增大時3)當把一條縫稍稍加寬時4)當遮住一條縫時5)當線光源S平行于雙縫移動時6)當線光源S向雙縫屏移近時7)當線光源S逐漸增寬時D明紋〔或暗紋)間距Ax=a1)d增大時,明紋間距將變小,條紋向中間密集。2)a增大時,場內(nèi)光能將增大,干涉條紋的亮度增加。但由于光通過單縫所形成的衍射中央明區(qū)的范圍變小,因而在該范圍內(nèi)的干涉條紋數(shù)減少3)當稍稍加寬一條縫時,通過兩縫的光強不同。在屏上疊加所產(chǎn)生的涉現(xiàn)象,因兩光振動的振幅不同,干涉相消處〔暗條紋)的光強不等于零,所以干涉條紋的可見度下降4)當遮住一條縫時,則成為單縫衍射裝置,屏上將出現(xiàn)單縫衍射的光強分布,即

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