大腦中央前溝的mri觀察

大腦中央前溝的mri觀察

正確確定剖面的中心前溝，對于使用現(xiàn)代影像學方法診斷身體運動中心疾病具有重要意義。因此,一些學者采用多種方法對大腦中央前溝在斷面上的定位進行了研究[1,2,3,4,5,6,7,8,9,10,11,12]。從方法上看,多為影像學研究,缺乏與同一個體斷層標本的對照。由于大腦溝、回變化甚大,故純影像學研究可信度較小。MRI掃描和標本切制缺乏統(tǒng)一標準基線,難以消除由于掃描角度的變化對大腦溝、回斷面定位的影響,各家的研究結果也缺乏相互比較的基礎,多為形態(tài)學描述,缺乏更具說服力的定量定位研究。因此,本文以AC-PC線為基線、在斷層標本與相應MRI圖像對照下、包括形態(tài)觀察和測量,得出形態(tài)描述和量化的結果,以期為在冠狀MRI圖像上準確辨認大腦中央前溝和診斷該區(qū)病變提供斷層解剖學依據。1材料和方法1.1ac-pc線中點的垂線法隨機取用成年男性頭部標本30例,以經連合間線(前連合anteriorcommissure,AC后緣中點至后連合posteriorcommissure,PC前緣中點的連線,即AC-PC線)中點的垂線為基線,用Phillips1.5T超導全身MRI系統(tǒng)掃描,獲得4mm層厚的顱腦連續(xù)冠狀斷層MR圖像。掃描條件:T1WI,TR4277ms,TE20ms,TI400ms,RFOV80%,FOV230cm×1.5cm。將掃描后的標本,開顱取腦,剝去腦膜及血管,沿正中矢狀面切開。在大腦半球內側面上,確定經AC-PC線中點的垂線,將重要腦回:額中回、額下回、中央前回、中央后回、緣上回、角回、中央旁小葉染不同顏色,涂以蛋清并用10%甲醛固定。然后將左、右大腦半球以25%明膠包埋,用自制腦切片儀切制成與MR掃描一致的腦連續(xù)冠狀斷層標本。1.2mri冠狀圖像選健康成年男性6例,經Phillips1.5T超導全身MRI系統(tǒng)掃描,獲得掃描基線、層厚與上述標本相一致的MRI冠狀圖像。掃描條件:T1WI,TR4026ms,TE20ms,TI400ms,RFOV80%,FOV230cm×1.3cm。1.3mri及腦冠狀斷層標本對照研究把大腦連續(xù)冠狀斷層標本重合追蹤觀察并記錄中央前溝的變化。將6例活體MRI與30例標本MRI及腦冠狀斷層標本對照研究。選4個典型斷面(豆狀核首次出現(xiàn)斷面、中央前溝首次出現(xiàn)斷面、前連合首次出現(xiàn)斷面和丘腦枕斷面)對30例標本腦內結構的出現(xiàn)率作出統(tǒng)計、分析,以尋找辨認中央前溝的標志。2結果2.1縱行腦溝,所見表三兩大腦半球上外側面可依髓突辨認額上、中、下回。額下回三角部后方出現(xiàn)的縱行腦溝,幾乎與切面平行,為外側溝升支,其后方為額下回島蓋部。在本組30例腦冠狀斷層標本上,于豆狀核首次出現(xiàn)斷面上大腦各結構的出現(xiàn)率見表1。2.2縱行腦溝及腦回兩大腦半球額葉外側面自上而下依髓突辨認額上、中、下回,額下回主要為三角部及島蓋部。左側半球島蓋部后方出現(xiàn)的縱行腦溝及腦回分別為中央前溝和中央前回(圖1)。于MRI圖像上,豆狀核、髓突、腦溝易于辨認。額上、中、下回可依髓突辨認。額下回后方的縱行腦溝為中央前溝(圖2,3)。在本組30例腦冠狀斷層標本上,于中央前溝首次出現(xiàn)斷面上大腦各結構的出現(xiàn)率見表2。2.3mri圖像表現(xiàn)兩大腦半球均依三大髓突辨認額上回、額中回和中央前回,額中回與中央前回之間為中央前溝。于MRI圖像上,前連合、基底核、髓突顯示清晰。額上、中回和中央前回可依髓突辨認,左中央前溝及中央前回需依靠與上一斷面的延續(xù)關系來辨認。右中央前溝可依其與前升支的關系來辨認。在本組30例標本上,于前連合斷面上大腦各結構的出現(xiàn)率見表3。2.4mri圖像中中央前溝大腦半球上外側面以“Y”形外側溝區(qū)分額葉、顳葉、島葉,額葉上外側面中點附近為中央前溝。其上份有額上、中回,下份為中央前回,可依髓突識別(圖4)。于MRI圖像上,腦溝、腦回及髓突顯示清晰,中央前溝居額葉上外側面中點附近,其下方為中央前回,上方為額中回(圖5,6)。圖3前連合斷面上大腦各結構的出現(xiàn)率(n=30)2.5由于中間溝15的初步破裂中央前溝位于大腦半球上外側面中點附近,其上方有額上、中回,下方有中央前回、中央溝和中央后回,中央溝及中央后回為首次出現(xiàn)。2.6額中回回后回與中央前回之間的小塊皮質大腦半球上外側面依3大髓突辨認額上回、中央前回和中央后回,額上回與中央前回之間的小塊皮質屬于額中回后端。中央前溝位于大腦半球上外側面中上1/3交界處,中央溝位于中下1/3交界處。2.7回及中央前、后回此斷面額中回消失,以3大髓突可清晰區(qū)分額上回及中央前、后回。中央后回后方首次出現(xiàn)中央后溝(圖7)。在MRI圖像上,錐體束、髓突和腦溝清晰,與標本所見基本相同(圖8,9)。2.8央后溝區(qū)分額上回、中央前回、中央后回、緣上回左大腦半球上外側面自上而下以中央前溝、中央溝、中央后溝區(qū)分額上回、中央前回、中央后回、緣上回。右大腦半球上外側面以3大髓突辨認額上回、中央前回和中央后回,中央后回因髓突分叉而從上、下方夾持緣上回。2.9中央前溝斷裂斷法中央前溝消失,中央前回已延伸至半球內側面而形成中央旁小葉前部。在本組30例標本中,仍有6%的中央前溝會出現(xiàn)在此斷面上(表4);至胼胝體壓部斷面,中央前溝均消失。額葉內髓支粗大,依其自上而下可區(qū)分出中央前回、中央后回和緣上回(圖10,11,12)。在本組30例腦斷層標本中,中央前溝消失、中央旁小葉前部出現(xiàn)的斷面上,左側70%、右側80%的中央前回出現(xiàn)粗大而飽滿的髓突。3中央前溝的識別標志3.1大腦半球上外側面,以中央溝區(qū)分額葉與頂葉。在額葉內,與中央溝平行的腦溝為中央前溝,于74%的國人中分為上、下兩段。中央前溝與中央溝之間為中央前回,其下端位于額下回島蓋部后方,沿半球外側凸面行向后上方,跨越半球上緣延為內側面的中央旁小葉前部。在橫斷面上,Kido等提出了以測量向前開放的角度與冠狀縫的平均距離來確定中央溝,從而在CT圖像上定位中央前回的方法;Iwasaki和劉豐春等認為應以大腦白質的髓突來識別大腦的溝回。在矢狀斷面上,Ebeling等以外側溝后升支及額下溝與中央前溝的關系來定位中央前溝;Naidich和耿道穎等指出額下回后部與下中央前溝之間形成的“T”形分叉是識別中央前回的標志;李振平等則認為可借外側溝前水平支和前升支形成的“Y”和“V”形外觀來識別下中央前溝及額下回的眶部、三角部和島蓋部。在冠狀斷面上,劉樹偉等指出內囊前肢和膝是識別中央前回的標志。3.2本文以經AC-PC線中點的垂線為基線,采用腦連續(xù)薄層冠狀斷層標本與相應MRI圖像及活體腦MRI圖像相互對照的方法進行研究,提出了以大腦溝、回與腦深部結構的對應關系并結合髓突在斷面上定位中央前溝的方法,但在臨床應用中,要求以經AC-PC線中點的垂線為基線進行掃描。在大腦連續(xù)冠狀斷層標本及MRI圖像上,經對中央前溝的追蹤觀察發(fā)現(xiàn),由前向后首先切及中央前溝下端,多為縱行腦溝,位于額葉內,其上方有額上、中回,內側有額下回島蓋部后份及其髓突。經對本組30例標本首次切及中央前溝的斷面上主要結構的統(tǒng)計顯示,基底核與內囊前肢幾乎全部出現(xiàn),出現(xiàn)率左側97%,右側100%,多數標本背側丘腦及前連合尚未出現(xiàn)。在豆狀核首次出現(xiàn)的斷面上統(tǒng)計顯示,中央前溝出現(xiàn)率大約30%,中央前溝首次出現(xiàn)的斷面上,豆狀核100%出現(xiàn),說明豆狀核出現(xiàn)的斷面早于中央前溝,一般提前1～2個斷面,故豆狀核出現(xiàn)是中央前溝出現(xiàn)的重要信號。因此在豆狀核出現(xiàn)以后,背側丘腦和前連合出現(xiàn)之前,大約1～2個斷面上,額下回島蓋部后方出現(xiàn)的縱行腦溝應為中央前溝。切及前連合的斷面上,中央前溝應位于大腦半球上外側面、額葉中點附近;上方有額上、中回,下方為