微影成像制造工程.ppt

微影成像製造工程,指導(dǎo)老師:陳佳雯老師 班級(jí):科管三乙 組別：第一組 組員：49654052陳欣怡 49654095黃昭銘 49654056葉翎柔 49654115林定緯 49654060鄭圓蒓 49654914楊逸群,摘要,緒論 製程與設(shè)備說明 光阻塗佈顯影製程與設(shè)備 對(duì)準(zhǔn)曝光製程與設(shè)備 對(duì)準(zhǔn)測(cè)量製程與設(shè)備 線寬量測(cè)製程與設(shè)備 顯微鏡檢查製程與設(shè)備 應(yīng)用,緒論,晶圓製造中，依其工作內(nèi)容， 可分為三種： 製程整合（Integration） 製造（Manufacturing） 模組（Module）： 黃光、刻蝕、薄膜、擴(kuò)散等模組。,黃光製程與一般照相流程對(duì)照表,晶片 塗底 光阻覆蓋 光罩 對(duì)準(zhǔn)曝光 顯影 圖片檢查,相紙 前處理 感光底片 主角 照相機(jī) 洗相片 毛片檢查,表面處理 上感光物質(zhì) 曝光系統(tǒng) 顯影化學(xué)劑 品質(zhì)檢驗(yàn),微影是什麼?,半導(dǎo)體製程中最關(guān)鍵的技術(shù)之一 半導(dǎo)體製程的基礎(chǔ) 光學(xué)微影為目前廣泛使用的方法之一,製程與設(shè)備說明,光學(xué)微影的程圖,光阻前第一步驟,去水烘烤 微影成像的第一個(gè)步驟，在晶片表面做處理，以增加光阻覆蓋在晶片表面上之附著力。 HMDS之作用類似在晶片表面上一層黏膠，使得晶片和光阻間之附著力能有所改善增加。,1.旋轉(zhuǎn)塗佈光阻,光 阻（Photoresist） 行成圖形種類有兩種，正光阻可得到和光罩相同的圖形；負(fù)光阻可得到互補(bǔ)的圖形。,2.軟烤,熱氣體吹拂 加熱板傳導(dǎo)加熱,3.對(duì)準(zhǔn)與曝光,曝光 利用光能、透過光罩，讓光阻感光，形成圖形的製程。 以下為裝置示意圖,3.對(duì)準(zhǔn)與曝光,曝光時(shí)有兩種機(jī)臺(tái) 步進(jìn)機(jī) 掃描機(jī),3.對(duì)準(zhǔn)與曝光,對(duì)準(zhǔn) 在規(guī)格內(nèi)稱對(duì)準(zhǔn) 在規(guī)格外稱對(duì)準(zhǔn)不良,4.曝後烤,為消除曝光可能遇到的駐波效應(yīng)，使得曝光後的光阻與未曝光的光阻在浸泡顯影液時(shí)能夠有高的蝕刻比。,5.顯影,將光阻曝光後形成的酸性物質(zhì)去除，留下圖形所需要的光阻。,硬烘烤,即為光阻顯影後，進(jìn)行的烘烤製成，烘烤過後光阻較硬，故稱硬烘烤。,低溫烘烤，有曝光缺陷存在,正確溫度烘烤 圖形正常,烘烤溫度過高 圖形變形,重工,即為製成不良，重作該道製程。,顯影過度,第一步驟,第二步驟,第三步驟,對(duì)準(zhǔn)量測(cè)製程與設(shè)備,穩(wěn)定性測(cè)試： 對(duì)同一目標(biāo)，重複測(cè)量幾次，在計(jì)算其標(biāo)準(zhǔn)差，是否達(dá)到穩(wěn)定的狀態(tài)，才能進(jìn)行量測(cè)。 差值校正： 指的是，定期以標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試器進(jìn)行測(cè)量，測(cè)量值於實(shí)際值之差異補(bǔ)償至機(jī)臺(tái)參數(shù)中，確保測(cè)量值與實(shí)際值一樣。,線寬量測(cè)製程與設(shè)備,目前半導(dǎo)體製程已進(jìn)入次微米階段，因此線寬的量測(cè)都從光學(xué)量測(cè)改為電子顯微鏡量測(cè)。,顯微鏡檢查製程與設(shè)備,光阻成像是經(jīng)過許多的化學(xué)反應(yīng)、機(jī)械傳輸及光學(xué)成像而成，在這當(dāng)中如有非預(yù)期的動(dòng)作或異常產(chǎn)生，都可能會(huì)使成像有缺陷，希望透過此流程來把有問題的晶片攔下。,例子應(yīng)用,微型投影輕鬆呈現(xiàn)彩炫世界！ 微型投影應(yīng)用正逐漸成形於智慧型手機(jī)、數(shù)位相機(jī)、筆電、行動(dòng)上網(wǎng)裝置和可攜式數(shù)位錄放影機(jī)等領(lǐng)域。,矽晶注入式雙層光阻應(yīng)用於記憶體 光阻是一種經(jīng)過光線照射後會(huì)變?yōu)榭扇芙饣虿豢扇芙獾墓饷舨牧?，因此能透過後續(xù)的蝕刻製程將所選擇的部份移除。 藉由免除多層光阻製程所需的硬光罩層和相關(guān)製程步驟，此一新光阻可提供一套更符合成本效益的微影製程解決方案。,資料來源,半導(dǎo)體製造技術(shù)與管理，清華大學(xué)出版社 .tw/d901023/page_1-8.htm .tw/m_facture/Nanotech/Web/ch2.htm .tw/dictionary/Optical_Lithography.html .tw/Art/Show2.asp?O=200907071151231459&F=%B7L%BCv&U=ZE .tw/News/ShowNews.asp?O=200712101735330454&F=%B7L%BCv%C0%B3%A5%CE&U=ZE .tw/news/ShowProduct.asp?O=200209241854243671&F=%B7L%BCv%C0%B3%A5%CE&U=ZE .tw/study/proj/proj90/90-11%A5%FA%AA%FD%C1%E1%BD%A4%BE%F7