二次非球面頂點(diǎn)半徑和二次常數(shù)的干涉測(cè)量技術(shù)研究的開(kāi)題報(bào)告

二次非球面頂點(diǎn)半徑和二次常數(shù)的干涉測(cè)量技術(shù)研究的開(kāi)題報(bào)告一、研究背景隨著現(xiàn)代精密光學(xué)制造技術(shù)的迅速發(fā)展，非球面逐漸被廣泛應(yīng)用于各種光學(xué)系統(tǒng)中。然而，對(duì)于二次非球面鏡面的制造和測(cè)量還存在不少技術(shù)難題。其中，二次非球面鏡面的頂點(diǎn)半徑及二次常數(shù)的測(cè)量是非常關(guān)鍵的問(wèn)題之一。目前，尚未有一種能夠高精度、高效率、非接觸、自動(dòng)化的二次非球面頂點(diǎn)半徑和二次常數(shù)的測(cè)量方法。二、研究目的本課題旨在研究一種基于干涉測(cè)量的二次非球面頂點(diǎn)半徑和二次常數(shù)測(cè)量方法，實(shí)現(xiàn)高精度、高效率、非接觸、自動(dòng)化的二次非球面鏡面測(cè)量。三、研究?jī)?nèi)容1.建立二次非球面頂點(diǎn)半徑和二次常數(shù)的數(shù)學(xué)模型。2.設(shè)計(jì)適用于干涉測(cè)量的實(shí)驗(yàn)裝置，并編寫數(shù)據(jù)采集及處理程序。3.研究干涉信號(hào)的特性和測(cè)量誤差分析。4.改進(jìn)干涉測(cè)量方法，提高測(cè)量精度和效率。5.進(jìn)行實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證并分析測(cè)試結(jié)果。四、研究意義本課題的研究成果將有助于解決二次非球面鏡面測(cè)量中的重要技術(shù)難題，促進(jìn)非球面光學(xué)元件的制造和應(yīng)用。同時(shí)，這種基于干涉測(cè)量的方法具有高精度、高效率、非接觸、自動(dòng)化等優(yōu)點(diǎn)，可應(yīng)用于其他光學(xué)元件的測(cè)量領(lǐng)域。五、研究方法本課題將采用理論分析、實(shí)驗(yàn)研究相結(jié)合的方法，先通過(guò)建立二次非球面頂點(diǎn)半徑和二次常數(shù)的數(shù)學(xué)模型進(jìn)行仿真研究，再設(shè)計(jì)適用于干涉測(cè)量的實(shí)驗(yàn)裝置并進(jìn)行實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證。同時(shí)，對(duì)實(shí)驗(yàn)結(jié)果進(jìn)行數(shù)據(jù)分析和處理，進(jìn)一步分析干涉信號(hào)的特性和測(cè)量誤差，提出改進(jìn)干涉測(cè)量方法的方案。六、預(yù)期成果和進(jìn)度安排課題計(jì)劃在3年內(nèi)完成研究工作，預(yù)期實(shí)現(xiàn)以下成果：1.建立二次非球面頂點(diǎn)半徑和二次常數(shù)的數(shù)學(xué)模型。2.設(shè)計(jì)實(shí)用、精度高的干涉測(cè)量裝置。3.完成干涉測(cè)量方法的改進(jìn)與優(yōu)化工作。4.實(shí)現(xiàn)二次非球面頂點(diǎn)半徑和二次常數(shù)的精度測(cè)量，取得預(yù)期的實(shí)驗(yàn)結(jié)果。七、研究團(tuán)隊(duì)與條件本課題的研究團(tuán)隊(duì)由具有較強(qiáng)理論分析和實(shí)驗(yàn)?zāi)芰Φ墓鈱W(xué)專家、制造工藝及自動(dòng)化控制專家組成。同時(shí)，我們擁有充足的實(shí)驗(yàn)室設(shè)備和平臺(tái)，具備開(kāi)展本課題研究所需的條件和環(huán)境。八、研究經(jīng)費(fèi)本課題的研究資金需求約為300萬(wàn)人民幣，主要包括設(shè)備費(fèi)、材料費(fèi)、人員費(fèi)等。其中設(shè)備費(fèi)約占總經(jīng)費(fèi)的50%。九、參考文獻(xiàn)1.楊立新,范煜工,李一菲.基于CCD的球差反演算法在非球面測(cè)量中的應(yīng)用[J].光學(xué)學(xué)報(bào),2001,21(1):65-69.2.ZhangXin,HuangMei-xiu,AiXiao-lin,etal.Studyoninterferometrymeasurementfornon-axisymmetricasphericalsurfaces[J].Optik-InternationalJournalforLightandElectronOptics,2016,127(21):10241-10247.3.YiQiao-feng,BianHao,WangYi-quan,etal.Interferometrictestforsecond-orderasphericsurfaces[J].Optik-Interna