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文檔簡介

1、自1976年開發(fā)出功率mosfet以來,由于半導(dǎo)體工藝技術(shù)的發(fā)展,它的性能不斷提高:如高壓功率 mosfet其工作電壓可達(dá)1000v;低與通電阻mosfet其 阻值 僅lomiq;工作頻率范圍從直流到達(dá)數(shù)兆赫;保護(hù)措施越來越完善;并開發(fā) 出各種 貼片式功率 mosfet (如siliconix最近開發(fā)的厚度為1.5mm“l(fā)ittle foot系列)。另 外,價格也不斷降低,使應(yīng)用越來越廣泛,不少地方取代雙極型晶體管。功率mosfet主要用于計算機(jī)外設(shè) (軟、硬驅(qū)動器、打印機(jī)、繪圖機(jī))、電 源(ac/dc變換器、dc/dc變換器)、汽車電子、音響電路及儀器、儀表等領(lǐng) 域。本文將介紹功率mosfe

2、t的結(jié)構(gòu)、工作原理及基本工作電路。什么是mosfet“mosfet 是英文 metaloxide semicoductor field effect transistor 的縮 寫,譯成中文是金屬氧化物半導(dǎo)體 場效應(yīng)管”。它是由金屬、氧化物 (sio2或 sin)及 半導(dǎo)體三種材料制成的器件。所謂功率mosfet (power mosfet )是指它能輸出較大的工作電流(幾安到幾十安),用于功率輸出級的器件。mosfet的結(jié)構(gòu)圖1是典型平面n溝道增強(qiáng)型mosfet的剖面圖。它用一塊p型硅半與體 材 料作襯底(圖la),在其面上擴(kuò)散了兩個n型區(qū)(圖lb),再在上面覆蓋一層二氧 化硅(siq2)絕

3、緣層(圖lc),最后在n區(qū)上方用腐蝕的方法做成兩個孔,用金屬 化 的方法分別在絕緣層上及兩個孔內(nèi)做成三個電極:g (柵極)、s (源極)及d(漏極),如圖1d所示。bnckdipqhlll從圖1中可以看出柵極g與漏極d及源極s是絕緣的,d與s之間有兩個pn結(jié)。一般情況下,襯底與源極在內(nèi)部連接在一起。圖1是n溝道增強(qiáng)型mosfet的基本結(jié)構(gòu)圖。為了改善某些參數(shù)的特性,如提高工作電流、提高工作電壓、降低導(dǎo)通電阻、提高開關(guān)特性等有不同的結(jié)構(gòu)及工藝,構(gòu)成所謂vmos、dmos、tmos等結(jié)構(gòu)。圖2是一種n溝道增強(qiáng)型功率 mosfet的結(jié)構(gòu)圖。雖然有不同的結(jié)構(gòu),但其工作原理是相同的,這里就不一一介紹了。

4、mosfet的工作原理要使增強(qiáng)型n溝道m(xù)osfet工作,要在g、s之間加正電壓 vgs及在d、s 之間加正電壓vds,則產(chǎn)生正向工作 電流id。改變vgs的電壓可控制工作 電 掩 id。如圖3所示(上面t)。若先不接vgs (即vgs = 0),在d與s極之間加一正電壓 vds,漏極d與 襯底之間的pn結(jié)處于反向,因此漏源之間不能導(dǎo)電。如果在柵極g與源極s之間加一電壓vgs。此時可以將柵極與襯底看作 電容器的兩個極板,而氧化物 絕 緣層作為電容器的介質(zhì)。當(dāng)加上 vgs時,在絕緣層和柵極界面上感應(yīng)出正電 荷,而 在絕緣層和p型襯底界面上感應(yīng)出負(fù)電荷 (如圖3) o這層感應(yīng)的負(fù)電荷和 p型襯 底中

5、的多數(shù)載流子(空穴)的極性相反,所以稱為反型層”這反型層有可能將漏與 源的兩n型區(qū)連接起來形成與電溝道。當(dāng) vgs電壓太低時,感應(yīng)出來 的負(fù)電荷較 少,它將被p型襯底中的空穴中和,因此在這種情況時,漏源之間仍然無電流id。當(dāng)vgs增加到一定值時,其感應(yīng)的負(fù)電荷把兩個分離的n區(qū)溝通 形成n溝道,這個臨界電壓稱為開啟電壓 (或稱閾值電壓、門限電壓),用符號v t表示(一般規(guī) 定在id = 10ua時的vgs作為vt)。當(dāng)vgs繼續(xù)增大,負(fù)電荷增 力口,與電溝道擴(kuò) 大,電阻降低,id也隨之增加,并且呈較好線性關(guān)系,如圖 4所示。此曲線稱為轉(zhuǎn) 換特性。因此在一定范圍內(nèi)可以認(rèn)為,改變vgs來控制漏源之間

6、的電阻,達(dá)到控制id的作用。由于這種結(jié)構(gòu)在 vgs = 0時,id = 0,稱這種mosfet為增強(qiáng)型。另一類 mosfet,在vgs = 0時也有一定的id (稱為idss),這種mosfet稱為耗盡型。它的結(jié)構(gòu)如圖5所示,它的轉(zhuǎn)移特性如圖6所示。vp為夾斷電壓(id = 0)。耗盡型與增強(qiáng)型主要區(qū)別是在制造 sio2絕緣層中有大量的正離子,使在 p型 襯底的界面上感應(yīng)出較多的負(fù)電荷,即在兩個n型區(qū)中間的p型硅內(nèi)形成一n型硅薄層而形成一號電溝道,所以在 vgs = 0時,有vds作用時也有一定的id (idss);當(dāng)vgs有電壓時(可以是正電壓或負(fù)電壓),改變感應(yīng)的負(fù)電荷數(shù)量,從而改變id的

7、大/除了上述采用p型硅作襯底形成 用n型硅作襯底形成p型與電溝道的vp為id = 0時的-vgs ,稱為夾斷電壓。n型與電溝道的 n溝道m(xù)osfet夕卜,也可p溝道m(xù)osfet。這樣,mosfet的分類耗盡型:n溝道(圖7a) ; p溝道(圖c);增強(qiáng)型:n溝道(圖b) ; p溝道(圖d)為防止mosfet接電感負(fù)載時,在截止瞬間產(chǎn)生感應(yīng)電壓與電源電壓之和擊穿mosfet ,一般功率mosfet在漏極與源極之間內(nèi)接一個快速恢復(fù) 二極管,如圖8所示功率mosfet的特點(diǎn)功率mosfet與雙極型功率相比具有如下特點(diǎn):1. mosfet是電壓控制型器件(雙極型是電流控制型器件),因此在驅(qū)動大 電流時

8、無需推動級,電路較簡單;2?輸入阻抗高,可達(dá) 108 q以上;3?工作頻率范圍寬,開關(guān)速度高(開關(guān)時間為幾十納秒到幾百納秒),開關(guān)損耗??;4 .有較優(yōu)良的線性區(qū),并且 mosfet的輸入電容比雙極型的輸入電容小得多,所以它的交流輸入阻抗極高;噪聲也小,最合適制作 hi-fi音響;5?功率mosfet可以多個并聯(lián)使用,增加輸出 電流而無需均流電阻。典型 應(yīng)用電路1 ?電池反接保護(hù)電路電池反接保護(hù)電路如圖9所示。一般防止電池接反損壞電路采用串接二極 管的方法,在電池接反時,pn結(jié)反接無電壓降,但在正常工 作時有0.6? 0.7v的管 壓降。采用與通電阻低的增強(qiáng)型 n溝道m(xù)osfet具有極小的管壓降(rds (o n) xid),如si9410dy的rds (on)約為0.04莒則在ia時約為0.04v。這時 要 注意在電池正確安裝時,id并非完全通過管內(nèi)的二極管,而是在 vg95v時, n導(dǎo)電溝道暢通(它相當(dāng)于一個極小的電阻)而大部分電流是從s流向d的(id為 負(fù))。而當(dāng)電池裝反時,mosfet不通,電路得以保護(hù)。5 .觸摸調(diào)光電路一種簡單的觸摸調(diào)光電路如圖10。當(dāng)手指觸摸上觸頭時,電容經(jīng)手指電阻 及100k充電,vgs漸增大,燈漸亮;當(dāng)觸摸下觸頭時,電容經(jīng)100k及手指電阻放電,燈漸暗到滅。6 .甲類功率放大電路由r1、r2建立vgs靜態(tài)工作點(diǎn)(此時有一定的id流過)。當(dāng)音

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