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文檔簡(jiǎn)介
中華人民共和國(guó)國(guó)家生態(tài)環(huán)境標(biāo)準(zhǔn)
HJ□□□□—20□□
電鍍污染防治可行技術(shù)指南
Guidelineonavailabletechniquesofpollutionpreventionandcontrol
forelectroplating
(征求意見(jiàn)稿)
HJ□□□□—20□□
前言
為貫徹《中華人民共和國(guó)環(huán)境保護(hù)法》《中華人民共和國(guó)水污染防治法》《中華人民共和國(guó)大氣污染
防治法》《中華人民共和國(guó)固體廢物污染環(huán)境防治法》和《中華人民共和國(guó)環(huán)境噪聲污染防治法》等法
律,防治電鍍行業(yè)污染,改善生態(tài)環(huán)境質(zhì)量,規(guī)范電鍍污染防治工作,制定本標(biāo)準(zhǔn)。
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電鍍廢水、廢氣、固體廢物和噪聲污染防治可行技術(shù)。
本標(biāo)準(zhǔn)為首次發(fā)布。自本標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施之日起,《電鍍污染防治最佳可行技術(shù)指南(試行)》(HJ-BAT-11)
廢止。
本標(biāo)準(zhǔn)的附錄A為資料性附錄。
本標(biāo)準(zhǔn)由生態(tài)環(huán)境部科技與財(cái)務(wù)司、法規(guī)與標(biāo)準(zhǔn)司組織制訂。
本標(biāo)準(zhǔn)主要起草單位:生態(tài)環(huán)境部環(huán)境工程評(píng)估中心、機(jī)械工業(yè)第四設(shè)計(jì)研究院有限公司、浙江省
電鍍行業(yè)協(xié)會(huì)。
本標(biāo)準(zhǔn)生態(tài)環(huán)境部20□□年□□月□□日批準(zhǔn)。
本標(biāo)準(zhǔn)自20□□年□□月□□日起實(shí)施。
本標(biāo)準(zhǔn)由生態(tài)環(huán)境部解釋。
ii
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電鍍污染防治可行技術(shù)指南
1適用范圍
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了含電鍍工藝、化學(xué)鍍工藝、陽(yáng)極氧化工藝的獨(dú)立/非獨(dú)立電鍍企業(yè)或生產(chǎn)設(shè)施、電鍍
園區(qū)的廢水、廢氣、固體廢物和噪聲污染防治可行技術(shù)。
本標(biāo)準(zhǔn)可作為電鍍企業(yè)或生產(chǎn)設(shè)施、電鍍園區(qū)建設(shè)項(xiàng)目的環(huán)境影響評(píng)價(jià)、國(guó)家污染物排放標(biāo)準(zhǔn)制修
訂、排污許可管理和污染防治技術(shù)選擇的參考。
本標(biāo)準(zhǔn)不適用于鋼鐵化學(xué)氧化(發(fā)藍(lán))工藝,磷化、鋯化、硅烷化等涂裝前處理工藝。
2規(guī)范性引用文件
本標(biāo)準(zhǔn)引用了下列文件或其中的條款。凡是注明日期的引用文件,僅注日期的版本適用于本標(biāo)準(zhǔn)。
凡是未注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改單)適用于本標(biāo)準(zhǔn)。
GB12348工業(yè)企業(yè)廠界環(huán)境噪聲排放標(biāo)準(zhǔn)
GB14554惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)
GB15562.1環(huán)境保護(hù)圖形標(biāo)志排放口(源)
GB15562.2環(huán)境保護(hù)圖形標(biāo)志固體廢物貯存(處置)場(chǎng)
GB16297大氣污染物綜合排放標(biāo)準(zhǔn)
GB18597危險(xiǎn)廢物貯存污染控制標(biāo)準(zhǔn)
GB18598危險(xiǎn)廢物填埋污染控制標(biāo)準(zhǔn)
GB21900—2008電鍍污染物排放標(biāo)準(zhǔn)
GB30485水泥窯協(xié)同處置固體廢物污染控制標(biāo)準(zhǔn)
GB30760水泥窯協(xié)同處置固體廢物技術(shù)規(guī)范
GB/T33055含鋅廢料處理處置技術(shù)規(guī)范
GB/T33073含鎳廢料處理處置技術(shù)規(guī)范
GB/T34626.1金屬及其他無(wú)機(jī)覆蓋層金屬表面的清洗和準(zhǔn)備第1部分:鋼鐵及其合金
GB/T34626.2金屬及其他無(wú)機(jī)覆蓋層金屬表面的清洗和準(zhǔn)備第2部分:有色金屬及其
合金
GB/T38066電鍍污泥處理處置分類
GB/T38101含銅污泥處理處置方法
GB50136電鍍廢水治理設(shè)計(jì)規(guī)范
HJ576厭氧-缺氧-好氧活性污泥法污水處理工程技術(shù)規(guī)范
HJ577序批式活性污泥法污水處理工程技術(shù)規(guī)范
HJ579膜分離法污水處理工程技術(shù)規(guī)范
HJ662水泥窯協(xié)同處置固體廢物環(huán)境保護(hù)技術(shù)規(guī)范
HJ855排污許可證申請(qǐng)與核發(fā)技術(shù)規(guī)范電鍍工業(yè)
HJ985排污單位自行監(jiān)測(cè)技術(shù)指南電鍍工業(yè)
HJ1095芬頓氧化法廢水處理工程技術(shù)規(guī)范
HJ2002電鍍廢水治理工程技術(shù)規(guī)范
1
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HJ2006污水混凝與絮凝處理工程技術(shù)規(guī)范
HJ2007污水氣浮處理工程技術(shù)規(guī)范
HJ2010膜生物法污水處理工程技術(shù)規(guī)范
HJ2020袋式除塵工程通用技術(shù)規(guī)范
HJ2025危險(xiǎn)廢物收集、貯存、運(yùn)輸技術(shù)規(guī)范
HB5472—91金屬鍍覆和化學(xué)覆蓋工藝用水水質(zhì)規(guī)范
HG/T5015含鎳廢液處理處置方法
HG/T5309電鍍含銅廢水處理及回收技術(shù)規(guī)范
WS721電鍍工藝防塵防毒技術(shù)規(guī)范
3術(shù)語(yǔ)和定義
下列術(shù)語(yǔ)和定義適用于本標(biāo)準(zhǔn)。
3.1
電鍍electroplating
利用電解方法在基材表面沉積均勻、致密、結(jié)合良好的金屬或合金層的過(guò)程。
3.2
化學(xué)鍍chemicalplating
采用化學(xué)方法而非電解方法,在基材表面沉積金屬或合金層的過(guò)程。
3.3
陽(yáng)極氧化anodizing
將金屬或合金的零件作為陽(yáng)極,采用電解的方法使其表面形成氧化膜的過(guò)程。
3.4
鍍前處理treatmentbeforeelectroplating
鍍覆前修整基材表面,除掉基材上的油污、氧化皮、毛刺等物質(zhì),以裸露出基體新鮮、干凈的表面,
為后續(xù)鍍覆層的沉積提供良好結(jié)合力表面的過(guò)程。
3.5
鍍后處理treatmentafterelectroplating
為增強(qiáng)鍍覆層防護(hù)性能,提高裝飾性能及其它特殊目的,對(duì)鍍覆后的覆蓋層進(jìn)行清洗、著色、染色、
封閉、防護(hù)等后續(xù)工作的過(guò)程。鍍后處理由一種或多種鍍后處理工藝組成。
3.6
電鍍園區(qū)electroplatingzone
電鍍、化學(xué)鍍、陽(yáng)極氧化等企業(yè)及相關(guān)服務(wù)企業(yè)集聚,污染物集中治理和/或綜合利用的園區(qū)/集中
區(qū)/集聚區(qū)。
3.7
電鍍廢水electroplatingwastewater
電鍍生產(chǎn)過(guò)程中排放的各種廢水,包括鍍前處理槽清洗廢水、鍍覆槽清洗廢水、鍍后處理槽清洗廢
水、清槽廢水、刷洗地坪和極板的廢水、廢氣處理過(guò)程產(chǎn)生的廢水、化驗(yàn)室排水以及受污染的初期雨水
等。
3.8
電鍍混合廢水mixedelectroplatingwastewater
電鍍生產(chǎn)過(guò)程中排放的不同鍍種和不同污染物的廢水經(jīng)預(yù)處理去除特定污染物后混合在一起的廢
水。
3.9
車間或生產(chǎn)設(shè)施廢水排放口dischargeoutletofworkshoporproductionfacility
2
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含有毒污染物總鉻、六價(jià)鉻、總鎳、總鎘、總銀、總鉛、總汞的電鍍廢水與其他廢水混合前的車間
或車間預(yù)處理設(shè)施出水口。如果含此類水污染物的同種廢水實(shí)行集中預(yù)處理,則車間或生產(chǎn)設(shè)施廢水排
放口是指集中預(yù)處理設(shè)施的出水口。
3.10
污染防治可行技術(shù)availabletechniquesofpollutionpreventionandcontrol
根據(jù)我國(guó)一定時(shí)期內(nèi)環(huán)境需求和經(jīng)濟(jì)水平,在污染防治過(guò)程中綜合采用污染預(yù)防技術(shù)、污染治理技
術(shù)和環(huán)境管理措施,使污染物排放穩(wěn)定達(dá)到國(guó)家污染物排放標(biāo)準(zhǔn)、規(guī)模應(yīng)用的技術(shù)。
4行業(yè)生產(chǎn)與污染物的產(chǎn)生
4.1生產(chǎn)工藝
典型電鍍生產(chǎn)工藝流程及產(chǎn)污環(huán)節(jié)參見(jiàn)附錄A。
4.1.1鍍前處理
鍍前處理包括金屬基體材料和非金屬基體材料的鍍前處理。金屬基體材料鍍前處理一般包括脫脂
(除油)、酸洗、除銹、化學(xué)拋光、電解拋光等工藝,其他工藝參見(jiàn)GB/T34626.1、GB/T34626.2;非
金屬基體材料鍍前處理一般包括除油、粗化、中和、敏化、活化、解膠(還原)等工藝。
4.1.2鍍覆
鍍覆工藝可分為:
――電鍍單金屬、電鍍合金、復(fù)合電鍍以及不同鍍種的單層鍍、多層鍍等工藝;
――化學(xué)鍍工藝;
――陽(yáng)極氧化工藝。
4.1.3鍍后處理
包括干燥、除氫、拋光、鉻酸鹽轉(zhuǎn)化處理(常稱鈍化處理)、封閉、著色、涂膜(涂覆或浸一層
透明的有機(jī)膜層)等單一或組合工藝。
4.1.4退鍍
包括工裝(掛具、滾筒等)退鍍和不合格產(chǎn)品的退鍍,工裝(掛具、滾筒等)退鍍一般在生產(chǎn)線
上實(shí)施,常采用電解退鍍工藝。不合格產(chǎn)品退鍍一般離線實(shí)施,可采用化學(xué)法、電解法等退鍍工藝。
4.2污染物的產(chǎn)生
4.2.1廢水污染物的產(chǎn)生
4.2.1.1電鍍工藝廢水污染物的產(chǎn)生
電鍍工藝產(chǎn)生的廢水污染物主要來(lái)源于工件清洗過(guò)程,包括:
――從鍍槽帶出的各種酸、堿、表面活性劑、磷酸鹽、石油類、金屬離子等;
――基體材料、電極(采用電化學(xué)處理)等溶解出的金屬離子;
――工裝(掛具、滾筒等)循環(huán)使用而帶入的各種金屬離子;
――工裝(掛具、滾筒等)被鍍覆的金屬鍍層退鍍過(guò)程產(chǎn)生的金屬離子。
4.2.1.2其他廢水污染物的產(chǎn)生
其他廢水污染物主要來(lái)源于:
――清槽廢水,主要污染物為槽液成份以及帶入槽液的各種雜質(zhì)(重金屬離子等);
――地坪清洗水、極板清洗水;
――廢氣處理過(guò)程產(chǎn)生的廢水;
――化驗(yàn)室廢水;
3
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――受污染的初期雨水。
4.2.2廢氣污染物的產(chǎn)生
電鍍工藝產(chǎn)生的廢氣包括酸性廢氣、含氰廢氣、含塵廢氣、堿性廢氣等。電鍍工藝廢氣污染物及
來(lái)源見(jiàn)表1。
表1電鍍工藝廢氣污染物及來(lái)源
種類產(chǎn)污環(huán)節(jié)主要污染物
酸洗、出光和酸性鍍液電鍍等工藝氟化物、氯化氫、硫酸霧、氮氧化物等
酸性廢氣鍍鉻、粗化、鉻酸鹽轉(zhuǎn)化、鉻酸陽(yáng)極氧化、鉻酸鹽
鉻酸霧
電解拋光等工藝
含氰廢氣含氰電鍍工藝氰化氫
含塵廢氣機(jī)械拋光(噴砂、磨光等)、機(jī)械粗化等工藝顆粒物、金屬氧化物及纖維性粉塵
堿性廢氣化學(xué)脫脂、電化學(xué)脫脂、堿性鍍液電鍍等工藝氫氧化鈉等
4.2.3固體廢物的產(chǎn)生
電鍍工藝產(chǎn)生的固體廢物包括:
――處理電鍍廢水的過(guò)程中產(chǎn)生的電鍍污泥;
――電鍍槽維護(hù)產(chǎn)生的槽渣、廢濾芯及翻槽時(shí)活性炭過(guò)濾產(chǎn)生的廢活性炭;
――報(bào)廢的廢槽液;
――電鍍廢水采取蒸發(fā)濃縮處理時(shí)產(chǎn)生的廢鹽。
4.2.4噪聲的產(chǎn)生
電鍍工藝噪聲來(lái)自磨光機(jī)、振光機(jī)、滾光機(jī)、空壓機(jī)、水泵、超聲波發(fā)生器、風(fēng)機(jī)等設(shè)備以及壓
縮空氣吹干零件等。噪聲源強(qiáng)通常為65~100dB(A)。
5污染預(yù)防技術(shù)
5.1無(wú)毒或低毒材料替代工藝
可采用表2中的無(wú)氰電鍍、替代鍍層、三價(jià)鉻處理工藝等無(wú)毒或低毒工藝,減少高毒性污染物的
產(chǎn)生。
表2可采用的無(wú)毒低毒工藝
項(xiàng)目采用的無(wú)毒低毒工藝或鍍層
無(wú)氰鍍鋅:氯化物鍍鋅、硫酸鹽鍍鋅、堿性鋅酸鹽鍍鋅等
無(wú)氰鍍銅:酸性鍍銅、焦磷酸鹽鍍銅、堿性無(wú)氰鍍銅、其他無(wú)氰鍍銅等
無(wú)氰電鍍
無(wú)氰鍍銀:硫代硫酸鹽鍍銀
無(wú)氰鍍金:堿性亞硫酸鹽鍍金和金合金、檸檬酸鹽鍍金和金合金
代鎘鍍層:鋅鎳合金、錫鋅合金、鋅鈷合金鍍層等
代鉛鍍層:錫鈰合金、錫鉍合金、錫銀合金、錫銅合金、錫鋅合金、錫銦合金鍍層等
裝飾性代鉻鍍層:錫鎳合金、錫鈷合金、三元合金(錫鈷鋅、錫鈷銦、錫鈷鉻等)鍍層
替代鍍層
代硬鉻鍍層:鎳鎢合金、鎳磷合金、鎳鉬合金、鎳鎢磷三元合金、鎳鎢硼三元合金、合金
復(fù)合鍍層、納米合金電鍍替代鍍鉻、化學(xué)鍍鎳磷合金等
代修復(fù)性鍍鉻:鍍鐵
三價(jià)鉻裝飾性鍍鉻:三價(jià)鉻鍍鉻取代六價(jià)鉻鍍鉻
處理工藝鍍鋅層:三價(jià)鉻藍(lán)白色鈍化、三價(jià)鉻彩色鈍化、三價(jià)鉻黑色鈍化等
4
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5.2電鍍清洗水減量化技術(shù)
5.2.1多級(jí)逆流清洗技術(shù)
適用于掛鍍、滾鍍自動(dòng)化生產(chǎn)工藝,不適用于鋼卷及體積大于清洗槽的大型鍍件電鍍。單位用水
量小于50L/m2,與一級(jí)直流水清洗用水量相比,節(jié)水90%以上。
5.2.2間歇逆流清洗技術(shù)
也稱清洗廢水全翻槽技術(shù),適用于間歇、小批量生產(chǎn)的生產(chǎn)線。單位用水量小于30L/m2,與同
樣級(jí)數(shù)的多級(jí)逆流清洗技術(shù)相比,節(jié)水約40%。
5.2.3噴射水洗技術(shù)(逆流清洗組合)
噴射水洗技術(shù)分為噴淋水洗和噴霧水洗,適用于自動(dòng)或半自動(dòng)品種單一、批量較大的電鍍生產(chǎn)線,
但對(duì)于復(fù)雜工件的水洗效果較差。工件可集中到2~3處進(jìn)行沖洗,由于噴嘴可調(diào)到任意需要的角度,
清洗效率提高,單位用水量小于10L/m2,清洗水經(jīng)收集和針對(duì)性處理后循環(huán)利用。
5.2.4逆流清洗-離子交換技術(shù)
適用于鍍鎳及其他貴重金屬工藝,不適用于氧化性強(qiáng)、有機(jī)物含量高以及含氰電鍍工藝。在逆流
清洗基礎(chǔ)上,用離子交換樹(shù)脂(纖維)將第一級(jí)清洗槽(靠近主鍍槽)清洗廢水分離處理,處理后的
清水回用于清洗槽或主鍍槽。回收鍍液帶出的貴重金屬約70%~90%,節(jié)水80%以上。
5.2.5逆流清洗-反滲透膜分離技術(shù)
適用于電鍍鎳及其他貴重金屬工藝。在逆流清洗基礎(chǔ)上,用反滲透膜系統(tǒng)將第一級(jí)清洗槽清洗廢
水過(guò)濾分離,濃縮液可部分返回鍍槽,淡水用于末級(jí)清洗槽循環(huán)使用。該技術(shù)可減少鍍液帶出量
80%~90%,節(jié)水80%以上。
5.2.6逆流清洗-電解回收技術(shù)
適用于酸性鍍銅、氰化鍍銅、氰化鍍銀等工藝。將回收槽中的溶液引入電解槽,在直流電場(chǎng)的作
用下,發(fā)生電解作用將回收的金屬離子凝聚于陰極。銅、銀回收率大于90%。
5.2.7逆流清洗-離子交換-蒸發(fā)濃縮閉環(huán)技術(shù)
適用于鍍硬鉻工藝。在逆流清洗的基礎(chǔ)上,使用離子交換樹(shù)脂(纖維)去除廢鍍鉻液中的銅、鋅、
鎳、鐵等金屬雜質(zhì),再經(jīng)過(guò)蒸發(fā)濃縮,鉻酸可全部回用于鍍鉻槽。飽和的離子交換樹(shù)脂(纖維)需進(jìn)
行再生處理。鍍鉻液及廢鍍鉻液中鉻酸回用率大于95%,鉻霧抑制劑全氟辛烷磺酰基化合物(PFOS)
使用量減少80%~90%。
5.3固體廢物減量化技術(shù)
可采用以下技術(shù)減少固體廢物的產(chǎn)生:
a)除油工藝設(shè)置超聲波除油、油水分離器、過(guò)濾裝置等,去除槽液中的油和雜質(zhì)延長(zhǎng)除油槽液
壽命,減少除油廢槽液產(chǎn)生量;
b)通過(guò)蒸發(fā)濃縮,減少?gòu)U槽液產(chǎn)生量;
c)采用機(jī)械壓濾、烘干等脫除電鍍污泥水分,減少電鍍污泥產(chǎn)生量;
d)釹鐵硼硝酸洗廢液通過(guò)精密過(guò)濾器、微濾或超濾、反滲透等回收廢硝酸以實(shí)現(xiàn)總氮的減排,
反滲透濃水通過(guò)萃取劑提取稀土元素實(shí)現(xiàn)資源回收利用。
5
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6污染治理技術(shù)
6.1廢水污染治理技術(shù)
6.1.1一般原則
a)電鍍企業(yè)應(yīng)根據(jù)自身生產(chǎn)實(shí)際,優(yōu)先采用5.2節(jié)污染預(yù)防技術(shù),提高物料利用率、清洗效率,
減少?gòu)U水污染物和廢水產(chǎn)生量。
b)電鍍企業(yè)應(yīng)推行電鍍廢水分類收集、分質(zhì)處理,含氰廢水、含六價(jià)鉻廢水、含配位化合物廢
水等須單獨(dú)收集、單獨(dú)預(yù)處理后才可排入電鍍混合廢水處理系統(tǒng)進(jìn)一步處理。
c)含總鉻、六價(jià)鉻、總鎳、總鎘、總銀、總鉛、總汞等有毒污染物廢水在車間或生產(chǎn)設(shè)施排放
口單因子達(dá)標(biāo)后,可進(jìn)入電鍍混合廢水處理單元進(jìn)一步去除廢水中難生化的配位劑、螯合劑、表面活
性劑等污染物,再經(jīng)過(guò)化學(xué)沉淀等處理后,可排至設(shè)置污水處理廠的城鎮(zhèn)排水系統(tǒng);直接向環(huán)境水體
排放時(shí),還應(yīng)進(jìn)一步進(jìn)入生物處理系統(tǒng)處理。
d)中水回用的電鍍混合廢水,應(yīng)采取反滲透或反滲透+離子交換處理。
e)合理設(shè)計(jì)初期雨水、事故廢水收集設(shè)施,確保受污染的初期雨水、事故廢水得到有效處理。
f)電鍍廢水在處理過(guò)程中應(yīng)采取措施控制二次污染物的產(chǎn)生,并使其滿足GB16297、GB14554
等排放限值要求。
6.1.2含氰廢水處理技術(shù)
6.1.2.1一般原則
a)本節(jié)所列含氰廢水處理技術(shù)參數(shù)應(yīng)滿足GB50136、HJ2002要求。
b)含氰廢水經(jīng)過(guò)處理,游離氰達(dá)到控制要求后可進(jìn)入電鍍混合廢水處理系統(tǒng),去除重金屬離子。
c)采用堿性氯化技術(shù)處理含氰廢水時(shí),應(yīng)在加蓋密閉和集氣抽風(fēng)條件下收集產(chǎn)生的氯化氰氣體,
經(jīng)處理達(dá)到GB16297要求后通過(guò)排氣筒排放。
d)采用電解、過(guò)氧化氫氧化技術(shù)處理含氰廢水時(shí),處理過(guò)程中產(chǎn)生的氨氣應(yīng)收集并處理,達(dá)到
GB14554要求后通過(guò)排氣筒排放。
6.1.2.2堿性氯化處理技術(shù)
適用于處理含無(wú)機(jī)氰化物或氰合金屬基配合物(鐵氰配合物除外)的含氰廢水。工藝控制條件為:
第一階段pH值為10~11,第二階段pH值為8~9;反應(yīng)時(shí)間取決于待處理廢水中總氰化物含量(一般為1
~1.5h);有效氯(以Cl計(jì))的消耗量與總氰化物(以CN-計(jì))量的比為6~10,反應(yīng)后廢水中余氯量應(yīng)
在2~5mg/L,經(jīng)處理后廢水中總氰化物(以CN-計(jì))含量小于0.2mg/L。
6.1.2.3過(guò)氧化氫氧化處理技術(shù)
適用于處理含無(wú)機(jī)氰化物或氰合金屬基配合物(鐵氰配合物除外)的含氰廢水。工藝控制條件為:
氧化反應(yīng)pH值大于7;過(guò)氧化氫與總氰化物(以CN-計(jì))的摩爾比為2:1;氧化時(shí)間取決于氰化物濃
度和氧化溫度(一般為1h)。處理后廢水中總氰化物(以CN-計(jì))含量小于0.2mg/L。
6.1.2.4臭氧氧化處理技術(shù)
適用于處理含無(wú)機(jī)氰化物或氰合金屬基配合物(鐵氰配合物除外)的含氰廢水。工藝控制條件為:
氧化反應(yīng)pH值9~11;一級(jí)氧化反應(yīng)臭氧與總氰化物(以CN-計(jì))的摩爾比為1:1;二級(jí)氧化反應(yīng)臭
氧與總氰化物(以CN-計(jì))的摩爾比為2.5:1;氧化時(shí)間取決于總氰化物濃度和氧化溫度(一般不小
于15min),若采用亞銅離子作為催化劑,可縮短反應(yīng)時(shí)間。處理后廢水中總氰化物(以CN-計(jì))含
量小于0.2mg/L。
6
HJ□□□□—20□□
6.1.3含鉻廢水處理技術(shù)
6.1.3.1化學(xué)還原處理技術(shù)
適用于所有含六價(jià)鉻廢水的處理。常用還原劑為亞硫酸氫鈉、亞硫酸鈉、焦亞硫酸鈉、硫酸亞鐵
等。還原劑投加量應(yīng)通過(guò)試驗(yàn)確定,或參照HJ2002給出的參考值。工藝控制條件為:還原反應(yīng)pH值
為2.5~3;亞硫酸鹽還原時(shí)反應(yīng)時(shí)間為20~30min,硫酸亞鐵還原連續(xù)處理時(shí),反應(yīng)時(shí)間應(yīng)大于30min;
間歇處理時(shí),反應(yīng)時(shí)間為2~4h;沉淀反應(yīng)pH值控制在7~8.5;沉淀反應(yīng)時(shí)間大于20min,反應(yīng)后的沉
淀時(shí)間為1.0~1.5h。處理后廢水中六價(jià)鉻濃度小于0.1mg/L,總鉻濃度小于0.5mg/L。
6.1.3.2電解處理技術(shù)
適用于六價(jià)鉻濃度小于100mg/L的廢水處理。采用普通碳素鋼為極板,極板間距小于10mm,電
解槽的有效陽(yáng)極面積與有效容積之比為1.5~2.5dm2/L。工藝控制條件為:進(jìn)水pH值控制在2.5~3;沉
淀反應(yīng)pH值控制在7~8;電壓低于110V,電流20~60A,電解時(shí)間不少于15min。處理后廢水中六價(jià)
鉻濃度小于0.1mg/L,總鉻濃度小于0.5mg/L。
6.1.3.3內(nèi)電解處理技術(shù)
適用于六價(jià)鉻濃度小于100mg/L的廢水處理。工藝控制條件為:進(jìn)水pH值控制在2~4;出水應(yīng)加
堿調(diào)pH值為8~9;接觸時(shí)間不小于20min;鐵屑裝填高度宜為1~1.5m;在運(yùn)行過(guò)程中,為防止鐵屑結(jié)
塊,應(yīng)定時(shí)對(duì)其進(jìn)行氣水聯(lián)合反沖。處理后廢水中六價(jià)鉻濃度小于0.1mg/L,總鉻濃度小于0.5mg/L。
6.1.3.4離子交換處理技術(shù)
適用于六價(jià)鉻濃度小于200mg/L的廢水處理(鍍黑鉻和含氟化物鍍鉻的廢水除外)。離子交換系
統(tǒng)由保護(hù)性濾柱、酸性陽(yáng)柱、除鉻陰柱、脫鈉柱、除酸陰柱組成,工藝控制條件為:進(jìn)入陰柱廢水的
pH值應(yīng)控制在5以下;陰柱的再生劑宜用工業(yè)用氫氧化鈉,再生液用去離子水配制;陰柱的清洗水宜
用去離子水,清洗終點(diǎn)pH值為8~10;陽(yáng)柱的再生劑宜用工業(yè)鹽酸,陽(yáng)柱的清洗水可用自來(lái)水;清洗
終點(diǎn)pH值為2~3。處理后廢水中六價(jià)鉻濃度小于0.1mg/L,總鉻濃度小于0.5mg/L。
6.1.4酸堿廢水中和處理技術(shù)
適用于鍍前處理、鍍后處理產(chǎn)生的酸堿廢水處理。應(yīng)采取pH計(jì)自動(dòng)控制加藥,工藝參數(shù)應(yīng)滿足
HJ2002、HJ2006相關(guān)要求。處理后pH值為6~9。
6.1.5金屬離子廢水處理技術(shù)
6.1.5.1化學(xué)沉淀處理技術(shù)
適用于離子態(tài)金屬的去除,其中進(jìn)水總鎘濃度小于50mg/L。常用的化學(xué)藥劑有氫氧化鈉、石灰、
硫化鈉等。應(yīng)根據(jù)各種金屬氫氧化物或金屬硫化物的pH值、溶度積不同,確定各自的最佳的pH值范圍,
反應(yīng)生成難溶于水的鹽類通過(guò)沉淀、氣浮、微濾或超濾膜等分離去除,工藝參數(shù)應(yīng)符合HJ579、HJ2002、
HJ2006、HJ2007相關(guān)要求。處理后廢水重金屬濃度滿足GB21900—2008特別排放限值要求。
6.1.5.2離子交換處理技術(shù)
適用于總鎳或總銅濃度小于200mg/L、總鎘濃度小于100mg/L的單一廢水處理。工藝參數(shù)應(yīng)滿足
GB50136、HJ2002、HG/T5015、HG/T5309相關(guān)要求。處理后廢水重金屬濃度滿足GB21900—2008
特別排放限值要求。
6.1.6含配位化合物廢水處理技術(shù)
6.1.6.1(類)芬頓氧化處理技術(shù)
適用于化學(xué)鍍鎳、化學(xué)鍍銅、鋅鎳合金等含配位化合物的廢水處理。工藝參數(shù)應(yīng)滿足HJ1095相
關(guān)要求,(類)芬頓氧化處理技術(shù)后續(xù)應(yīng)輔以相應(yīng)的化學(xué)沉淀處理技術(shù)。處理后廢水總銅濃度小于0.5
mg/L,總鎳濃度小于0.5mg/L。
6.1.6.2臭氧氧化處理技術(shù)
適用于化學(xué)鍍鎳、化學(xué)鍍銅、鋅鎳合金等含配位化合物的廢水處理。工藝控制條件為:進(jìn)水pH
值控制在7~9,氧化反應(yīng)時(shí)間1h,臭氧氧化處理技術(shù)應(yīng)輔以相應(yīng)的化學(xué)沉淀處理技術(shù)。處理后廢水總
7
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銅濃度小于0.5mg/L,總鎳濃度小于0.5mg/L。
6.1.6.3重捕劑處理技術(shù)
適用于化學(xué)鍍鎳、化學(xué)鍍銅、鋅鎳合金等含配位化合物廢水的深度處理。常與(類)芬頓/臭氧
氧化及化學(xué)沉淀處理技術(shù)聯(lián)用,應(yīng)根據(jù)配位化合物的形態(tài)和含量,確定合理的pH值控制范圍及反應(yīng)
時(shí)間。處理后廢水總銅濃度小于0.3mg/L,總鎳濃度小于0.1mg/L。
6.1.6.4金屬共沉淀處理技術(shù)
適用于焦銅廢水處理。通過(guò)向焦銅廢水中引入適量Fe3+、Zn2+、Cu2+等金屬離子,與焦銅廢水中
6-
過(guò)量的焦磷酸根結(jié)合生成焦磷酸鐵/鋅/銅沉淀,[Cu(P2O7)2]轉(zhuǎn)化為焦磷酸銅沉淀,實(shí)現(xiàn)銅、總磷同步
去除。工藝控制條件為:進(jìn)水pH值控制在7~9;反應(yīng)時(shí)間15min。出水總銅濃度一般小于0.3mg/L。
6.1.7生物處理技術(shù)
6.1.7.1序批式活性污泥法
適用于物化處理后的電鍍廢水處理。主要變形工藝包括循環(huán)式活性污泥工藝、連續(xù)和間歇曝氣工
藝、交替式內(nèi)循環(huán)活性污泥工藝等。工藝過(guò)程一般由進(jìn)水、曝氣、沉淀、排水和待機(jī)五部分組成,工
藝參數(shù)應(yīng)滿足HJ577相關(guān)要求。廢水經(jīng)處理后可滿足GB21900—2008特別排放限值要求。
6.1.7.2A/O、A/A/O生物處理技術(shù)
適用于物化處理后的電鍍廢水處理。主要變形工藝有改良厭氧缺氧好氧活性污泥法、厭氧缺氧好
氧活性污泥法、缺氧厭氧缺氧好氧活性污泥法等。工藝參數(shù)應(yīng)滿足HJ576相關(guān)要求。廢水經(jīng)處理后可
滿足GB21900—2008特別排放限值要求。
6.1.7.3膜生物處理技術(shù)
適用于物化處理后的電鍍廢水處理。工藝參數(shù)應(yīng)滿足HJ2010相關(guān)要求。廢水經(jīng)處理后可滿足GB
21900—2008特別排放限值要求。
6.1.8電鍍廢水深度處理技術(shù)
6.1.8.1反滲透處理技術(shù)
適用于電鍍清洗廢水槽邊回收、電鍍混合廢水深度處理、電鍍混合廢水回用(原水電導(dǎo)率小于6000
μS/cm)。工藝參數(shù)應(yīng)滿足HJ579相關(guān)要求。反滲透產(chǎn)水電導(dǎo)率小于300μS/cm,中水回用率一般小于
70%,回用水質(zhì)滿足HB5472—91中C類用水水質(zhì)要求。
6.1.8.2反滲透+離子交換技術(shù)
適用于電鍍混合廢水回用。在反滲透技術(shù)的基礎(chǔ)上,反滲透裝置產(chǎn)水通過(guò)離子交換進(jìn)一步去除廢
水中的鹽份。工藝參數(shù)應(yīng)滿足HJ579相關(guān)要求。裝置產(chǎn)水電導(dǎo)率小于100μS/cm,中水回用率一般小
于60%,回用水質(zhì)滿足HB5472—91中B類用水水質(zhì)要求。
6.2廢氣污染治理技術(shù)
6.2.1一般原則
a)電鍍企業(yè)或生產(chǎn)設(shè)施應(yīng)按照WS721的規(guī)定設(shè)置通風(fēng)裝置,定期檢查通風(fēng)系統(tǒng)運(yùn)行是否正常。
鼓勵(lì)對(duì)電鍍生產(chǎn)線進(jìn)行封閉,并對(duì)收集的廢氣進(jìn)行處理。
b)含氰化物工藝的局部通風(fēng)設(shè)施應(yīng)單獨(dú)設(shè)置,含六價(jià)鉻工藝的局部通風(fēng)設(shè)施宜單獨(dú)設(shè)置。
c)操作前,應(yīng)打開(kāi)通風(fēng)設(shè)備;停止作業(yè)時(shí),應(yīng)后關(guān)閉通風(fēng)設(shè)備;若通風(fēng)設(shè)備出現(xiàn)故障應(yīng)停止車
間生產(chǎn)。
d)產(chǎn)生酸霧的液面宜放置塑料球、酸霧抑制劑,禁止使用PFOS酸霧抑制劑(采用閉環(huán)技術(shù)的鍍
硬鉻除外)。
e)限制使用濃硝酸進(jìn)行退鍍。
f)廢氣處理設(shè)施產(chǎn)生的廢水應(yīng)排入相應(yīng)含氰廢水、含六價(jià)鉻廢水或者電鍍混合廢水處理設(shè)施處
理并使其滿足GB21900—2008排放限值要求。
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g)廢氣經(jīng)處理后應(yīng)滿足GB21900—2008、GB16297限值要求。
6.2.2酸性廢氣治理技術(shù)
6.2.2.1堿液吸收法
適用于鹽酸、硫酸霧、NOX、氫氟酸等酸性廢氣的治理。吸收液為濃度為5%左右氫氧化鈉溶液。
3
當(dāng)吸收液pH值達(dá)到8~9時(shí),需更換新的吸收液。當(dāng)NOX中NO大于100mg/m時(shí),應(yīng)采用氧化堿液吸收
法處理,即在堿性吸收液吸收之前,采用氧化劑(氯系氧化劑、臭氧或雙氧水等)送入吸收塔的進(jìn)氣
管內(nèi),將部分NO氧化成為NO2后,在堿性吸收液中吸收。經(jīng)處理后滿足GB21900—2008標(biāo)準(zhǔn)限值要
求。吸收塔工藝控制條件見(jiàn)表3。
表3吸收塔工藝控制條件
項(xiàng)目空心噴淋塔填料塔湍球塔篩板塔
空塔速度(m/s)0.5~1.50.5~1.52~61~3.5
液氣比(l/m3)0.6~1.01~10//
噴淋密度(m3/m2·h)/6~820~11012~15
小孔氣速(m/s)///16~22
6.2.2.2網(wǎng)格回收+還原吸收法
適用于鉻酸霧廢氣的治理。網(wǎng)格回收器宜采用菱形網(wǎng)孔,工藝控制條件為:濾網(wǎng)層數(shù)8~12層;風(fēng)
速一般為2~3m/s?;厥蘸蟮你t酸液可供配制槽液使用,回用于生產(chǎn)。經(jīng)格網(wǎng)凝聚回收大部分鉻酸霧
后,應(yīng)采取還原吸收法進(jìn)一步處理,還原劑宜選用亞硫酸氫鈉、亞硫酸鈉、焦亞硫酸鈉等,工藝控制
條件參見(jiàn)6.2.2.1節(jié)。鉻酸霧去除效率一般大于99%。
6.2.3含氰廢氣治理技術(shù)
常采用氧化吸收法處理,吸收液一般為1.5%NaOH+1.5%NaClO溶液、0.1%~0.7%硫酸亞鐵溶液,
工藝控制條件參見(jiàn)6.2.2.1節(jié)。氰化物去除效率一般大于95%。
6.2.4含塵廢氣治理技術(shù)
6.2.4.1袋式除塵技術(shù)
適用于拋/磨光系統(tǒng)產(chǎn)生的顆粒物治理。袋式除塵工程設(shè)計(jì)、施工與安裝、調(diào)試與驗(yàn)收、運(yùn)行與
維護(hù)應(yīng)滿足HJ2020相關(guān)要求。外排廢氣顆粒物濃度低于10mg/m3。
6.2.4.2濕式除塵技術(shù)
適用于拋/磨光系統(tǒng)產(chǎn)生的粒徑1μm以上的顆粒物治理。常見(jiàn)的濕式除塵器包括噴淋塔、填料塔、
篩板塔、濕式水膜除塵器、自激式濕式除塵器和文丘里除塵器等。外排廢氣顆粒物濃度低于30mg/m3。
6.2.5堿性廢氣治理技術(shù)
堿性廢氣可與酸性氣體合并處理,具體參數(shù)見(jiàn)6.2.2.1。
6.3固體廢物污染治理技術(shù)
6.3.1一般原則
a)槽渣、電鍍污泥應(yīng)分質(zhì)貯存,電鍍污泥處理處置前應(yīng)對(duì)本批次污泥進(jìn)行分析,確定其中金屬
元素含量、含鹽量、含水率等指標(biāo)。根據(jù)分析結(jié)果,按照GB/T38066確定其處理處置方法。
b)電鍍污泥中屬于危險(xiǎn)廢物的,接收與處置方應(yīng)按規(guī)定取得相關(guān)資質(zhì),其收集、貯存、運(yùn)輸過(guò)
程應(yīng)滿足HJ2025、GB18597相關(guān)要求。
c)當(dāng)電鍍污泥中銅含量≥1%(干基計(jì))、鎳含量≥1%(干基計(jì))宜選擇回收工藝回收金屬資源,
不宜進(jìn)入水泥窯協(xié)同處置或者填埋處置。
d)采用水泥窯協(xié)同處置或者填埋處置的,應(yīng)滿足GB18598、GB30485、GB30760、HJ662相關(guān)
要求。
9
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6.3.2金屬資源化回收技術(shù)
6.3.2.1火法冶煉回收技術(shù)
適用于含銅、鎳、鋅等重金屬?gòu)U水處理產(chǎn)生的污泥。借助冶煉爐窯的高溫還原氣氛,將電鍍污泥
中的鎳、銅、鋅組分還原成穩(wěn)定的金屬單質(zhì)態(tài)進(jìn)入合金或金屬氧化物的回收技術(shù)。工藝參數(shù)應(yīng)滿足
GB/T33055、GB/T33073、GB/T38101相關(guān)要求。
6.3.2.2濕法冶煉回收技術(shù)
a)氨法浸出技術(shù)
+
適用于含銅、鎳等重金屬?gòu)U水處理產(chǎn)生的污泥??偘睗舛葹?62000mg/L(以NH4計(jì))、氨銨比
為1:2、液固比為4:1、浸出溫度70℃、浸出時(shí)間4h。釆用兩段逆流浸出,銅、鎳浸出率分別可達(dá)
到95%、90%以上。
b)酸法浸出技術(shù)
適用于含銅、鎳等重金屬?gòu)U水處理產(chǎn)生的污泥。采用硫酸或鹽酸浸出電鍍污泥中的銅和鎳,再用
溶劑萃取或碳酸鹽沉淀將銅和鎳分離。工藝參數(shù)應(yīng)滿足GB/T33073、GB/T38101相關(guān)要求。
6.4噪聲污染治理技術(shù)
企業(yè)規(guī)劃布局宜使主要噪聲源遠(yuǎn)離廠界和噪聲敏感點(diǎn)。機(jī)械噪聲可通過(guò)采取減振基礎(chǔ)及在設(shè)備基
礎(chǔ)周圍設(shè)置減振地溝減緩噪聲產(chǎn)生。高噪聲設(shè)備采取隔聲罩、全封閉或設(shè)備間等圍護(hù)結(jié)構(gòu)進(jìn)行隔聲。
風(fēng)機(jī)、空壓機(jī)的空氣動(dòng)力學(xué)噪聲宜在設(shè)備進(jìn)、出口安裝消聲器。通過(guò)相應(yīng)技術(shù)治理后,降噪效果在5~35
dB(A),廠界噪聲滿足GB12348限值要求。
7環(huán)境管理措施
7.1一般原則
a)電鍍企業(yè)應(yīng)設(shè)置專門內(nèi)部環(huán)保機(jī)構(gòu),建立企業(yè)領(lǐng)導(dǎo)、環(huán)境管理部門、車間負(fù)責(zé)人和專職環(huán)保
員組成的企業(yè)環(huán)境管理責(zé)任體系,鼓勵(lì)開(kāi)展環(huán)境管理體系認(rèn)證。
b)持續(xù)開(kāi)展清潔生產(chǎn),嚴(yán)格物料管理,加強(qiáng)鍍液管理,節(jié)約原輔材料用量,減少污染物產(chǎn)生量。
c)根據(jù)HJ855規(guī)定申領(lǐng)排污許可證,并按照要求做好污染防治設(shè)施的運(yùn)行管理、相關(guān)記錄、環(huán)
境管理臺(tái)賬和執(zhí)行報(bào)告編制;根據(jù)HJ985規(guī)定,做好自行監(jiān)測(cè)工作。
d)加強(qiáng)操作運(yùn)行管理,建立并執(zhí)行崗位操作規(guī)程,制定應(yīng)急預(yù)案,定期對(duì)員工進(jìn)行技術(shù)培訓(xùn)和
應(yīng)急演練。
e)做好設(shè)備/設(shè)施防滲、防腐和分區(qū)防控工作,避免污染廠區(qū)土壤和地下水環(huán)境。
f)按照生態(tài)環(huán)境管理部門要求安裝在線監(jiān)控設(shè)備,與生態(tài)環(huán)境管理部門的監(jiān)控設(shè)備聯(lián)網(wǎng),并對(duì)
在線監(jiān)控設(shè)備定期進(jìn)行保養(yǎng)、維護(hù)和校正,保證設(shè)備正常運(yùn)行。
g)按照GB15562.1、GB15562.2要求,規(guī)范設(shè)置排放口、貯存(處置)場(chǎng)標(biāo)志。
7.2回收物料,減少損耗措施
a)工件出鍍槽后進(jìn)入回收槽進(jìn)行清洗,回收大部分鍍液,然后再進(jìn)入流動(dòng)水槽清洗,將回收槽
內(nèi)的洗液補(bǔ)充回鍍槽。
b)在鍍槽、回收槽、清洗槽之間設(shè)置導(dǎo)流板,使工件帶出的鍍液流回槽內(nèi),減少鍍液損失。
c)使用陽(yáng)極籃或其他措施,回收利用陽(yáng)極殘料。
d)電鍍掛具應(yīng)具有可靠的絕緣涂覆層,避免或減少鍍層金屬的沉積,減少損耗。
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7.3污染防治設(shè)施管理措施
a)生產(chǎn)過(guò)程中無(wú)跑冒滴漏現(xiàn)象,車間內(nèi)實(shí)施干濕區(qū)分離,濕區(qū)地面敷設(shè)網(wǎng)格板,濕鍍件上下掛
作業(yè)在濕區(qū)進(jìn)行,濕區(qū)設(shè)一定傾斜度,確保廢水廢液不停留,有效收集。
b)廠區(qū)清污分流、雨污分流,設(shè)置容積滿足要求的初期雨水池,做好初期雨水收集,并安裝pH
計(jì)在線監(jiān)控和設(shè)置雨水切斷裝置,受污染的初期雨水應(yīng)進(jìn)入電鍍廢水處理系統(tǒng)處理。
c)排水、回用水管道應(yīng)明溝明管鋪設(shè),廢水分質(zhì)分流管線設(shè)置明確的標(biāo)識(shí)。
d)電鍍廢水處理設(shè)施應(yīng)采用pH計(jì)、氧化還原電位(ORP)自動(dòng)調(diào)節(jié)控制加藥;設(shè)施的運(yùn)行通過(guò)
功能完善的運(yùn)行中央控制平臺(tái)控制,以全面記錄并實(shí)時(shí)反映運(yùn)行狀況。
e)各污水處理池應(yīng)嚴(yán)格按照防腐、防滲、防沉降的要求進(jìn)行設(shè)計(jì)、建設(shè)。
f)合理設(shè)計(jì)排風(fēng)設(shè)施。對(duì)于槽寬大于800mm的大尺寸槽體宜采用微風(fēng)驅(qū)導(dǎo)式槽邊排風(fēng)裝置,在
達(dá)到排除有害氣體的基礎(chǔ)上,大幅降低排風(fēng)量、減少能耗。
g)廢氣吸收液采用pH計(jì)、ORP等設(shè)備實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)控制、調(diào)節(jié)。
h)排氣筒高度應(yīng)符合規(guī)范要求,在保證安全的前提下,優(yōu)化合并排氣系統(tǒng),減少排氣筒數(shù)量。
7.4電鍍園區(qū)的管理
a)園區(qū)應(yīng)與入園企業(yè)通過(guò)簽訂具有法律效力的書(shū)面合同,共同約定接管水污染物濃度和排水量
限值,并將入園企業(yè)相關(guān)污染物指標(biāo)的自行監(jiān)測(cè)數(shù)據(jù)及時(shí)共享至生態(tài)環(huán)境主管部門,作為環(huán)境監(jiān)督執(zhí)
法的依據(jù)。
b)廢水需進(jìn)行分質(zhì)分流,含氰廢水、含六價(jià)鉻、含鎳、含配位化合物廢水等應(yīng)單獨(dú)收集。設(shè)置
pH計(jì)、電導(dǎo)率、流量等自動(dòng)監(jiān)控設(shè)施,及時(shí)發(fā)現(xiàn)和杜絕入園企業(yè)超約定排放廢水。
c)園區(qū)應(yīng)根據(jù)廢水分質(zhì)情況、地形情況建設(shè)事故應(yīng)急池。
d)鼓勵(lì)園區(qū)建設(shè)再生水設(shè)施和中水回用管網(wǎng),鼓勵(lì)入園企業(yè)回用中水。
e)園區(qū)應(yīng)對(duì)入園企業(yè)廢氣處理設(shè)施運(yùn)行進(jìn)行監(jiān)管,鼓勵(lì)第三方機(jī)構(gòu)運(yùn)營(yíng)入園企業(yè)廢氣處理設(shè)施。
f)鼓勵(lì)園區(qū)建設(shè)集中的化工原材料、危險(xiǎn)化學(xué)品供應(yīng)體系,并做好分類存儲(chǔ)、安全管理及供應(yīng)、
銷售記錄。
g)鼓勵(lì)園區(qū)集中收集、集中貯存入園企業(yè)和園區(qū)集中污水處理設(shè)施產(chǎn)生的危險(xiǎn)廢物,鼓勵(lì)設(shè)置
危險(xiǎn)廢物處理處置中心,實(shí)施資源化、無(wú)害化處理。
8污染防治可行技術(shù)
8.1廢水污染防治可行技術(shù)
8.1.1含氰廢水污染防治可行技術(shù)
含氰廢水污染防治可行技術(shù)見(jiàn)表4。
表4含氰廢水污染防治可行技術(shù)
防治可行污染物排放濃度水平
預(yù)防技術(shù)治理技術(shù)技術(shù)適用條件
技術(shù)(mg/L)
電鍍金、銀、銅基合金及予鍍銅打
無(wú)氰電鍍
1//底工藝除外
堿性氯化處理技術(shù)
無(wú)機(jī)氰化物或氰合金屬基配合物
過(guò)氧化氫氧化處理技術(shù)總氰化物
2/<0.2(鐵氰配合物除外)
臭氧氧化處理技術(shù)
11
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8.1.2含金屬?gòu)U水污染防治可行技術(shù)
含金屬?gòu)U水污染防治可行技術(shù)見(jiàn)表5。
表5含金屬?gòu)U水污染防治可行技術(shù)
防治
污染物排放濃
可行預(yù)防技術(shù)治理技術(shù)技術(shù)適用條件
度水平()
技術(shù)mg/L
化學(xué)還原處理技術(shù)含六價(jià)鉻廢水
電解處理技術(shù)
進(jìn)水六價(jià)鉻<100mg/L
1逆流清洗內(nèi)電解處理技術(shù)
六價(jià)鉻<0.1進(jìn)水六價(jià)鉻(鍍黑鉻
離子交換處理技術(shù)<200mg/L特別排放
總鉻<0.5和含氟化物鍍鉻的廢水除外)
①逆流清洗+②離
鍍鉻工藝(作為酸霧抑制
子交換+③蒸發(fā)濃化學(xué)還原處理技術(shù)PFOS
2劑)含鉻廢水
縮閉環(huán)技術(shù)
①(類)芬頓臭氧
/鋅鎳合金、化學(xué)鎳等含鎳配位
逆流清洗氧化+②化學(xué)沉淀總鎳直接排放
3<0.5化合物廢水
處理技術(shù)
逆流清洗;
4化學(xué)沉淀處理技術(shù)含鎳廢水(離子態(tài))
①逆流清洗+②反
滲透;
進(jìn)水總鎳<200mg/L的含鎳廢
①逆流清洗+②離離子交換處理技術(shù)
5水(離子態(tài))
子交換
①(類)芬頓/臭氧
氧化+②化學(xué)沉淀
+③離子交換處理
技術(shù)總鎳<0.1特別排放
①(類)芬頓/臭氧
氧化+②化學(xué)沉淀鋅鎳合金、化學(xué)鎳等含鎳配位
6逆流清洗
+③反滲透處理技化合物廢水
術(shù)
①(類)芬頓/臭氧
氧化+②化學(xué)沉淀
+③重捕劑處理技
術(shù)
硫化物化學(xué)沉淀處
7酸性硫酸鹽鍍鎘廢水
逆流清洗理技術(shù)總鎘<0.01特別排放
8離子交換處理技術(shù)進(jìn)水總鎘<100mg/L
①逆流清洗+②反
化學(xué)沉淀處理技術(shù)總銀含銀廢水特別排放
9滲透+③電解回收<0.1
10逆流清洗化學(xué)沉淀處理技術(shù)總鉛<0.1含鉛廢水特別排放
①逆流清洗+②反①(類)芬頓臭氧
/化學(xué)鍍銅等含銅配位化合物廢
滲透;氧化+②化學(xué)沉淀總銅直接排放
11<0.5水
①逆流清洗+②反處理技術(shù)
滲透+③電解回收①堿性氯化/過(guò)氧化
;氫氧化臭氧氧化+
/總銅氰化鍍銅廢水特別排放
12①逆流清洗+②離②化學(xué)沉淀處理技<0.3
子交換術(shù)
12
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金屬共沉淀處理技
焦銅廢水
13術(shù)
14化學(xué)沉淀處理技術(shù)酸性鍍銅廢水
氰化鍍銅廢水、焦銅廢水、酸
離子交換處理技術(shù)
15性鍍銅廢水
①(類)芬頓/臭氧
氧化+②化學(xué)沉淀
+③離子交換處理
技術(shù)
①(類)芬頓/臭氧
氧化+②化學(xué)沉淀化學(xué)鍍銅等含銅配位化合物廢
16
+③反滲透處理技水
術(shù)
①(類)芬頓/臭氧
氧化+②化學(xué)沉淀
+③重捕劑處理技
術(shù)
總鋅<1.0含鋅廢水
17逆流清洗化學(xué)沉淀處理技術(shù)總鋁<2.0含鋁廢水特別排放
總鐵<2.0含鐵廢水
8.1.3電鍍混合廢水污染防治可行技術(shù)
電鍍混合廢水污染防治可行技術(shù)見(jiàn)表6。
表6電鍍混合廢水污染防治可行技術(shù)
污染物排放濃度水平(mg/L,pH值除外)技術(shù)
防治可預(yù)防
治理技術(shù)COD氨總總總氰pH懸浮石油適用
行技術(shù)技術(shù)氟化物
氮氮磷化物值物類條件
①化學(xué)氧化還原+②化學(xué)沉淀處間接
1/理技術(shù)<350<35<65<8<0.2////排放
①化學(xué)氧化還原+②化學(xué)沉淀+
③生物處理技術(shù)(序批式活性污直接
2/<80<15<20<1<0.26~9<50<3<10
泥法,A/O、A/A/O,膜生物處理排放
技術(shù))
①化學(xué)氧化還原+②化學(xué)沉淀+
③生物處理技術(shù)(序批式活性污特別
3/<50<8<15<0.5<0.26~9<30<2<10
泥法,A/O、A/A/O,膜生物處理排放
技術(shù))
8.1.4電鍍混合廢水中水回用可行技術(shù)
電鍍混合廢水中水回用可行技術(shù)見(jiàn)表7。
表7電鍍混合廢水中水回用可行技術(shù)
防治可行技術(shù)預(yù)防技術(shù)治理技術(shù)裝置產(chǎn)水電導(dǎo)率(μS/cm)技術(shù)適用條件
1高、低電導(dǎo)率廢反滲透<300進(jìn)水電導(dǎo)率<6000
2水分質(zhì)分流①反滲透+②離子交換<100μS/cm
8.2廢氣污染防治可行技術(shù)
廢氣污染防治可行技術(shù)見(jiàn)表8。
表8廢氣污染防治可行技術(shù)
13
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防治可行污染物排放濃度
預(yù)防技術(shù)治理技術(shù)技術(shù)適用條件
技術(shù)水平(mg/Nm3)
①逆流清洗+②離子交換鍍硬鉻工藝(PFOS作為酸霧抑
①格網(wǎng)凝聚回收+
+③蒸發(fā)濃縮閉環(huán)技術(shù)鉻酸霧制劑)
1②還原吸收<0.05
不含PFOS酸霧抑制劑鍍硬鉻工藝
2/氧化吸收法氰化氫<0.5含氰廢氣
硫酸霧<0.5硫酸霧廢氣
3/堿液吸收法氯化氫<0.5氯化氫廢氣
氟化物<7氟化物廢氣
①氧化+②堿液吸氮氧化物(酸洗槽硝酸濃度
4/氮氧化物<200
收法<500g/L)
8.3固體廢物污染防治可行技術(shù)
固體廢物污染防治可行技術(shù)見(jiàn)表9。
表9固體廢物污染防治可行技術(shù)
防治可行技術(shù)預(yù)防技術(shù)治理技術(shù)技術(shù)適用條件
1污泥脫水、氨法/酸法浸出含鎳(鎳含量>1%)、含銅(銅含量>1%)的
2干燥火法回收技術(shù)電鍍分質(zhì)污泥
8.4噪聲污染防治可行技術(shù)
噪聲污染防治可行技術(shù)見(jiàn)表10。
表10噪聲污染防治可行技術(shù)
防治可行技術(shù)噪聲源治理技術(shù)降噪水平
1設(shè)備廠房隔聲降噪量20dB(A)~35dB(A)
2設(shè)備、泵類隔聲罩降噪量10dB(A)~20dB(A)
3設(shè)備減振降噪量5dB(A)~10dB(A)
4風(fēng)機(jī)消聲器消聲量10dB(A)~25dB(A)
14
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附錄A
(資料性附錄)
典型電鍍生產(chǎn)工藝流程及產(chǎn)污環(huán)節(jié)
圖A.1和圖A.2分別給出了典型塑料電鍍(含化學(xué)鍍)工藝流程及產(chǎn)污環(huán)節(jié)和鋁合金裝飾件典型陽(yáng)
極氧化生產(chǎn)工藝流程及產(chǎn)污環(huán)節(jié)。
G
工件上掛超聲波除蠟?zāi)媪魉椿瘜W(xué)除油熱水洗逆流水洗粗化回收
GWGWWGS
解膠逆流水洗鈀活化預(yù)浸逆流水洗高位水洗還原逆流水洗
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