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文檔簡介
4.5擴(kuò)散熱力學(xué)目的:用化學(xué)勢替代濃度作為廣義的擴(kuò)散驅(qū)動(dòng)力,推導(dǎo)擴(kuò)散方程的廣義形式第四章固體中的擴(kuò)散21.Fick’s定律的普遍形式單個(gè)原子在一維方向驅(qū)動(dòng)力受力作用,原子發(fā)生移動(dòng),其速度與力成正比Bi比例系數(shù)為單位力作用下的速度,稱為遷移率擴(kuò)散通量:第四章固體中的擴(kuò)散2分?jǐn)U散系數(shù)為:熱力學(xué)因子對于雙組分體系吉—杜公式得到:第四章固體中的擴(kuò)散2討論(1)理想固溶體:γi=1
無限稀釋固溶體,γi=a為常數(shù)
f=1,Di°=Bi°kT(2)均勻固溶體的自擴(kuò)散Di*=Bi*kT(3)擴(kuò)散系數(shù)與熱力學(xué)因子的關(guān)系
f>0,下坡擴(kuò)散→形成均勻的固溶體f<0,上坡擴(kuò)散→形成兩相混合物(4)達(dá)肯公式Ag+AuAg+(Au+Au*)50%50%50%50%第四章固體中的擴(kuò)散24.6影響擴(kuò)散系數(shù)的因素
從擴(kuò)散系數(shù)的關(guān)系式可以看到,影響因素有:溫度、組分、結(jié)構(gòu)、原子種類、擴(kuò)散機(jī)制等。(1)溫度與活化能:
lnD=lnD0-Q/RT影響擴(kuò)散活化能的因素:結(jié)構(gòu)、擴(kuò)散方向、擴(kuò)散原子、機(jī)制等擴(kuò)散系數(shù)對溫度非常敏感:固相線附近10-8—10-9(空位),10-5—10-6(間隙),常溫下降很大10-20—10-50(空位)。lnD~1/T作圖為一直線,斜率為-Q/R。實(shí)際上,空位擴(kuò)散有轉(zhuǎn)折。高溫時(shí)為本征擴(kuò)散,即通過本征空位進(jìn)行擴(kuò)散,活化能為△H*+△Hv;低溫為非本征擴(kuò)散,活化能為△H*。lnD1/T第四章固體中的擴(kuò)散2
例如:含微量CaCl2的NaCl晶體中,Na+的自擴(kuò)散系數(shù)D與溫度T的關(guān)系。主要原因是兩種擴(kuò)散活化能不同;彎曲或轉(zhuǎn)折相當(dāng)于從雜質(zhì)控制的非本征擴(kuò)散向本征擴(kuò)散的轉(zhuǎn)化。
高溫
區(qū)為本征擴(kuò)散;低溫區(qū)為非本征擴(kuò)散。第四章固體中的擴(kuò)散2表1NaCl單晶中自擴(kuò)散活化能Patterson等人測定了NaCl單晶中Na+離子和C1-離子的本征與非本征擴(kuò)散系數(shù)以及由實(shí)測值計(jì)算出的擴(kuò)散活化能。第四章固體中的擴(kuò)散2(2)組分的影響達(dá)肯公式俁野公式第三組分影響(Fe-C:Mo、W,D↓,Co,D↑)a)高價(jià)雜質(zhì)形成空位,D↑;
b)非本征擴(kuò)散轉(zhuǎn)變溫度提高;
c)形成化合物,擴(kuò)散系數(shù)↓(3)晶體結(jié)構(gòu)對擴(kuò)散系數(shù)的影響同一材料不同晶型:Dα-Fe/Dγ-Fe=280(910℃)擴(kuò)散方向—各向異性(a和Q不同)固溶體類型第四章固體中的擴(kuò)散2(4)氣氛的影響除了摻雜點(diǎn)缺陷引起非本征擴(kuò)散外,非本征擴(kuò)散亦發(fā)生于一些非化學(xué)計(jì)量氧化物晶體材料中,特別是過渡金屬氧化物。例如FeO、NiO、CoO或MnO等。擴(kuò)散系數(shù)依賴于環(huán)境中的氣氛。①、金屬離子空位
考慮平衡時(shí)[MM·]=2[VM’’],因此非化學(xué)計(jì)量空位濃度[VM’’]:第四章固體中的擴(kuò)散2
將[VM’’]代入式中的空位濃度項(xiàng),則得非化學(xué)計(jì)量空位對金屬離子擴(kuò)散系數(shù)的貢獻(xiàn):
顯然,若溫度不變,對1nDM與lnPO2作圖所得直線斜率為1/6;若氧分壓PO2不變,lnD~1/T作圖,則直線斜率負(fù)值為(ΔHM+ΔH/3)/R。第四章固體中的擴(kuò)散2
右圖為實(shí)驗(yàn)測得氧分壓與CoO中鈷離子擴(kuò)散系數(shù)的關(guān)系圖,斜率為1/6。說明理論分析與實(shí)驗(yàn)結(jié)果是一致的。Co2+的擴(kuò)散系數(shù)與氧分壓的關(guān)系第四章固體中的擴(kuò)散2②、氧離子空位反應(yīng)平衡常數(shù):
以ZrO2-x為例,在高溫下,氧分壓的降低將導(dǎo)致如下缺陷反應(yīng)發(fā)生:電荷平衡時(shí)[e’]=2[Vo’’],非化學(xué)計(jì)量空位對氧離子擴(kuò)散系數(shù)貢獻(xiàn)為:第四章固體中的擴(kuò)散2非化學(xué)計(jì)量氧化物中,除了本征缺陷空位、雜質(zhì)缺陷空位,還有氣氛改變所引起的非化學(xué)計(jì)量空位
對擴(kuò)散系數(shù)的貢獻(xiàn),因此lnD~1/T曲線,含兩個(gè)轉(zhuǎn)折點(diǎn)構(gòu)成。如圖所示:圖中有三條直線段,高溫段與低溫段分別為本征空位和雜質(zhì)空位所致,而中溫段則為非化學(xué)計(jì)量空位所致。在缺氧的氧化物中擴(kuò)散與溫度關(guān)系示意圖第四章固體中的擴(kuò)散24.7.高擴(kuò)散的路徑在晶體中,缺陷集中之地:位錯(cuò)、晶界、及表面等,原子or離子在此擴(kuò)散更快,所以叫短路擴(kuò)散or高擴(kuò)散的路徑。如多晶樣品在低溫時(shí)擴(kuò)散系數(shù)比單晶樣品快,就是由于短路擴(kuò)散引起的。多晶樣品的擴(kuò)散系數(shù)大于單晶樣品的擴(kuò)散系數(shù),由于多晶樣品有晶界的存在。一般:D表面>D晶界>D體
見下頁圖。Why?應(yīng)用:體樣品(單晶、大的晶粒)多晶、薄膜。1/TlnDDpolyDsingal銀單晶與多晶的自擴(kuò)散系數(shù)示意圖第四章固體中的擴(kuò)散2第四章固體中的擴(kuò)散2晶粒大小對晶界擴(kuò)散、體擴(kuò)散的影響晶粒為正方形(L×L),晶界寬度為δ對應(yīng)的體相擴(kuò)散的面積為L2,晶界擴(kuò)散的面積為2δL體相擴(kuò)散通量和晶界擴(kuò)散通量如右式δLL體相晶界相對大小比值第四章固體中的擴(kuò)散2以兩者相對大小為1(貢獻(xiàn)相當(dāng)),對logL~Tm/T作圖例如:按上法作圖,從圖上可以看出:a)當(dāng)T/Tm=1時(shí),熔點(diǎn)附近,L=2μmb)T/Tm=0.6,L=440μm,c)多晶樣品,晶界貢獻(xiàn)大d)L↓,晶界貢獻(xiàn)↑;T↑,體相貢獻(xiàn)↑Tm/TlogL晶界體相第四章固體中的擴(kuò)散24.8形成化合物A+B--→C假設(shè)1)ABC之間不互溶,且C由一個(gè)A和一個(gè)B組成2)反應(yīng)物和產(chǎn)物要致密,接觸良好3)只有一種反應(yīng)產(chǎn)物C4)在等溫下進(jìn)行5)在反應(yīng)層中及在物相界面保持局域穩(wěn)態(tài)6)反應(yīng)截面不變第四章固體中的擴(kuò)散2以化學(xué)勢為梯度:CABμBμoBμoAμAOx對(3)微分由1、2、4得第四章固體中的擴(kuò)散2對(5)進(jìn)行移項(xiàng),積分得:
x2=2LA(μA-μoA)Vct=kt這里L(fēng)A、μA-μoA為常數(shù),生成化合物的厚度符合拋物線規(guī)律。討論:1)金屬的氧化銹蝕反應(yīng)2)固相反應(yīng)3)生成多種化合物第四章固體中的擴(kuò)散21)金屬的氧化銹蝕反應(yīng)
M(S)+n/2X2→MXn反應(yīng)速度遵守什么規(guī)律和以下因素有關(guān):a)金屬種類b)反應(yīng)的時(shí)間階段c)產(chǎn)物的致密程度d)等溫e)相分壓等對于薄層時(shí)(<100nm):有立方規(guī)律、對數(shù)、及拋物線規(guī)律對于厚層時(shí)(>100nm):直線規(guī)律(如表面控制)拋物線規(guī)律(體擴(kuò)散控制)第四章固體中的擴(kuò)散2銹蝕反應(yīng)機(jī)理(a)沒有反應(yīng)時(shí)狀態(tài)(b)標(biāo)記面在金屬的界面處,如Fe1-yO、Cu2-yS等,金屬離子移動(dòng)(c)標(biāo)記面在氣體的界面處,如TiO2-y,氧離子移動(dòng)界面在化合物中,兩種離子都會(huì)移動(dòng)。MX2MX2MX2(a)(b)(c)第四章固體中的擴(kuò)散22)固相反應(yīng)MgO+Al2O3→MgAl2O4Al2O3MgOAl2O3MgOx/43x/43Mg2++4Al2O3→3MgAl2O4+3Mg2++2Al3+MgAl2O4←2Al3++4MgO+第四章固體中的擴(kuò)散23)生成多種化合物Fe中摻碳第四章固體中的擴(kuò)散2二元合金擴(kuò)散不形成兩相混合區(qū)1.在一定的溫度下相律:f=c-p2.?dāng)U散過程進(jìn)行中,系統(tǒng)沒有達(dá)到平衡,f>03.C=2
p<2即存在相數(shù)
p=1原因說法一原因說法二
擴(kuò)散能夠不斷向內(nèi)進(jìn)行,是因?yàn)椴牧蟽?nèi)存在連續(xù)分布的化學(xué)位梯度,如果出現(xiàn)兩相平衡,則此區(qū)域內(nèi)的化學(xué)位梯度為0,擴(kuò)散就不能進(jìn)行,這將與事實(shí)相矛盾。第四章固體中的擴(kuò)散2Fe中摻N第四章固體中的擴(kuò)散24.9離子電解質(zhì)擴(kuò)散離子晶體的缺陷結(jié)構(gòu)(四種類型及補(bǔ)償方式)離子運(yùn)動(dòng)的溫度依賴性本征擴(kuò)散和非本征擴(kuò)散離子擴(kuò)散的微觀機(jī)制
a)機(jī)制:空位、間隙及亞晶格間隙機(jī)制
b)化合物,對應(yīng)的兩套格點(diǎn),兩種離子擴(kuò)散
c)離子擴(kuò)散可以用兩種表示方法:
---電流電學(xué)方法處理
---物質(zhì)物質(zhì)輸運(yùn)處理第四章固體中的擴(kuò)散2電學(xué)公式動(dòng)力學(xué)公式1、動(dòng)力學(xué)公式:第四章固體中的擴(kuò)散22.電學(xué)公式mol為單位第四章固體中的擴(kuò)散23、離子遷移率和遷移數(shù)離子遷移率:μ=Vi/E---單位電場作用下離子的遷移速度遷移率:Bi---單位力作用下速度離子遷移數(shù):ti---離子電導(dǎo)在總電導(dǎo)中占的份數(shù)如YSZ中ti=0.99,即是純的離子導(dǎo)體。>>>>第四章固體中的擴(kuò)散24.相關(guān)因子f’=D*/Dr---相關(guān)因子(系數(shù)),f’≤1D*--示蹤擴(kuò)散系數(shù)(沒有濃度梯度下示蹤原子的擴(kuò)散)Dr---無規(guī)擴(kuò)散,原子的躍遷是獨(dú)立的,與歷史無關(guān)(Dσ--電導(dǎo)擴(kuò)散可以看成為無序擴(kuò)散)。討論a)間隙機(jī)制:f’=1
間隙位置占據(jù)率極低,當(dāng)原子移動(dòng)時(shí),周圍是空的幾率為1,每一步都可以看作是獨(dú)立的,與歷史無關(guān)。b)空位機(jī)制:f’<1
(1)離子運(yùn)動(dòng)總是順著電場方向運(yùn)動(dòng),與歷史無關(guān)。(2)示蹤原子運(yùn)動(dòng)與歷史有關(guān),回跳的幾率最大,也叫記憶效應(yīng),所以D*<Dσ。第四章固體中的擴(kuò)散2擴(kuò)散機(jī)理結(jié)構(gòu)配位數(shù)相關(guān)系數(shù)空位金剛石40.5空位簡單立方60.6531空位體心立方80.7272空位面心立方120.7815空位六方密堆積120.78120.7815(fz)記憶效應(yīng),隨可跳位置越多,回跳的幾率就會(huì)減小,相關(guān)因子f就變大。第四章固體中的擴(kuò)散2雙極擴(kuò)散雙極擴(kuò)散:氧離子從高氧分壓端流向低氧分壓端,而電子擴(kuò)散方向相反,表觀沒有電流產(chǎn)生。擴(kuò)散機(jī)理材料體系
La1-xSrxCo1-yFeyO3-δBa1-xSrxCoO3-δYBa2Cu3O7-δLa2NiO4+δYSZ-AgO2-ePO2(h)PO2(l)雙極擴(kuò)散第四章固體中的擴(kuò)散2擴(kuò)散方程質(zhì)量守恒電荷守恒離子擴(kuò)散方程(3)和(4)代人(2)得第四章固體中的擴(kuò)散2表面反應(yīng):按局域穩(wěn)態(tài)處理(6、7)平衡時(shí):兩表面反應(yīng)相減(5)代人(10)(11)代人(4)第四章固體中的擴(kuò)散2(1)(8)代人(12)當(dāng)膜厚度為L
???表面擴(kuò)散起作用時(shí):L’=L+Lc,這里當(dāng)L遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于Lc時(shí),體相擴(kuò)散控制,反之表面擴(kuò)散控制,當(dāng)兩者相當(dāng)時(shí),兩種都起作用。第四章固體中的擴(kuò)散2討論透氧量與厚度成反比,還與離子、電子電導(dǎo)率及兩邊氧分壓有關(guān);當(dāng)te=1時(shí),雙極擴(kuò)散流量:與氧離子電導(dǎo)率成正比當(dāng)透氧膜的厚度降低到一定的時(shí)候,表面擴(kuò)散就會(huì)起作用:
當(dāng)L>>Lc
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