第三章半導(dǎo)體中載流子的統(tǒng)計(jì)分布_第1頁
第三章半導(dǎo)體中載流子的統(tǒng)計(jì)分布_第2頁
第三章半導(dǎo)體中載流子的統(tǒng)計(jì)分布_第3頁
第三章半導(dǎo)體中載流子的統(tǒng)計(jì)分布_第4頁
第三章半導(dǎo)體中載流子的統(tǒng)計(jì)分布_第5頁
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文檔簡介

第三章半導(dǎo)體中載流子的統(tǒng)計(jì)分布第1頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月

在一定溫度下,若無其它外界作用,半導(dǎo)體中的導(dǎo)電電子和空穴是依靠電子的熱激發(fā)作用而產(chǎn)生的,電子從熱振動(dòng)的晶格中獲得能量,可從低能量的量子態(tài)躍遷到高能量的量子態(tài).如本征激發(fā),形成導(dǎo)帶電子和價(jià)帶空穴第2頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月

電子和空穴也可以通過雜質(zhì)電離方式產(chǎn)生,當(dāng)電子從施主能級(jí)躍遷到導(dǎo)帶時(shí)產(chǎn)生導(dǎo)帶電子;當(dāng)電子從價(jià)帶激發(fā)到受主能級(jí)時(shí)產(chǎn)生價(jià)帶空穴等。第3頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月

相反的過程----即電子也可以從高能量的量子態(tài)躍遷到低能量的量子態(tài),并向晶格放出一定能量(聲子),從而使導(dǎo)帶中的電子和價(jià)帶中的空穴不斷減少,這一過程稱為載流子的復(fù)合。

第4頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月T定,兩個(gè)相反的過程之間將建立起動(dòng)態(tài)平衡---熱平衡狀態(tài)。熱平衡狀態(tài)下,半導(dǎo)體中的導(dǎo)電電子濃度和空穴濃度保持一個(gè)穩(wěn)定的數(shù)值.稱為熱平衡載流子若溫度改變,情況如何?第5頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月

半導(dǎo)體的導(dǎo)電性強(qiáng)烈地隨溫度而變化。原因就在于半導(dǎo)體中載流子濃度隨溫度而變化。要深入了解半導(dǎo)體的導(dǎo)電性及其他許多性質(zhì),必須探求半導(dǎo)體中載流子濃度隨溫度變化的規(guī)律,解決如何計(jì)算一定溫度下半導(dǎo)體中熱平衡載流子濃度的問題。

但重點(diǎn)涉及平衡態(tài),不討論非平衡態(tài).第6頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月要得到:1.熱平衡載流子濃度;2.熱平衡載流子濃度隨溫度的變化;需要知道:1.允許的量子態(tài)(允態(tài))按能量如何分布;2.電子在允許的量子態(tài)中如何分布。第7頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月3.1狀態(tài)密度解決第一個(gè)問題:1.允許的量子態(tài)(允態(tài))按能量如何分布?

半導(dǎo)體的導(dǎo)帶和價(jià)帶中,有很多能級(jí)存在。但相鄰能級(jí)間隔很小,約為10-22eV數(shù)量級(jí),能級(jí)可看成連續(xù)。可將能帶分為能量很小的間隔來處理。第8頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月假定在能帶中能量E~(E+dE)之間無限小的能量間隔dE內(nèi)有dZ個(gè)量子態(tài),則狀態(tài)密度g(E)為:

(3-1)g(E):能量E附近每單位能量間隔內(nèi)量子態(tài)數(shù)第一個(gè)問題:允許的量子態(tài)(允態(tài))按能量如何分布?第9頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月

1.算出單位k空間中量子態(tài)數(shù)(k空間的狀態(tài)密度)。2.算出k空間中與能量dE

即E~(E+dE)間對(duì)應(yīng)的k空間體積,用k空間體積和k空間中的狀態(tài)密度相乘(dZ)。

根據(jù)可求的狀態(tài)密度g(E)怎樣得到g(E)?通過k(k空間)計(jì)算k空間的狀態(tài)密度第10頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月

半導(dǎo)體中電子的允態(tài)(即能級(jí))用波矢k標(biāo)志,但是電子波矢k不能取任意的數(shù)值,而是受到一定條件的限制。3.1.1k空間中量子態(tài)的分布第11頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月

用kxkykz坐標(biāo)軸的直角坐標(biāo)系描寫k空間。顯然,在k空間中,由一組整數(shù)(nxnynz)給出k空間一點(diǎn)且對(duì)應(yīng)一定的波矢k。第12頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月該點(diǎn)是電子的一個(gè)允態(tài)的代表點(diǎn)。由于nxnynz只能取整數(shù),不同的整數(shù)(nxnynz

)決定了不同的點(diǎn),對(duì)應(yīng)著不同的波矢k,代表了電子不同允態(tài),因此,電子有多少個(gè)允態(tài),在k空間中就有多少個(gè)代表點(diǎn)(如圖)。第13頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月任一代表點(diǎn)的坐標(biāo),沿三個(gè)坐標(biāo)軸kxkykz方向均為1/L的整數(shù)倍,所以代表點(diǎn)在k空間中是均勻分布的。第14頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月k空間中,電子的允許能量狀態(tài)密度是V??紤]電子的自旋,k空間中每一個(gè)代表點(diǎn)代表自旋方向相反的兩個(gè)量子態(tài)∴

k空間中,電子的允許量子態(tài)密度是2V第15頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月3.1.2狀態(tài)密度

允許的量子態(tài)(允態(tài))按能量如何分布?

計(jì)算半導(dǎo)體導(dǎo)帶底附近的狀態(tài)密度

第16頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月導(dǎo)帶底附近E(k)與k的關(guān)系:

一、考慮能帶極值在k=0,等能面為球面(拋物線假設(shè))的情況。第17頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月兩個(gè)球殼之間體積是4лk2dk,k空間中量子態(tài)密度是2V,所以,在能量E~(E+dE)之間的量子態(tài)數(shù)為dZ=2V×4лk2dkkk+dk第18頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月由式(3-2)求得k與E的關(guān)系第19頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月第20頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月說明:導(dǎo)帶底附近單位能量間隔內(nèi)的量子態(tài)數(shù)目,隨著電子的能量增加按指數(shù)關(guān)系增大。即電子能量越高,狀態(tài)密度越大。允許的量子態(tài)(允態(tài))按能量如何分布?第21頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月同理可算得價(jià)帶頂附近狀態(tài)密度gv(E)為:在圖3-2的曲線表示了gv(E)與E的關(guān)系曲線。第22頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月二實(shí)際半導(dǎo)體硅、鍺,導(dǎo)帶底附近,等能面為

旋轉(zhuǎn)橢球面

EC:極值能量可計(jì)算得mdn:導(dǎo)帶底電子狀態(tài)密度有效質(zhì)量S:對(duì)稱狀態(tài)數(shù)第23頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月

硅、鍺中,價(jià)帶中起作用的能帶是極值相重合的兩個(gè)能帶,這兩個(gè)能帶相對(duì)應(yīng)有輕空穴有效質(zhì)量(mp)1和重空穴有效質(zhì)量(mp)h。

硅:導(dǎo)帶底共有六個(gè)對(duì)稱狀態(tài)s=6,將m1,mt的值代入式,計(jì)算得mdn=1.08m0。對(duì)鍺,s=4,可以計(jì)算得mdn=0.56m0第24頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月價(jià)帶頂附近狀態(tài)密度應(yīng)為這兩個(gè)能帶的狀態(tài)密度之和。相加之后,價(jià)帶頂附近gv(E)仍可下式表示,不過其中的有效質(zhì)量mp為mdp.mdp稱為價(jià)帶頂空穴的狀態(tài)密度有效質(zhì)量硅,mdp=0.5m0;鍺,mdp=0.37m0。10學(xué)時(shí)第25頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月硅晶體中約有

5×1022/cm3個(gè)硅原子,價(jià)電子數(shù)約有4×5×1022/cm3個(gè)。3.2費(fèi)米能級(jí)EF和載流子的統(tǒng)計(jì)分布3.2.1費(fèi)米分布函數(shù)和費(fèi)米能級(jí)第26頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月

電子能量變化無常,看似無規(guī)。在熱平衡狀態(tài)下,電子按能量大小具有一定的統(tǒng)計(jì)分布規(guī)律性,電子在不同能量的量子態(tài)上統(tǒng)計(jì)分布概率是一定的。根據(jù)量子統(tǒng)計(jì)理論,服從泡利不相容原理的電子遵循費(fèi)米統(tǒng)計(jì)律。第27頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月能量為E的一量子態(tài)被一個(gè)電子占據(jù)概率為f(E).f(E)稱為電子的費(fèi)米分布函數(shù)。f(E)描寫熱平衡狀態(tài)下,電子在允態(tài)上如何分布的一個(gè)統(tǒng)計(jì)分布函數(shù)。

k0是破耳茲曼常數(shù),T是熱力學(xué)溫度。第28頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月EF非常重要的一個(gè)量~費(fèi)米能或費(fèi)米能量,它和溫度T、半導(dǎo)體材料的導(dǎo)電類型n、p,雜質(zhì)的含量以及能量零點(diǎn)選取有關(guān)。EF是一個(gè)很重要的物理參數(shù),只要知道EF數(shù)值,在定T下,電子在各量子態(tài)上的統(tǒng)計(jì)分布就完全確定。第29頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月如何定出:由半導(dǎo)體中能帶內(nèi)所有量子態(tài)中被電子占據(jù)的量子態(tài)數(shù)應(yīng)等于電子總數(shù)N這一條件來決定,即第30頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月將半導(dǎo)體中大量電子的集體看成一個(gè)熱力學(xué)系統(tǒng),統(tǒng)計(jì)理論表明,費(fèi)米能級(jí)EF是系統(tǒng)的化學(xué)勢(shì),即

μ----系統(tǒng)化學(xué)勢(shì),F(xiàn)是系統(tǒng)的自由能。

第31頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月意義:系統(tǒng)處于熱平衡狀態(tài),不對(duì)外界做功的情況下,系統(tǒng)中增加一個(gè)電子所引起系統(tǒng)自由能的變化,等于系統(tǒng)的化學(xué)勢(shì),也就是等于系統(tǒng)的費(fèi)米能級(jí)處于熱平衡狀態(tài)的系統(tǒng)有統(tǒng)一的化學(xué)勢(shì)!處于熱平衡狀態(tài)的電子系統(tǒng)有統(tǒng)一費(fèi)米能級(jí)!第32頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月費(fèi)米分布函數(shù)f(E)特性分析:當(dāng)T=0K時(shí):若E<EF,則f(E)=1,若E>EF,則f(E)=0。第33頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月熱力學(xué)溫度零度時(shí),能量比EF小的量子態(tài)被電子占據(jù)的概率是100%,因而這些量子態(tài)上都是有電子的;能量比EF大量子態(tài)上都沒有電子,是空的。∴在熱力學(xué)溫度零度時(shí),費(fèi)米能級(jí)EF可看成量子態(tài)是否被電子占據(jù)的一個(gè)界限。第34頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月當(dāng)T>0K時(shí):若E<EF,則f(E)>1/2若E=EF,則f(E)=1/2

若E>EF,則f(E)<1/2。第35頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月系統(tǒng)熱力學(xué)溫度>

0時(shí),如量子態(tài)的能量比費(fèi)米能級(jí)低,則該量子態(tài)被電子占據(jù)的概率>50%;

量子態(tài)的能量比費(fèi)米能級(jí)高,則該量子態(tài)被電子占據(jù)的概率<50%。

量子態(tài)的能量等于費(fèi)米能級(jí)時(shí),則該量子態(tài)被電子占據(jù)的概率是50%。標(biāo)志----費(fèi)米能級(jí)是量子態(tài)基本上被電子占據(jù)或基本上是空的第36頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月費(fèi)米能級(jí)位置直觀地標(biāo)志了電子占據(jù)量子態(tài)情況.

費(fèi)米能級(jí)標(biāo)志了電子填充能級(jí)的水平

對(duì)一系統(tǒng)而言,EF位置較高,有較多的能量較高的量子態(tài)上有電子。EF的意義:第37頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月圖給出的300K、1000K,1500K時(shí)f(E)與E的曲線,從圖中看出,隨著溫度的升高,電子占據(jù)能量小于費(fèi)米能級(jí)的量子態(tài)的概率下降,而占據(jù)能量大于費(fèi)米能級(jí)的量子的概率增大。第38頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月費(fèi)米能級(jí)EF強(qiáng)p型弱p型弱n型強(qiáng)n型本征型ECEVEI第39頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月電子的費(fèi)米分布函數(shù)

E-EF》k0T時(shí)3.2.2玻爾茲曼分布函數(shù)第40頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月第41頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月顯然,在一定溫度T,電子占據(jù)E的的概率由e-E/k0T定-----玻耳茲曼統(tǒng)計(jì)分布函數(shù)fB(E)稱為電子的玻耳茲曼分布函數(shù)第42頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月我們討論f(E):f(E)表能量為E的量子態(tài)被電子占據(jù)的概率

1-f(E)必然表示能量為E的量子態(tài)不被電子占據(jù)的概率,表量子態(tài)空(被空穴占據(jù))的概率。第43頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月當(dāng)(EF-E)》k0T時(shí),空穴的費(fèi)米分布函數(shù)空穴的玻爾茲曼分布函數(shù)表明當(dāng)E遠(yuǎn)低于EF時(shí),空穴占據(jù)能量為E的量子態(tài)的概率很小,即這些量子態(tài)幾乎都被子電子所占據(jù)了。第44頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月半導(dǎo)體材料中,EF位于禁帶內(nèi),一般

Ec

–EF

》k0T

EF–Ev對(duì)導(dǎo)帶中的所有量子態(tài),E–Ec>0,被電子占據(jù)的概率,一般都滿足f(E)《1,半導(dǎo)體導(dǎo)帶中的電子分布可以用電子的玻耳茲分布函數(shù)描寫。價(jià)帶道理相同EFEcEv第45頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月E增大,f(E)減小,導(dǎo)帶中絕大多數(shù)電子分布在導(dǎo)帶底附近EcEv第46頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月價(jià)帶中的量子態(tài),被空穴占據(jù)的概率,一般滿足1-f(E)《1。價(jià)帶中的空穴分布服從空穴的玻耳茲曼他分布函數(shù)。E增大,1-f(E)增大,價(jià)帶中絕大多數(shù)空穴集中分布在價(jià)帶頂附近。ECEVEF第47頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月(3-13)、(3-14)兩個(gè)基本公式。服從玻耳茲曼統(tǒng)計(jì)律的電子系統(tǒng)-----非簡并性系統(tǒng)服從費(fèi)米統(tǒng)計(jì)律的電子系統(tǒng)-----------簡并性系統(tǒng)第48頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月3.2.3導(dǎo)帶中的電子濃度和價(jià)帶中的空穴濃度解決問題2:計(jì)算半導(dǎo)體中的載流子濃度。

第49頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月

狀態(tài)密度為gc(E),E處參量E~(E+dE)之間有dZ=gc(E)dE個(gè)量子態(tài),而電子占據(jù)能量為E的量子態(tài)的概率是f(E),則在E~(E+dE)間有

f(E)gc(E)dE個(gè)電子。第50頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月從導(dǎo)帶底到導(dǎo)帶頂對(duì)f(E)gc(E)dE進(jìn)行積分,就得到了能帶中的電子總數(shù),再除以半導(dǎo)體體積V,就得到了導(dǎo)帶中的電子濃度。第51頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月圖為能帶、函數(shù)f(E)、1-f(E)、gc(E)、gv(E)

等曲線第52頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月圖(e)中可看出,導(dǎo)帶中電子的大多數(shù)是在導(dǎo)帶底附近,而價(jià)帶中大多數(shù)空穴則在價(jià)帶頂附近。圖為f(E)gc(E)和[1-f(E)]gv(E)等曲線。第53頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月

在非簡并情況下,導(dǎo)帶中電子濃度可計(jì)算如下。在能量E~(E+dE)間的電子數(shù)dN為第54頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月得能量E~(E+dE)之間單位體積中的電子數(shù)為第55頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月對(duì)上式各分,得熱平衡狀態(tài)下非簡并半導(dǎo)體的導(dǎo)帶電子濃度n0為第56頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月積分上限Ec是導(dǎo)帶頂能量。作一變換:x=(E-Ec)/(k0T),(3-15)變?yōu)閷?dǎo)帶寬第57頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月積分上限改為無窮不影響結(jié)果。導(dǎo)帶中的電子絕大多數(shù)在導(dǎo)帶底部附近。第58頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月數(shù)學(xué)處理上帶來了很大的方便,(3-16)可改寫:第59頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月Nc

T3/2是一很重要的量,稱為導(dǎo)帶的有效狀態(tài)密度,是溫度的函數(shù)。第60頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月是電子占據(jù)能量為Ec的量子態(tài)的概率,(3-19)可理解為把導(dǎo)帶中所有量子態(tài)都集中在導(dǎo)帶底Ec,Ec處的狀態(tài)密度為Nc。導(dǎo)帶中的電子濃度是Nc中有電子占據(jù)的量子態(tài)數(shù)第61頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月同理,熱平衡狀態(tài)下,非簡并半導(dǎo)體的價(jià)帶中空穴濃度p0為第62頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月第63頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月

Nv

T3/2是一很重要的量,稱為價(jià)帶的有效狀態(tài)密度,是溫度的函數(shù)。第64頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月可理解為把價(jià)帶中所有量子態(tài)都集中在導(dǎo)帶底Ev,Ev處的狀態(tài)密度為Nv,則價(jià)帶中的空穴濃度是Nv中有空穴占據(jù)的量子態(tài)數(shù)??昭ㄕ紦?jù)能量為Ev的量子態(tài)的概率第65頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月n0、p0與溫度T有關(guān),與EF有關(guān)。

T的影響來自兩方面:

Nc、Nv正比于T3/2

指數(shù)部分隨溫度迅速變化。EF,T確定,就可以計(jì)算導(dǎo)帶電子濃度和價(jià)帶空穴濃度第66頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月

n0、p0與溫度T有關(guān),與EF有關(guān)。可由n0p0得到很有意思的結(jié)果。第67頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月所以重要結(jié)論:電子和空穴的濃度乘積和費(fèi)米能級(jí)無關(guān)。

半導(dǎo)體材料定,乘積n0p0只決定于溫度T,與所含雜質(zhì)無關(guān)。第68頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月

給定溫度T,半導(dǎo)體材料不同,禁帶寬度Eg不同,乘積n0p0也將不同。

普遍適用本征半導(dǎo)體和雜質(zhì)半導(dǎo)體(熱平衡狀態(tài)、非簡并)。第69頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月上式可看出,半導(dǎo)體材料定,則Eg一定。溫度定,乘積n0p0定。半導(dǎo)體處于熱平衡狀態(tài)時(shí),載流子濃度的乘積保持恒定,如果電子濃度增大,空穴濃度就要減?。环粗嗳?。第70頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月

3.3本征半導(dǎo)體的載流子濃度

-熱激發(fā)所產(chǎn)生的載流子-沒有雜質(zhì)和缺陷的半導(dǎo)體T=0K,價(jià)帶全滿,導(dǎo)帶全空T≠0K,熱激發(fā),電子從價(jià)帶激發(fā)到導(dǎo)帶(本征激發(fā))ECEVEg第71頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月本征激發(fā),電子和空穴成對(duì)產(chǎn)生,n0=p0

本征激發(fā)下的電中性條件由上式可求得本征半導(dǎo)體的費(fèi)米能級(jí)EF

(本征用符號(hào)Ei表示)。第72頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月第73頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月上述三種半導(dǎo)體材料的1n(mp*/mn*)在2以下。

EF約在禁帶中線附近1.5k0T范圍內(nèi)。在室溫(300K)下,k0T≈0.026eV,而硅、鍺、砷化鎵的禁帶寬度約為1eV左右,因上式(3-30)中第二項(xiàng)小得多,所以本征半導(dǎo)體的費(fèi)米能級(jí)Ei基本上在禁帶中線處。

銻化銦室溫時(shí)禁帶寬度Eg≈0.17eV,而mp*/mn*之值約為32左右,于是它的費(fèi)米能級(jí)Ei已經(jīng)遠(yuǎn)在禁帶之上。第74頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月本征載流子濃度ni為式中Eg=Ec-Ev為禁帶寬度。討論:一定的半導(dǎo)體材料,本征載流子濃度ni隨溫度的升高而迅速增加(指數(shù)增長);不同的半導(dǎo)體材料,在同一溫度T時(shí),禁帶寬度Eg越大,本征載流子濃度ni就越小。第75頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月說明:在一定溫度下,任何非簡并半導(dǎo)體的熱平衡載流子濃度的乘積n0p0等于該溫度時(shí)的本征載流子濃度ni的平方,與所含雜質(zhì)無關(guān)。注意:不僅適用于本征半導(dǎo)體材料,而且也適用于非簡并的雜質(zhì)半導(dǎo)體材料。12學(xué)時(shí)n0p0=ni2(質(zhì)量作用定律)第76頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月常見半導(dǎo)體在室溫下的本征載流子濃度:Si:

ni=1.5×1010cm-3Ge:

ni=2.4×1013cm-3GaAs:ni=1.1×107cm-3第77頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月常見半導(dǎo)體本征載流子濃度和溫度關(guān)系Lnni-1/T直線關(guān)系第78頁,課件共85頁,創(chuàng)作于2023年2月

半導(dǎo)體中總是含有一定量的雜質(zhì)和缺

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