液質(zhì)AB3500操作規(guī)程

一、開(kāi)關(guān)機(jī)

AA、開(kāi)機(jī)

1.打開(kāi)UPS電源，打開(kāi)氮?dú)獍l(fā)生器（氣瓶），確認(rèn)Curtaingas的輸入

壓力為0.4MPa,gasl/2為0.7MPa,exhuast為0.4MPa。

2.打開(kāi)機(jī)械泵電源開(kāi)關(guān)（5500系列直接打開(kāi)質(zhì)譜主機(jī)電源，儀器自動(dòng)

啟動(dòng)機(jī)械泵）

3.等機(jī)械泵工作至少30min

5.打開(kāi)質(zhì)譜主機(jī)電源開(kāi)關(guān)

6.過(guò)夜抽真空

BB、關(guān)機(jī)

L停止輸液：關(guān)停針泵或液相泵，或斷開(kāi)輸液管線（一般質(zhì)譜主機(jī)

Standby后液相系

統(tǒng)也自動(dòng)待機(jī)，輸液泵自動(dòng)關(guān)停，但建議操作人員再次確認(rèn)，必須保

證沒(méi)有任何液體

再泵入質(zhì)譜）

2.使儀器待機(jī)，并滅活配置

2.關(guān)閉質(zhì)譜儀主機(jī)電源開(kāi)關(guān)（5500系列只需按下電源開(kāi)關(guān)旁的VENT

按鍵排放真空）

3.機(jī)械泵繼續(xù)工作至少30min

4.關(guān)閉機(jī)械泵上的電源開(kāi)關(guān)

5.關(guān)閉氣體發(fā)生器或氣瓶

二.儀器校準(zhǔn)與調(diào)諧

本節(jié)包括如何在Analyst軟件中進(jìn)行手動(dòng)質(zhì)量校準(zhǔn)，一般儀器在開(kāi)

關(guān)機(jī)后才需要做調(diào)諧或每個(gè)季度例行調(diào)諧。

11、打開(kāi)analyst軟件，雙擊HardwareConfigure,在硬件配置

HardwareConfigure菜單下單擊massSpecOnly（只連質(zhì)譜機(jī)），單

擊Activeprofile激活儀器。硬件配置表中massSpecOnly出現(xiàn)綠勾后,

表示質(zhì)譜儀主機(jī)與計(jì)算機(jī)通訊正常，關(guān)閉HardwareConfiguration

Editoro

gE&—looh:<npttHp

囪?以丁Corf>ovreMode,□團(tuán)tert-XM**Dffl

UM>NMIW:youquMn^tbKieLComt>\ArwlytiD?UQIdte

3、雙擊左邊工具菜單NavigationBar中的ManualTuning,打開(kāi)

一個(gè)空白質(zhì)譜參數(shù)設(shè)置及運(yùn)行窗口，進(jìn)入手動(dòng)調(diào)諧模式：

由信O:U，TuneanlCalrtxateMode-fl@?■XIB-Q$

rp%IT'S；P小丹入a

4、在project工具條中選擇installation--開(kāi)頭的項(xiàng)目文件夾

5、點(diǎn)擊Fileopen

ALAnalyst-[TuneMethodEditor]

心FileEditViewAcquireToolsExploreWindowScriptHelp

TuneandCalibrateMode▼Q0[

*SS晶qX歸[T|\-p

Acquire...Start□RampParameter

Source/GasCompoundResolutionDetector

DeclusteringPotential(DP)2oT：f

EntrancePotential(EP)10.0a

CollisionEnergy(CE)

CollisionCellExitPotential(CXP)[^1|

6、選擇AcquisitionMethod打開(kāi)四極桿校準(zhǔn)方法文件列表（如:

QIPosPPG.dam,QINegPPG.dam,Q3PosPPG.dam,Q3NegPPG.dam方

法文件，文件名有可能不同)。

根據(jù)要校準(zhǔn)的目標(biāo)（QI正離子、Q1負(fù)離子、Q3正離子、Q3負(fù)離子）

選擇相應(yīng)的方法打開(kāi)。

Files:

口

API150EX

口

API2000

口

1API3000

1API3200

API4000

UlNegrru.dam

到QIPosPPG.dam

閩Q3NegPPG.dam

匐Q3PosPPG.dam

金］ReserpineMSMS.dam

API5000

LITNegPPG.dam

LITPosPPG.dam

QINegPPG.dam

QIPosPPG.dam

Filesoftype:AcquisitionMethod(x.dam)

Browse...IOK||Cancel

7、該方法會(huì)出現(xiàn)在質(zhì)譜參數(shù)設(shè)置及運(yùn)行窗口：

由昌3Tseand31txMeMode.C@APIInstrument??Xm―舊法

1、P

8、用針泵進(jìn)質(zhì)量校準(zhǔn)溶液，調(diào)離子源噴霧針位置到5mm處。對(duì)于

不同儀器、測(cè)定極性，要用不同的PPG校準(zhǔn)溶液，針泵流速10ul/min

9、采集PPG標(biāo)準(zhǔn)品質(zhì)譜數(shù)據(jù)：在質(zhì)譜參數(shù)設(shè)置及運(yùn)行窗口中點(diǎn)擊

Start,數(shù)據(jù)采集時(shí)在窗口下部出現(xiàn)兩個(gè)實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)圖：左邊TIC（總離

子流圖），右邊質(zhì)譜圖。待采集完成后，點(diǎn)擊

resolution,再點(diǎn)擊advanced,彈出分辨率窗口，再在右邊質(zhì)譜圖中

按鼠標(biāo)右鍵出現(xiàn)一菜

單，選菜單中Openfile：

具條下點(diǎn)擊Calibratefromspectrum按鈕

f。體徨入AV

1)

11>在出現(xiàn)的MassCalibrationOptions窗口中,從Standard下拉菜

單選擇合適的標(biāo)準(zhǔn)品

類型：PPGsPos（正離子）或PPGsNeg（負(fù)離子）；然后點(diǎn)擊

12、儀器校準(zhǔn)

結(jié)果圖中有三欄：上欄顯示此次校準(zhǔn)與理論值的質(zhì)量偏差（mass

shift）,中欄顯示所有PPG校準(zhǔn)峰的半峰寬（分辨率），下欄顯示此

次校準(zhǔn)與上次校準(zhǔn)所有PPG校準(zhǔn)點(diǎn)峰強(qiáng)度變化的百分比。

AA、手動(dòng)調(diào)整分辨率

目標(biāo)是讓每個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)都應(yīng)該落在兩條虛線之間，如果某些PPG峰寬

超出分辨率范圍，應(yīng)進(jìn)行手動(dòng)調(diào)整。

調(diào)整Offset值會(huì)影響分辨率，以中心實(shí)線為基準(zhǔn)，半峰寬偏大的調(diào)

大offset值（考慮正負(fù)），半峰寬偏小的調(diào)小offset值（考慮正負(fù)），

對(duì)Offset值調(diào)整幅度為每次0.003,改變offset值以后按Apply鈕。

關(guān)閉當(dāng)前其他窗口回到采集窗口，重新點(diǎn)擊start采集數(shù)據(jù)（在開(kāi)始

采數(shù)據(jù)時(shí)按Yes確認(rèn)要保存這些修改），重復(fù)9-12步直到所有點(diǎn)的分

辨率合乎分辨率范圍

B、質(zhì)量校正

當(dāng)offset值設(shè)定合適，所有PPG離子的分辨率在倆虛線范圍內(nèi)后,

進(jìn)行最后的質(zhì)量校準(zhǔn)。再采集一次PPG數(shù)據(jù)（重復(fù)9到11步）;在Mass

CalibrationReport按Updatemasscalibration按鈕進(jìn)行更新，軟件

系統(tǒng)會(huì)提示是否用新的校準(zhǔn)曲線替換已存在的校準(zhǔn)曲線，當(dāng)出現(xiàn)提示

時(shí)，回答“YES”

版K刖，g

三.化合物參數(shù)優(yōu)化

本節(jié)描述如何用針泵連續(xù)進(jìn)樣(10ul/min),在ManualTuning窗口下優(yōu)

化化合物參數(shù)。

11、找母離子：QIMS全掃描

A^選擇你的project；雙擊NavigationBar下的Manual--Tuning；

從ScanType下拉菜單中選擇：QIScan(Q1)；選擇極性：Positive(正

離子)、Negative(負(fù)離子)；勾選Center/with選項(xiàng)；設(shè)置采集時(shí)間

Duration:5min；在表格中Center(Da)欄填入待優(yōu)化化合物的分子

量,With(Da)欄填6,Time(sec)填1；左側(cè)Source/Gas項(xiàng)用以下推

薦值:CUR10,5:5500(正離子)或-4500(負(fù)離子),TEMGS115,GS2

0,iheon；Compound項(xiàng)用以下推薦值：DP60,EP10或默認(rèn)值;

t?TineandCalgteMode?flXH-CS

i、P?-金d人

■JF

凰CorA^LreA?MeSun，RgP.Ee?EaFUrrpMSMahod

，Sto^yCa*9?a*onMS

品HMaveCorAgutton7；Carw/Wdh

5RepotTempiMEdtcrl_|P?rwn*?rRang(

ff|TinevMQiMe(1)Q1MSQI)

CurttnGMlCUO

木Ccnpeuid^tmuecnP?nodSumtwy

由*wtn?ner<Oplmtabon??<S0r?yV0to9?(6lj?lot?4>'IDetarTme0tNC)

T?np?rMX*(TIM)

??Score*OMt(QS1>

lDAM?hodmw?MCA

aScoretOM2<O$2>

NAc9Mtl19nhM?d

0MdAcoNtionB?t6Mwtec(HMWTtM)

/ExpioraTeMSotnTtna

(ndudmpauM*,!00?

修OMnOMH*

°OMnConcM^dOeUbMe

匕QuWMe

國(guó)BcMOuMUlnnMethod

<(XarauunWwtf

0R*v?rRe*?iTebt?

檢ConparKnSoftwa>?

署CknecOraoucogoonyMSL

QMMkw?211

m

B、運(yùn)行針泵(lOul/min)，點(diǎn)擊start采集數(shù)據(jù)，待左側(cè)窗口TIC序號(hào)

穩(wěn)定后再繼續(xù)采

集lmin,點(diǎn)擊stop,在TIC圖上按住鼠標(biāo)左鍵托選最后lmin譜圖，

再雙擊選中的譜

圖，在下方彈出窗口記錄目標(biāo)化合物峰的中心對(duì)應(yīng)的橫坐標(biāo)分子量作

為該化合物的準(zhǔn)

確分子量。

2、找子離子：ProductIonScan(MS2)

A、在當(dāng)前方法文件的ScanType下選擇ProductIonScan(MS2)；

去除Center/with選

項(xiàng)；在Productof欄填入上一步找到的母離子的準(zhǔn)確分子量；在表格

中start(Da)欄填50,

stop(Da)欄填入質(zhì)量大于母離子分子量即可，Time(sec)填1；

檢查Source/Gas項(xiàng)是否與Q1掃描時(shí)相同(CAD默認(rèn)值即可)；

Compound項(xiàng)設(shè)定DP60,EP10或默認(rèn)值，CE5,CXP15或默認(rèn)值；

B、點(diǎn)擊start采集數(shù)據(jù)，手動(dòng)調(diào)節(jié)CE值（每次增加5）,直到右側(cè)質(zhì)

譜圖中母離子的信號(hào)約

只有最強(qiáng)碎片離子信號(hào)三分之一左右，再保持繼續(xù)采集lmin,點(diǎn)擊

stop,在左側(cè)TIC圖上按住鼠標(biāo)左鍵托選最后lmin譜圖，再雙擊選中

的譜圖，在下方平均譜圖中記錄兩個(gè)最強(qiáng)的碎片離子分子量。

3、優(yōu)化離子對(duì)參數(shù)：MRM

A、在當(dāng)前方法文件的ScanType下選擇MRM；在表格中Q1欄填母

離子分子量，Q3(Da)欄子離子分子量，Time(msec)填50,ID欄填

化合物名稱(信號(hào)強(qiáng)的離子對(duì)名稱后空格加1,信號(hào)弱的為2),每個(gè)

離子對(duì)填一行；檢查Source/Gas項(xiàng)是否與Q1掃描時(shí)相同(CAD默認(rèn)

值即可);

B、點(diǎn)擊EditRamp鈕，出現(xiàn)以下窗口，在parameter下拉菜單里選

擇DP,用默認(rèn)值，點(diǎn)擊

0K.

C、點(diǎn)擊start開(kāi)始優(yōu)化，在右側(cè)質(zhì)譜圖上記錄峰輪廓最高的位置對(duì)應(yīng)

的橫坐標(biāo)的DP值，填入Compound的DP項(xiàng)。

D、點(diǎn)擊EditRamp鈕，在parameterF拉菜單里選擇CE,用默認(rèn)值,

點(diǎn)擊OK,點(diǎn)擊start開(kāi)始優(yōu)化，采集結(jié)束后在右側(cè)質(zhì)譜圖上按鼠標(biāo)右

鍵并選擇相應(yīng)的離子對(duì)，記錄其峰輪廓最高的位置對(duì)應(yīng)的橫坐標(biāo)的

CE值，再在上方表格內(nèi)點(diǎn)擊鼠標(biāo)右鍵選擇CE單擊，表格中則會(huì)顯示

不同離子對(duì)的CE值一欄，填入剛才記錄的各離子對(duì)的最優(yōu)CE,最后點(diǎn)

擊菜單Filesave即可保持該化合物參數(shù)，填入方法名稱即可.

SaveAcquisitionMethod

四、建立LC--MS方法（以島津液相為例）

1、開(kāi)HPLC電源,將HPLC系統(tǒng)接上柱子，將出口管線與離子源連

好。調(diào)離子源噴霧

針位置到2mm處,雙擊HardwareConfigure,在硬件配置菜單下單擊

4000+LC（液相

與質(zhì)譜聯(lián)用），單擊Activeprofile激活儀器。

2、選擇你的Project；雙擊Buildacquisitionmethod,彈出方法模板。

在模板左側(cè)

點(diǎn)擊acquisitionmethod,模板右邊顯示對(duì)應(yīng)的參數(shù)，確認(rèn)

synchronizationmode選擇

LCSynco

?以。&@X電ClDU，A?)i?reMode?￡5@APIInstrumert-■XGB-[B莊

3、點(diǎn)擊方法模板左側(cè)的MRM,在模板右側(cè)ScanType下選擇MRM；

在polarity下選擇化合物極性：Positive（正離子）、Negative（負(fù)離子）;

Duration處填寫與液相分離相同的時(shí)間；在

表格中Q1欄填母離子分子量，Q3（Da）欄子離子分子量，Time（msec）

填50,ID欄填化合物名稱（信號(hào)強(qiáng)的離子對(duì)名稱后空格加1,信號(hào)弱

的為2）,在表格中右鍵分別點(diǎn)擊DP、EP、CE、CXP,填入之前優(yōu)化

好的DP、CE；最后點(diǎn)擊Editparameter設(shè)置離子源參數(shù)：Source/Gas

項(xiàng)用以下推薦值：CUR25,05500（正離子）或-4500（負(fù)離子），TEM

550,GS155,GS2

55,iheon；

4、點(diǎn)擊模板左邊的shimadzuLCsystem,在右邊的pumps欄下，設(shè)置

pumpingmode為binary

flow,total流速0.2-0.5,泵系統(tǒng)最大壓力；在timeprogram欄下設(shè)置

液相梯度。最后點(diǎn)擊

保存按鈕保存此方法并關(guān)閉方法窗口。

HEitMS?w&cqu*?lookBgioe或7owJcnptWp

由學(xué)。<90￡2QiAoqseMode

；弋，

jBi

Si3k9JVAEquiStonmethod

/SvcutyCorfi^urMcn0A<quuitionMethcd

□BHan]aa?Corfi9jaMn-.lODOOnwrPwnor?0

?PenodlOJXWrrun

5n^KKEdter

.MRM

中TvwmdCjftrMj[$>?n?dzICSyitem

ACcn?owidQ*nM?onTotalHow03000ImL/inr

PIMPAl￡XAO

MiunertOptmzattonPiroBConcl100

Pl?vBLC-20AD

dMw111KmsPunpBCuive0

Pu^Cnena

區(qū)Ac3m

PM>D

OAMrthodYMtm

>BJdAcoMtnnMttPrewireLinesRunpAB)

0Ac^jationBits0

,■'-vr.e「,,，；

?futon

SiOcanDau*

@OpenCanpoLndDatab

LZQutrtM(

8JdQu?tUtonMet

(XaraMr,

(7)RtvwwRMUUT?bi?

&ConMTMnScftwan

曜0?ne<OvDnaoTwhv

>UtQuort211

theHWMyotxii.u?n5bRdccE0:如此"DatoIdleflfl1dle

■AMyW?l^ybWonMtOtod:120

(<MJftequatJooiiHelot*WWxfcwScnptHelp

由X電心DU，AcqsreMode▼.fl?；VB\V?3OX4OJ1S???xH-n

r"4TB&AA*AiflAKTxP

■

jBCorA^rt

/Seci^yCeHv?*on

QBHanteaaeCcrAgmecn

QfRapo*TscM*Edw

咿TvwandCaKxm

AConpotxxlC^onMbon

fHhunmert8tES?n

力ManualLmg

國(guó)恥3(1)

OAMtthodMtctf

>BuMAconoonMd

0BiJdAcOMtnnBatch

Z7Gp”

?EK><O<V

0CoenDMaMe

@OpenConpotrd0Mb

kfOut^M*

&AJQuertUt>onMet

(kxr?t?onMz?d

囪RtvwoRMUI11a

!Comp?rKnScftwax

MNjme>pu:12ggi加?.com8如gidleflgJdte

五、建立采樣列表

1、雙擊Buildacquisitionbatch,在右邊窗口sample項(xiàng)內(nèi)點(diǎn)擊addset,

再點(diǎn)擊add

sample,在彈出的窗口內(nèi)的number（進(jìn)樣樣品數(shù)）處填入需要進(jìn)樣

的樣品個(gè)數(shù)，點(diǎn)

ok

.-|B4*chEtMor[test-NewSitchJ]D0然I

0Ccrfguv

，SeartrCorrf^unAon

SctoctMattedforSap*Set

QBH*4war?C?<onMn

6R?D4?tT?n0M?E*orSetSET!

Tineand3bnC?

入ConpoirdOttnuaacn

19hnuntrtOpanttMnnUwIMvi*M*hxM

<|M?nu4Ti??ig

Mfcaat(?)

十lOAMMhodWMd

.MfonMet

[目MMatonBatch

J￡7EjtxessVew

Q&0ci?

OiOpenDMMa

@OpenCanpar>dD*ab

匕QuorOWe

印B^dQumaonMa

<(XMrtMnnMuni

國(guó)Rene*ReaJtiTable

&CenpmonSc*a??

國(guó)OonwOwmMoorw^

QMAOuvian

|CBn?rf.n^..___

U?nNoney9uq>.??n0?bt<*'comD:\An?t)ni()?*?Qidk91Jdl*

2、在加入的樣品列表內(nèi)依次設(shè)置samplename（樣品名稱）、rackcode

（樣品架類型）、viaposition（樣品瓶的位置）、acquisition下拉菜單

內(nèi)選擇之前建立的LC-MS方法、inj.volunme（進(jìn)樣體積）。

Amiya-{B?tch￡<MOC[teM-New&4Uh]l一————，??一―?b-?———，=&I—J

6E*E<MY>?w&c^??r?nbatonItfndow$cr*t*

3、在quantitation項(xiàng)下，在每個(gè)樣品后的下拉菜單內(nèi)選擇樣品類型,

標(biāo)準(zhǔn)曲線選standard,待測(cè)樣品選unknown。

AAnelyjt-[8?khEiMor[leM-NewB?khD

8EGfYEAcqu*?lookbfiior*%>dowRnpt*p

由學(xué)。昌?電.qu，AgseMede?fl0：????■xIB-nffi

Si3k

/SvcutyCorfi^urMcn

□BHsrtwawCorfigijaecn

5ARKKEdter

中TvwmdCjftrM

ACcn?owidQ*nMeon

fHrttrunert^jttnzabon

dMvK^Tir*ig

區(qū)A?M??<1>

弋GAiod他B

>BirfdAcontionMet

⑶BLMAc^LationBattfi

27C<nw

Abeta*

&OMnOata*

@OpenConpoLTdDtfab

LZQutrtM(

國(guó)&JdQuertUtonMet

弋darttBon他ani

0R*v*wRMUIIT?M

&ConMTMnScftwan

曜OnnecOvDnaoTwbir

Qtudrt111

forHdp.pre?FlScrNameyvgmtgabxieLComD:\AM>y>lDataQMieIdte

4、在submit項(xiàng)下點(diǎn)擊submit按鈕以提交樣品序列。

[_A—MM

AA2y,t逆必EMix:l<el■NE84kM