透射電子顯微分析

透射電子顯微分析透射電鏡（TEM）透射電鏡即透射電子顯微鏡（TransmissionElectronMicroscope，簡(jiǎn)稱(chēng)TEM），通常稱(chēng)作電子顯微鏡或電鏡（EM），是使用最為廣泛的一類(lèi)電鏡。第2頁(yè),共34頁(yè)，2024年2月25日，星期天透射電子顯微鏡

JEM-1011透射電子顯微鏡

萊卡超薄切片機(jī)

玻璃刀制作儀第3頁(yè),共34頁(yè)，2024年2月25日，星期天電子顯微分析方法的種類(lèi)透射電子顯微鏡(TEM)可簡(jiǎn)稱(chēng)透射電鏡掃描電子顯微鏡(SEM)可簡(jiǎn)稱(chēng)掃描電鏡電子探針X射線顯微分析儀簡(jiǎn)稱(chēng)電子探針(EPA或EPMA)：波譜儀(波長(zhǎng)色散譜儀，WDS)與能譜儀(能量色散譜儀，EDS)電子激發(fā)俄歇電子能譜(XAES或AES)第4頁(yè),共34頁(yè)，2024年2月25日，星期天透射電子顯微鏡（簡(jiǎn)稱(chēng)透射電鏡，TEM），可以以幾種不同的形式出現(xiàn)，如：高分辨電鏡（HRTEM）透射掃描電鏡（STEM）分析型電鏡（AEM）等等。入射電子束（照明束）也有兩種主要形式：平行束：透射電鏡成像及衍射會(huì)聚束：掃描透射電鏡成像、微分析及微衍射。TEM的形式第5頁(yè),共34頁(yè)，2024年2月25日，星期天第一節(jié)透射電子顯微鏡工作原理及構(gòu)造

一、工作原理成像原理與光學(xué)顯微鏡類(lèi)似。它們的根本不同點(diǎn)在于光學(xué)顯微鏡以可見(jiàn)光作照明束，透射電子顯微鏡則以電子為照明束。在光學(xué)顯微鏡中將可見(jiàn)光聚焦成像的是玻璃透鏡，在電子顯微鏡中相應(yīng)的為磁透鏡。由于電子波長(zhǎng)極短，同時(shí)與物質(zhì)作用遵從布拉格（Bragg）方程，產(chǎn)生衍射現(xiàn)象，使得透射電鏡自身在具有高的像分辨本領(lǐng)的同時(shí)兼有結(jié)構(gòu)分析的功能。第6頁(yè),共34頁(yè)，2024年2月25日，星期天透射電子顯微鏡光路原理圖第7頁(yè),共34頁(yè)，2024年2月25日，星期天二、構(gòu)造

TEM由照明系統(tǒng)、成像系統(tǒng)、記錄系統(tǒng)、真空系統(tǒng)和電器系統(tǒng)組成。第8頁(yè),共34頁(yè)，2024年2月25日，星期天1.電磁透鏡

能使電子束聚焦的裝置稱(chēng)為電子透鏡（electronlens）

靜電透鏡電子透鏡恒磁透鏡磁透鏡

電磁透鏡

第9頁(yè),共34頁(yè)，2024年2月25日，星期天（1）電磁透鏡的結(jié)構(gòu)

電磁透鏡結(jié)構(gòu)示意圖

第10頁(yè),共34頁(yè)，2024年2月25日，星期天（2）電磁透鏡的光學(xué)性質(zhì)

（9-1）式中：u、v與f——物距、像距與焦距。（9-2）式中：V0——電子加速電壓；R——透鏡半徑；NI——激磁線圈安匝數(shù)；A——與透鏡結(jié)構(gòu)有關(guān)的比例常數(shù)。

第11頁(yè),共34頁(yè)，2024年2月25日，星期天成像電子在電磁透鏡磁場(chǎng)中沿螺旋線軌跡運(yùn)動(dòng)，而可見(jiàn)光是以折線形式穿過(guò)玻璃透鏡。因此，電磁透鏡成像時(shí)有一附加的旋轉(zhuǎn)角度，稱(chēng)為磁轉(zhuǎn)角

。物與像的相對(duì)位向?qū)?shí)像為180

，對(duì)虛像為

。電磁透鏡是一種焦距(或放大倍數(shù))可調(diào)的會(huì)聚透鏡。減小激磁電流，可使電磁透鏡磁場(chǎng)強(qiáng)度降低、焦距變長(zhǎng)(由f1變?yōu)閒2）。第12頁(yè),共34頁(yè)，2024年2月25日，星期天（3）電磁透鏡的分辨本領(lǐng)

（9-3）式中：A——常數(shù)；

——照明電子束波長(zhǎng)；Cs——透鏡球差系數(shù)。

r0的典型值約為0.25~0.3nm，高分辨條件下，

r0可達(dá)約0.15nm。

第13頁(yè),共34頁(yè)，2024年2月25日，星期天2.照明系統(tǒng)

作用：提供亮度高、相干性好、束流穩(wěn)定的照明電子束。組成：電子槍和聚光鏡

鎢絲熱電子源電子源LaB6場(chǎng)發(fā)射源第14頁(yè),共34頁(yè)，2024年2月25日，星期天熱電子槍示意圖燈絲和陽(yáng)極間加高壓，柵極偏壓起會(huì)聚電子束的作用，使其形成直徑為d0、會(huì)聚/發(fā)散角為

0的交叉第15頁(yè),共34頁(yè)，2024年2月25日，星期天雙聚光鏡照明系統(tǒng)光路圖

第16頁(yè),共34頁(yè)，2024年2月25日，星期天3.成像系統(tǒng)

由物鏡、中間鏡(1、2個(gè))和投影鏡(1、2個(gè))組成。成像系統(tǒng)的兩個(gè)基本操作是將衍射花樣或圖像投影到熒光屏上。通過(guò)調(diào)整中間鏡的透鏡電流，使中間鏡的物平面與物鏡的背焦面重合，可在熒光屏上得到衍射花樣。若使中間鏡的物平面與物鏡的像平面重合則得到顯微像。透射電鏡分辨率的高低主要取決于物鏡。

第17頁(yè),共34頁(yè)，2024年2月25日，星期天透射電鏡成像系統(tǒng)的兩種基本操作(a)將衍射譜投影到熒光屏(b)將顯微像投影到熒光屏第18頁(yè),共34頁(yè)，2024年2月25日，星期天三、選區(qū)電子衍射

在物鏡像平面上插入選區(qū)光欄實(shí)現(xiàn)選區(qū)衍射的示意圖第19頁(yè),共34頁(yè)，2024年2月25日，星期天選區(qū)衍射操作步驟（1）使選區(qū)光欄以下的透鏡系統(tǒng)聚焦（2）使物鏡精確聚焦（3）獲得衍射譜第20頁(yè),共34頁(yè)，2024年2月25日，星期天第二節(jié)樣品制備

TEM樣品可分為間接樣品和直接樣品。

要求：（1）供TEM分析的樣品必須對(duì)電子束是透明的，通常樣品觀察區(qū)域的厚度以控制在約100~200nm為宜。（2）所制得的樣品還必須具有代表性以真實(shí)反映所分析材料的某些特征。因此，樣品制備時(shí)不可影響這些特征，如已產(chǎn)生影響則必須知道影響的方式和程度。第21頁(yè),共34頁(yè)，2024年2月25日，星期天一、間接樣品(復(fù)型)的制備

對(duì)復(fù)型材料的主要要求：①?gòu)?fù)型材料本身必須是“無(wú)結(jié)構(gòu)”或非晶態(tài)的；②有足夠的強(qiáng)度和剛度，良好的導(dǎo)電、導(dǎo)熱和耐電子束轟擊性能。③復(fù)型材料的分子尺寸應(yīng)盡量小，以利于提高復(fù)型的分辨率，更深入地揭示表面形貌的細(xì)節(jié)特征。常用的復(fù)型材料是非晶碳膜和各種塑料薄膜。第22頁(yè),共34頁(yè)，2024年2月25日，星期天復(fù)型的種類(lèi)按復(fù)型的制備方法，復(fù)型主要分為：一級(jí)復(fù)型二級(jí)復(fù)型萃取復(fù)型（半直接樣品）

第23頁(yè),共34頁(yè)，2024年2月25日，星期天塑料-碳二級(jí)復(fù)型制備過(guò)程示意圖

第24頁(yè),共34頁(yè)，2024年2月25日，星期天萃取復(fù)型第25頁(yè),共34頁(yè)，2024年2月25日，星期天二、直接樣品的制備

1.粉末樣品制備粉末樣品制備的關(guān)鍵是如何將超細(xì)粉的顆粒分散開(kāi)來(lái)，各自獨(dú)立而不團(tuán)聚。膠粉混合法：在干凈玻璃片上滴火棉膠溶液，然后在玻璃片膠液上放少許粉末并攪勻，再將另一玻璃片壓上，兩玻璃片對(duì)研并突然抽開(kāi)，稍候，膜干。用刀片劃成小方格，將玻璃片斜插入水杯中，在水面上下空插，膜片逐漸脫落，用銅網(wǎng)將方形膜撈出，待觀察。支持膜分散粉末法：需TEM分析的粉末顆粒一般都遠(yuǎn)小于銅網(wǎng)小孔，因此要先制備對(duì)電子束透明的支持膜。常用的支持膜有火棉膠膜和碳膜，將支持膜放在銅網(wǎng)上，再把粉末放在膜上送入電鏡分析。第26頁(yè),共34頁(yè)，2024年2月25日，星期天2.晶體薄膜樣品的制備一般程序：(1)初減薄——制備厚度約100~200

m的薄片；(2)從薄片上切取

3mm的圓片；(3)預(yù)減薄——從圓片的一側(cè)或兩則將圓片中心區(qū)域減薄至數(shù)

m；(4)終減薄。第27頁(yè),共34頁(yè)，2024年2月25日，星期天雙噴電解拋光裝置原理圖

第28頁(yè),共34頁(yè)，2024年2月25日，星期天離子減薄裝置原理示意圖第29頁(yè),共34頁(yè)，2024年2月25日，星期天第三節(jié)透射電鏡基本成像操作及像襯度

一、成像操作

成像操作光路圖（a）明場(chǎng)像(b)暗場(chǎng)像(c)中心暗場(chǎng)像第30頁(yè),共34頁(yè)，2024年2月25日，星期天二、像襯度像襯度是圖像上不同區(qū)域間明暗程度的差別。透射電鏡的像襯度來(lái)源于樣品對(duì)入射電子束的散射?？煞譃椋?/p>

質(zhì)厚襯度：非晶樣品襯度的主要來(lái)源振幅襯度

衍射襯度：晶體樣品襯度的主要來(lái)源相位襯度

第31頁(yè),共34頁(yè)，2024年2月25日，星期天質(zhì)厚襯度成像光路圖

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