專利知識—技術(shù)交底書撰寫課件

1、專利知識技術(shù)交底書撰寫課件,1,專利知識 技術(shù)交底書撰寫,2010.10.29,專利知識技術(shù)交底書撰寫課件,2,目錄,技術(shù)交底書概述,技術(shù)交底書撰寫要求,專利知識技術(shù)交底書撰寫課件,3,一、技術(shù)交底書的概念,技術(shù)交底書是發(fā)明人或申請人將自己希望申請專利的發(fā)明創(chuàng)造內(nèi)容以書面形式提交給企業(yè)專利管理部門或?qū)＠頇C構(gòu)的文件，是企業(yè)決定是否提交申請、申請類型和申請地域的依據(jù)，也是專利代理人理解發(fā)明人的發(fā)明構(gòu)思和撰寫申請文件的基本素材。,第一節(jié) 技術(shù)交底書概述,專利知識技術(shù)交底書撰寫課件,4,二、技術(shù)交底書的作用,啟動評審程序 傳遞發(fā)明思想 記載其發(fā)明創(chuàng)造的原始內(nèi)容，闡明該技術(shù)的關(guān)鍵點，通過技術(shù)交底書這

2、個載體，向?qū)＠芾砣藛T和專利代理人傳遞發(fā)明創(chuàng)造的內(nèi)容，使他們能夠基本理解發(fā)明創(chuàng)造的構(gòu)思和所涵蓋的范圍。,專利知識技術(shù)交底書撰寫課件,5,三、技術(shù)交底書的內(nèi)容,背景技術(shù)：與該發(fā)明創(chuàng)造最接近的現(xiàn)有技術(shù)。 來源于專利文獻、非專利文獻（報紙、雜志等）或本領(lǐng)域的公知常識。 2.技術(shù)問題：指申請人所要解決的現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題，其可以是背景技術(shù)中記載的技術(shù)問題，也可以是背景技術(shù)中明確暗示要解決的技術(shù)問題。 該部分應(yīng)當(dāng)指出現(xiàn)有技術(shù)中的缺陷或不足，并有針對性地說明本發(fā)明技術(shù)方案要解決的所有技術(shù)問題，對于本發(fā)明無法解決的缺陷或不足則無需描述。,專利知識技術(shù)交底書撰寫課件,6,3.技術(shù)內(nèi)容：技術(shù)方案的詳細說明。

3、該部分應(yīng)當(dāng)提出解決問題的思路，說明技術(shù)關(guān)鍵點，并至少描述一個具體的技術(shù)解決方案，其描述的具體化程度應(yīng)達到使本領(lǐng)域一般技術(shù)人員按照其內(nèi)容可實現(xiàn)該方案的程度。 4.技術(shù)效果：發(fā)明創(chuàng)造與現(xiàn)有技術(shù)相比所具有的效果。 通常技術(shù)效果可以從以下方面體現(xiàn)：產(chǎn)率、質(zhì)量、精度和效率的提高；能源、原材料、工序的節(jié)省；加工、操作、控制、使用的簡便；環(huán)境污染的治理或根治；新的用途的出現(xiàn)等。 5.還可以包括其他信息 如本發(fā)明是否經(jīng)過實驗、模擬、使用而證明可行，效果如何以及之前曾經(jīng)申請過或公開過的專利文獻、論文資料、技術(shù)規(guī)范手冊等。,專利知識技術(shù)交底書撰寫課件,7,第二節(jié) 技術(shù)交底書撰寫要求,一、總體要求 1.清楚,說明：

4、我國專利法規(guī)定， 發(fā)明創(chuàng)造分為發(fā)明、實用新型與外觀設(shè)計3類，其中外觀設(shè)計一般通過提供照片或圖片的方式揭示相關(guān)設(shè)計，并需要提供簡單說明，而不需要撰寫技術(shù)交底書。 本節(jié)介紹的撰寫要求適用于發(fā)明和實用新型專利申請。,主題明確 用詞準(zhǔn)確,使用技術(shù)術(shù)語 使用中文 說明專有詞匯 使用法定計量單位,專利知識技術(shù)交底書撰寫課件,8,2.完整,結(jié)構(gòu)齊全：應(yīng)當(dāng)包含背景技術(shù)部分、技術(shù)問題部分、技術(shù)內(nèi)容部分、技術(shù)效果部分 及必要的附圖。 手段充分：再現(xiàn)發(fā)明所需的全部內(nèi)容，即為解決技術(shù)問題而采用的技術(shù)方案所需的一切技術(shù)手段。,原則是，凡是所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員不能從現(xiàn)有技術(shù)中直接、唯一地得出的與本發(fā)明有關(guān)的內(nèi)容，均應(yīng)當(dāng)

5、在技術(shù)交底書中描述。,3.能夠?qū)崿F(xiàn),專利知識技術(shù)交底書撰寫課件,9,二、具體要求,別人是怎么做的？,我為什么還要這么做？,我是怎么做的？,我做的有什么好處？,專利知識技術(shù)交底書撰寫課件,10,（一）背景技術(shù),說明“別人是怎么做的?！?1.基本內(nèi)容 （1）現(xiàn)有技術(shù)的技術(shù)方案。 描述最接近的現(xiàn)有技術(shù)，信息可以來源于專利文獻、非專利文獻或本領(lǐng)域的公知常識。 （2）現(xiàn)有技術(shù)的技術(shù)效果。 應(yīng)對申請日前的現(xiàn)有技術(shù)的技術(shù)效果進行描述，記載發(fā)明人所知，且對理解、檢索、審查該申請有參考作用的技術(shù)內(nèi)容。,專利知識技術(shù)交底書撰寫課件,11,2.注意事項 （1）必須介紹最接近的產(chǎn)品或者方法。 不是對該領(lǐng)域的現(xiàn)有技術(shù)進

6、行綜合性描述，而是針對一個或者兩個與本發(fā)明技術(shù)方案最接近的產(chǎn)品或者方法進行介紹。 （2）最好引證最接近的現(xiàn)有技術(shù)文獻。 引用的文件是專利文獻：國別、公開號，最好包括公開日期； 書籍：書名、作者、出版者、版次和頁碼； 期刊：名稱、卷號、期號和頁碼等。 （3）盡量結(jié)合附圖進行說明。 最好結(jié)合一副或幾幅現(xiàn)有技術(shù)的附圖，清晰明白地指出現(xiàn)有技術(shù)的缺點或不足。,專利知識技術(shù)交底書撰寫課件,12,（二）技術(shù)問題,說明“我為什么還要做”。 1.基本內(nèi)容 （1）現(xiàn)有技術(shù)的不足或缺陷?？陀^評價 （2）所要解決的技術(shù)問題。 2.注意事項 （1）可觀之處現(xiàn)有技術(shù)的不足。需要注意的是本發(fā)明創(chuàng)造也未能解決的不足和缺陷，不

7、要提及。 （2）盡量說明缺陷存在的原因。,專利知識技術(shù)交底書撰寫課件,13,（三）技術(shù)內(nèi)容,說明“我是怎么做的”。 1.基本內(nèi)容 （1）解決問題的思路。 應(yīng)說明發(fā)明人對現(xiàn)有缺陷的解決思路、原理。 （2）技術(shù)的關(guān)鍵點。 按重要程度逐條列出本發(fā)明需要保護的關(guān)鍵點。 （3）總體技術(shù)方案。 應(yīng)達到使所屬領(lǐng)域技術(shù)人員按照所述內(nèi)容可重現(xiàn)發(fā)明，而不必再付出創(chuàng)造性或過度的勞動。,專利知識技術(shù)交底書撰寫課件,14,對于設(shè)計產(chǎn)品（包括系統(tǒng)和裝置等）的技術(shù)方案，應(yīng)當(dāng)描述清楚產(chǎn)品的各部分組成，說明組成產(chǎn)品的各部分之間的相互作用關(guān)系。對于可動作的產(chǎn)品，還應(yīng)當(dāng)說明其動作過程或者操作步驟。 對于涉及方法的發(fā)明，應(yīng)當(dāng)寫明其方

8、法進行的過程，描述清楚步驟與步驟之間的作用關(guān)系。 盡可能地圍繞發(fā)明關(guān)鍵點的內(nèi)容詳細說明；對于所屬領(lǐng)域技術(shù)人員按照所述內(nèi)容重現(xiàn)發(fā)明技術(shù)方案所必不可少的內(nèi)容不得省略。 當(dāng)有相關(guān)替代的解決方案時，應(yīng)盡可能地多給出幾個替代方案，除非其他的替代方案對一般技術(shù)人員都是熟知的。 （4）具體實施的例子 包含發(fā)明點和實現(xiàn)發(fā)明的其他技術(shù)內(nèi)容在內(nèi)的完整技術(shù)方案。應(yīng)當(dāng)詳細、具體地描述本領(lǐng)域一般技術(shù)人員實施和再現(xiàn)本發(fā)明所需的一切必要條件，如參數(shù)、材料、設(shè)備以及必要設(shè)備、零件的規(guī)格、型號等，如果其中使用了新物質(zhì)或者自己制備的材料，還應(yīng)當(dāng)說明其制造方法。,專利知識技術(shù)交底書撰寫課件,15,2.注意事項,（1）最好描述工作原

9、理。 在技術(shù)交底書的具體實施方式部分，應(yīng)該描述發(fā)明創(chuàng)造的工作原理。 （2）盡量結(jié)合附圖進行說明。 有附圖時，應(yīng)盡量結(jié)合附圖中部件名稱、序號詳細描述本發(fā)明的工作過程或動作過程，及本發(fā)明由哪幾個部分組成，每個部分由哪些部件組成，各個部件之間的相互位置關(guān)系、連接關(guān)系、配合關(guān)系等。,專利知識技術(shù)交底書撰寫課件,16,（四）技術(shù)效果,說明“我做的有什么好處”。 1.基本內(nèi)容 指由技術(shù)方案直接帶來的，或者是由所述的技術(shù)特征必然產(chǎn)生的技術(shù)效果，是確定發(fā)明是否具有“顯著的進步”的重要依據(jù)。 2.注意事項 （1）逐條列出技術(shù)效果。 應(yīng)逐條列出各個發(fā)明點與現(xiàn)有技術(shù)分別相比所能夠獲得的技術(shù)效果。 （2）盡可能多總結(jié)

10、技術(shù)效果。 包括直接、間接的效果。如提高了產(chǎn)量、質(zhì)量、精度、效率，節(jié)省了能源、原材料，簡化了加工、操作、控制和使用的程序，有利于環(huán)保和環(huán)境污染治理，增加了有用性能，降低了勞動強度等。,專利知識技術(shù)交底書撰寫課件,17,（3）合理說明技術(shù)效果。 不能只斷言發(fā)明具有有益的效果，還需要進行有效的說明。 可以與現(xiàn)有技術(shù)比較進行說明；可以通過對結(jié)構(gòu)特點的分析和理論說明相結(jié)合的方式予以說明；可以通過列出實驗數(shù)據(jù)的方式予以說明。在引用實驗數(shù)據(jù)說明技術(shù)效果時，需要給出必要的實驗條件和方法。,專利知識技術(shù)交底書撰寫課件,18,（五）附圖,1.基本內(nèi)容 可以是工藝流程圖、產(chǎn)品構(gòu)成框圖、產(chǎn)品結(jié)構(gòu)示意圖等。 2.注意

11、事項 （1）必須保證附圖標(biāo)記使用一致。 （2）最好使用制圖工具繪制附圖。,專利知識技術(shù)交底書撰寫課件,19,三、常見問題,（一）背景技術(shù) 1.過于簡單 過于簡單描述現(xiàn)有技術(shù)現(xiàn)狀，或者僅僅給出現(xiàn)有技術(shù)的出處，而沒有對現(xiàn)有技術(shù)的內(nèi)容進行描述。 2.過于復(fù)雜 不僅寫入了具有參考作用的現(xiàn)有技術(shù)，還寫入了與本發(fā)明相差較遠的技術(shù)。 3.將本單位的商業(yè)秘密作為背景技術(shù) 包括了本企業(yè)沒有公開的技術(shù)資料 4.包括了本發(fā)明未解決的技術(shù)問題,專利知識技術(shù)交底書撰寫課件,20,（二）技術(shù)問題,1.未寫明要解決的技術(shù)問題 未直接、具體地寫明或者僅概略地說明，未反映所要解決的具體技術(shù)問題。 2.寫入了過多的要解決的技術(shù)問題 既寫了本發(fā)明創(chuàng)造能解決的技術(shù)問題，又寫了本發(fā)明創(chuàng)造不能解決的技術(shù)問題。,專利知識技術(shù)交底書撰寫課件,21,（三）技術(shù)內(nèi)容,1.技術(shù)方案公開不充分 2.給出的實例不足 3.未寫入必需的現(xiàn)有技術(shù),專利知識技術(shù)交底書撰寫課件,22,（四）技術(shù)效果,1.缺少技術(shù)效果 未寫明或未寫完整技術(shù)效果?；蛘邇H僅斷言有技術(shù)效果