正性光刻膠及5mask簡(jiǎn)介

1、Outline Array 5 mask 簡(jiǎn)介簡(jiǎn)介 Array 4 mask 正型正型PR成成 份介紹份介紹 正型正型PR的的 工作原理工作原理 PR Test 1.Metal 1 (GATE) :鍍上鍍上Mo (鉬鉬)，Al(鋁鋁) 2. G : Gate SiNx (氮矽化合物氮矽化合物，絕緣層絕緣層) I : -Si (非結(jié)晶矽，通道層非結(jié)晶矽，通道層) N : N+ -Si (高濃度磷高濃度磷(PH3)的矽的矽)降低界面電位差降低界面電位差, 使成為歐姆接觸使成為歐姆接觸(ohmic contact) 3. Metal 2 (3. Metal 2 (source,drainsource

2、,drain) ) : :Mo(Mo(鉬鉬),Al),Al 4. Passivation (Via): SiNx，保護(hù)層，保護(hù)層,把金屬蓋住把金屬蓋住,另另 有有Via和和ITO連通連通 5. ITO (畫(huà)素電極畫(huà)素電極) 1 Array 5 mask簡(jiǎn)介簡(jiǎn)介 工藝流程 Photo Resist Thin Film Glass 曝光 Light Photo Mask 剝膜 Thin Film Glass 成膜 Photo Resist 顯影 蝕刻 2021-6-25 UPK(清洗玻璃) M1Suppter(PVD) 涂布,曝光,顯影 Wet etch STP(去光阻) Metal 1 proc

3、ess A B Mo/Al Mo在Al上層 避免Al氧 化 2.38%TMAH Al蝕刻液(磷酸，醋酸，硝酸) Stripper-剝離液：MEA+DMSO(7:3) 2021-6-25 GIN process A B GIN sputter CVD（化學(xué)氣相沉積） Photo(涂布,曝光,顯影) Dry etch STP(去光阻) SF6/Cl2，SiF4，SiCl4 2021-6-25 Metal sputter（Mo/Al/Mo) Photo(涂布,曝光,顯影) WET(M2濕蝕刻) DET(N+蝕刻) STP(去光阻) A B Metal 2 process 2021-6-25 A B

4、CVD SiNx Photo(涂布,曝光,顯影) DET(Pass蝕刻) STP(去光阻) Pass process 2021-6-25 A B ITO sputter (PVD) Photo(涂布,曝光,顯影) WET(ITO濕蝕刻) STP(去光阻) OVN(ITO oven) ITO process 2021-6-25 2 Array 4 mask 2021-6-25 2021-6-25 3 正型正型PR成份介紹成份介紹 定義定義 光刻膠(Photoresist簡(jiǎn)稱PR)又稱光致抗蝕劑，它是一種對(duì)光敏 感的有機(jī)化合物，它受紫外光曝光后，在顯影液中的溶解度會(huì)發(fā) 生變化。 作作用用 a、將掩

5、膜板上的圖形轉(zhuǎn)移到晶圓表面頂層的光刻膠中； b、在后續(xù)工序中，保護(hù)下面的材料（刻蝕或離子注入）。 2021-6-25 成份成份 樹(shù)脂, 20% 感光劑, 5% 溶劑 75% 添加劑, 0% PAC type 成份比例 樹(shù)脂感光劑溶劑添加劑 樹(shù)脂樹(shù)脂 感光劑感光劑 溶劑溶劑 添加劑添加劑 粘附性、膠膜厚度粘附性、膠膜厚度 曝光時(shí)間、光線強(qiáng)度曝光時(shí)間、光線強(qiáng)度 賦予組合物流動(dòng)性賦予組合物流動(dòng)性 如防止如防止PR反射等特性反射等特性 2021-6-25 4 正型正型PR的工作原理的工作原理 Esterification 2021-6-25 UV N2 Wolff 重組 H2O NaOH (CH3)4

6、NOH TMAH 2021-6-25 5 PR Test Test EOP Margin Thermal Stability Film Loss Stripper Test Resoluti -on 涂布 Pre-bake 曝光 顯影 Post-bake Stripper 2021-6-25 EOP Test EOP Test：將光罩上的圖案按1/1比例映射在PR上的光罩能量 2021-6-25 Margin Test Margin Test：不同顯影時(shí)間、軟烤溫度及軟烤時(shí)間下，PR顯影 后的CD變化 2021-6-25 2021-6-25 Thermal Stability Test Thermal Stability Test： post-bask后PR形狀的 變化測(cè)試 2021-6-25 Stripper Test Stripper Test：PR的剝 離時(shí)間 2021-6-25 Resolution Test Resolution Test：能顯影出完整圖